一種噴涂系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供一種噴涂系統(tǒng)，涉及電子器件的噴涂【技術(shù)領(lǐng)域】，可實(shí)現(xiàn)對設(shè)定區(qū)域的準(zhǔn)確地噴涂液體，避免了對相鄰區(qū)域的影響，提高了噴涂工藝中各項(xiàng)參數(shù)的準(zhǔn)確性。該噴涂系統(tǒng)包括用于承載基板的承載臺，還包括位于所述承載臺的臺面上平行設(shè)置的兩個導(dǎo)軌；所述導(dǎo)軌上設(shè)置有第一坐標(biāo)；可沿所述兩個導(dǎo)軌滑動的至少一個滑動桿，且所述滑動桿與所述導(dǎo)軌呈垂直設(shè)置；所述滑動桿上設(shè)置有第二坐標(biāo)；可沿所述滑動桿滑動的至少一個噴頭；所述噴頭設(shè)置有向所述基板排出液體的噴嘴。用于噴涂系統(tǒng)的制備。
【專利說明】一種噴涂系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子器件的噴涂【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種噴涂系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]在電子器件制備的光刻技術(shù)中，常涉及在物體(例如需要構(gòu)圖的基板)表面噴涂光阻劑、并對光阻劑進(jìn)行曝光、顯影的過程，從而獲得具有特定圖案的光阻劑層。
[0003]其中，在光阻劑的噴涂階段為了保證待構(gòu)圖基板光刻工藝的連續(xù)性，噴涂系統(tǒng)通常采用以下的工作模式:
[0004]如圖1所示，噴頭50在馬達(dá)等驅(qū)動裝置的帶動下從基板10的一端移動到另一端(如圖中箭頭方向所示)，同時，噴頭50內(nèi)填充的光阻劑(即行業(yè)內(nèi)俗稱的光刻膠)通過噴頭下方的噴嘴501排向基板，從而完成光阻劑的噴涂。
[0005]在利用現(xiàn)有技術(shù)的噴涂系統(tǒng)進(jìn)行光阻劑的噴涂過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:
[0006]在一些研發(fā)試驗(yàn)或?qū)?gòu)圖工藝有特別要求的工藝中，當(dāng)需要噴頭移動到某些設(shè)定的區(qū)域以進(jìn)行光阻劑的噴涂/去除時，由于噴頭難以精確地移動到該區(qū)域，容易對與該設(shè)定區(qū)域相鄰的其他區(qū)域產(chǎn)生破壞，例如去除掉相鄰區(qū)域內(nèi)的光阻劑，或?qū)Σ恍枰^續(xù)噴涂光阻劑的相鄰區(qū)域進(jìn)行了二次噴涂，導(dǎo)致噴涂工藝各項(xiàng)參數(shù)準(zhǔn)確性的降低，從而影響研發(fā)試驗(yàn)的效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]鑒于此，為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種噴涂系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)對設(shè)定區(qū)域的準(zhǔn)確地噴涂液體，避免了對相鄰區(qū)域的影響，提高了噴涂工藝中各項(xiàng)參數(shù)的準(zhǔn)確性。
[0008]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0009]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種噴涂系統(tǒng)，所述噴涂系統(tǒng)包括用于承載基板的承載臺，還包括，位于所述承載臺的臺面上平行設(shè)置的兩個導(dǎo)軌；所述導(dǎo)軌上設(shè)置有第一坐標(biāo)；可沿所述兩個導(dǎo)軌滑動的至少一個滑動桿，且所述滑動桿與所述導(dǎo)軌呈垂直設(shè)置；所述滑動桿上設(shè)置有第二坐標(biāo)；可沿所述滑動桿滑動的至少一個噴頭；所述噴頭設(shè)置有向所述基板排出液體的噴嘴。
[0010]可選的，所述滑動桿上設(shè)置有兩個開口方向相同的凹槽；所述滑動桿通過所述凹槽放置在所述兩個導(dǎo)軌上；其中，所述凹槽的深度小于所述導(dǎo)軌的高度；所述凹槽的內(nèi)徑大于所述導(dǎo)軌的寬度。
[0011]可選的，所述導(dǎo)軌包括導(dǎo)軌主體、位于所述導(dǎo)軌主體兩端的導(dǎo)軌基座；其中，所述導(dǎo)軌主體平行于所述臺面；所述導(dǎo)軌基座垂直于所述臺面；所述滑動桿上設(shè)置有兩個通孔；所述滑動桿通過所述兩個通孔分別套在所述兩個導(dǎo)軌上；其中，所述通孔的截面積大于所述導(dǎo)軌主體的截面積。
[0012]優(yōu)選的，所述噴涂系統(tǒng)還包括驅(qū)動所述滑動桿滑動的第一驅(qū)動裝置。
[0013]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述噴涂系統(tǒng)還包括控制所述第一驅(qū)動裝置的第一控制器。
[0014]可選的，所述滑動桿遠(yuǎn)離所述承載臺的一面上設(shè)置有可沿所述滑動桿滑動的至少一個滑塊；所述噴頭固定在所述滑塊上。
[0015]優(yōu)選的，所述噴涂系統(tǒng)還包括驅(qū)動所述噴頭滑動的第二驅(qū)動裝置。
[0016]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述噴涂系統(tǒng)還包括控制所述第二驅(qū)動裝置的第二控制器。
[0017]在上述基礎(chǔ)上可選的，所述噴涂系統(tǒng)還包括分別與所述噴頭相連的第一管路和第二管路；其中，所述第一管路中填充有光阻劑；所述第二管路中填充有光阻去除劑。
[0018]優(yōu)選的，所述滑動桿的數(shù)量為2個；其中，每個所述滑動桿上設(shè)置有I個所述噴頭。
[0019]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述噴涂系統(tǒng)中，由于所述滑動桿可沿所述兩個導(dǎo)軌進(jìn)行往復(fù)的滑動，所述噴頭也可沿所述滑動桿進(jìn)行往復(fù)的滑動，即所述噴頭可滑動至所述基板上方的任一點(diǎn)處；同時，所述導(dǎo)軌上設(shè)置的所述第一坐標(biāo)與所述滑動桿上設(shè)置的所述第二坐標(biāo)構(gòu)成了一個平面直角坐標(biāo)系，因此，當(dāng)需要對所述基板上的設(shè)定區(qū)域進(jìn)行液體噴涂時，可通過上述的平面直角坐標(biāo)系對該區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)的定位，并將所述噴頭移動至該區(qū)域的上方，因此對該區(qū)域進(jìn)行的噴涂液體的操作不會影響到與該區(qū)域相鄰的其他區(qū)域，避免了對相鄰區(qū)域的影響，保證了噴涂工藝中各項(xiàng)參數(shù)的準(zhǔn)確性，提高了研發(fā)試驗(yàn)的效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0021]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的噴涂系統(tǒng)及其工作原理示意圖；
[0022]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種噴涂系統(tǒng)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0023]圖3為圖2中A-A'方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0024]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種噴涂系統(tǒng)沿滑動桿滑動方向的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖
[0025]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種噴涂系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0026]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種噴涂系統(tǒng)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖二。
[0027]【專利附圖】

【附圖說明】:
[0028]01-噴涂系統(tǒng)；10-基板；20-承載臺；201-臺面；202~支撐針;30_導(dǎo)軌;300_導(dǎo)軌主體；301_第一坐標(biāo)；302_導(dǎo)軌基座；40_滑動桿；401_第二坐標(biāo)；402_凹槽；403_通孔；50-噴頭;501_噴嘴。

【具體實(shí)施方式】
[0029]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0030]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種噴涂系統(tǒng)01，如圖2所示，所述噴涂系統(tǒng)01包括用于承載基板10的承載臺20 (圖2中未標(biāo)不出)，所述嗔涂系統(tǒng)01還包括以下結(jié)構(gòu):
[0031]位于所述承載臺20的臺面201上平行設(shè)置的兩個導(dǎo)軌30 ;所述導(dǎo)軌30上設(shè)置有第一坐標(biāo)301 ;可沿所述兩個導(dǎo)軌30滑動的至少一個滑動桿40，且所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30呈垂直設(shè)置；所述滑動桿40上設(shè)置有第二坐標(biāo)401 ;可沿所述滑動桿40滑動的至少一個噴頭50 ;所述噴頭50設(shè)置有向所述基板10排出液體的噴嘴501 (圖2中未標(biāo)不出)。
[0032]需要說明的是，第一、對所述兩個導(dǎo)軌30之間的間距不作限定，可根據(jù)需要進(jìn)行光阻劑的噴涂和/或去除操作的所述基板10的尺寸靈活調(diào)整，以使所述基板10落在所述兩個導(dǎo)軌30之間即可。
[0033]此外，圖2中僅示意出所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30呈垂直設(shè)置，二者之間的上下位置關(guān)系不作限定。
[0034]第二、由于所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30呈垂直設(shè)置，因此，所述第一坐標(biāo)301與所述第二坐標(biāo)401相當(dāng)于構(gòu)成了一個由X軸和Y軸組成的平面直角坐標(biāo)系，通過對落在所述兩個導(dǎo)軌30之間的所述基板10上的各個區(qū)域的定位，即可將所述噴頭50移動至設(shè)定區(qū)域的上方，從而向設(shè)定區(qū)域排出液體，完成設(shè)定的操作。
[0035]其中，所述第一坐標(biāo)301與所述第二坐標(biāo)401的重疊部分即可標(biāo)記為二者構(gòu)成的平面直角坐標(biāo)系的原點(diǎn)(標(biāo)記為O)。
[0036]此處，所述導(dǎo)軌30上的所述第一坐標(biāo)301與所述滑動桿40上的所述第二坐標(biāo)401的單位長度可相等也可不等。為了簡便起見，可將所述導(dǎo)軌30、所述滑動桿40進(jìn)行相同數(shù)量的等分。
[0037]第三、通過所述噴頭50向所述基板10排出的液體可以為光阻劑，如正性光阻劑/負(fù)性光阻劑；也可以為去除光阻劑的光阻去除劑，如氫氧化鉀(KOH)/丙二醇甲醚醋酸酯(縮寫為PMA)/四甲基氫氧化銨(縮寫為TMAH)等，當(dāng)然，根據(jù)工藝設(shè)定的需要，上述排出的液體還可以是其他工藝試劑。
[0038]第四、對所述承載臺20不作限定，例如可以是一般用于承置物體以對物體表面進(jìn)行加工的部件。
[0039]此處，考慮到在電子器件的制備領(lǐng)域中，廣泛采用機(jī)械手裝置來傳輸基板等平板部件，因此，所述承載臺20還可以是機(jī)械手裝置中用于承置所述基板10而延伸出的手臂部分。
[0040]在此情況下，如圖3所示，可通過機(jī)械手的手臂部分與所述基板10相接觸的面(即所述承載臺20的臺面201)上可伸縮的支撐針202，來精準(zhǔn)地定位所述基板10在所述第一坐標(biāo)301與所述第二坐標(biāo)401構(gòu)成的平面直角坐標(biāo)系中的位置；并且，當(dāng)所述支撐針202與所述基板10相接觸后，可使支撐針202自動落回到手臂的內(nèi)部，通過相應(yīng)的抽真空設(shè)備，使所述基板10與所述臺面201緊密地接觸在一起，從而使后續(xù)的噴涂工藝的各項(xiàng)參數(shù)更為精準(zhǔn)。
[0041]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種噴涂系統(tǒng)01，所述噴涂系統(tǒng)01包括用于承載基板10的承載臺20 ;位于所述承載臺20的臺面201上平行設(shè)置的兩個導(dǎo)軌30 ;所述導(dǎo)軌30上設(shè)置有第一坐標(biāo)301 ;可沿所述兩個導(dǎo)軌30滑動的至少一個滑動桿40，且所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30呈垂直設(shè)置；所述滑動桿40上設(shè)置有第二坐標(biāo)401 ;可沿所述滑動桿40滑動的至少一個噴頭50 ;所述噴頭50設(shè)置有向所述基板10排出液體的噴嘴501。
[0042]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述噴涂系統(tǒng)01中，由于所述滑動桿40可沿所述兩個導(dǎo)軌30進(jìn)行往復(fù)的滑動，所述噴頭50也可沿所述滑動桿40進(jìn)行往復(fù)的滑動，即所述噴頭50可滑動至所述基板10上方的任一點(diǎn)處；同時，所述導(dǎo)軌30上設(shè)置的所述第一坐標(biāo)301與所述滑動桿40上設(shè)置的所述第二坐標(biāo)401構(gòu)成了一個平面直角坐標(biāo)系，因此，當(dāng)需要對所述基板10上的設(shè)定區(qū)域進(jìn)行液體噴涂時，可通過上述的平面直角坐標(biāo)系對該區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)的定位，并將所述噴頭50移動至該區(qū)域的上方，因此對該區(qū)域進(jìn)行的噴涂液體的操作不會影響到與該區(qū)域相鄰的其他區(qū)域，避免了對相鄰區(qū)域的影響，保證了噴涂工藝中各項(xiàng)參數(shù)的準(zhǔn)確性，提高了研發(fā)試驗(yàn)的效果。
[0043]在上述基礎(chǔ)上，所述滑動桿40與所述兩個導(dǎo)軌30之間相對滑動的方式可參考例如以下兩種方式:
[0044]方式一:如圖4所示，所述滑動桿40上設(shè)置有兩個開口方向相同的凹槽402 ;所述滑動桿40通過所述凹槽402放置在所述兩個導(dǎo)軌30上。
[0045]其中，為了減小所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30之間滑動的阻力，所述凹槽402的深度(圖中標(biāo)記為h4(l2)小于所述導(dǎo)軌的高度(圖中標(biāo)記為h3(l)，同時，所述凹槽402的內(nèi)徑(圖中標(biāo)記為W4tl2)大于所述導(dǎo)軌的寬度(圖中標(biāo)記為W3tl)。
[0046]方式二、如圖5所示,所述導(dǎo)軌30 (圖中未標(biāo)示出)包括導(dǎo)軌主體300、位于所述導(dǎo)軌主體300兩端的導(dǎo)軌基座302 ;其中，所述導(dǎo)軌主體300平行于所述臺面201 ;所述導(dǎo)軌基座302垂直于所述臺面201。
[0047]進(jìn)一步參考圖5中虛線部分的放大示意圖，所述滑動桿40上設(shè)置有兩個通孔403 ；所述滑動桿40通過所述兩個通孔403分別套在所述兩個導(dǎo)軌30 (圖中未標(biāo)示出)上。
[0048]其中，為了減小所述滑動桿40與所述導(dǎo)軌30之間滑動的阻力，所述通孔403的截面積大于所述導(dǎo)軌主體300的截面積。
[0049]進(jìn)一步的，所述噴涂系統(tǒng)01還包括驅(qū)動所述滑動桿40滑動的第一驅(qū)動裝置，從而可以實(shí)現(xiàn)所述滑動桿40的自動滑動，無需手動操控其移動，提高了所述噴涂系統(tǒng)01的移動精準(zhǔn)度和工作效率。
[0050]在此基礎(chǔ)上，所述噴涂系統(tǒng)01還包括控制所述第一驅(qū)動裝置的第一控制器。
[0051]其中，所述第一控制器例如可以是可編程邏輯控制器(Programmable LogicController，簡稱PLC)，這樣，可以將所述基板10上需要進(jìn)行光阻劑的噴涂/去除區(qū)域的坐標(biāo)信息由相應(yīng)的程序輸入至所述第一控制器中，從而使所述滑動桿40更為精確地移動至設(shè)定的區(qū)域。
[0052]在上述基礎(chǔ)上，所述噴頭50與所述滑動桿40之間相對滑動的方式可參考以下方式:
[0053]所述滑動桿40遠(yuǎn)離所述承載臺20的一面上設(shè)置有可沿所述滑動桿40滑動的至少一個滑塊；所述噴頭50固定在所述滑塊上。
[0054]進(jìn)一步的，所述噴涂系統(tǒng)01還包括驅(qū)動所述噴頭50滑動的第一驅(qū)動裝置，從而可以實(shí)現(xiàn)所述噴頭50的自動滑動，無需人工控制其移動，提高了所述噴涂系統(tǒng)01的移動精準(zhǔn)度和工作效率。
[0055]此處，由于所述噴頭50固定在所述滑塊上，因此，所述第一驅(qū)動裝置可與所述噴頭50相連，也可與所述滑塊相連，在此不作限定。
[0056]在此基礎(chǔ)上，所述噴涂系統(tǒng)01還包括控制所述第一驅(qū)動裝置的第一控制器。
[0057]其中，所述第一控制器例如可以是可編程邏輯控制器(Progra_able LogicController，簡稱PLC)，這樣，可以將所述基板10上需要進(jìn)行光阻劑的噴涂/去除區(qū)域的坐標(biāo)信息由相應(yīng)的程序輸入至所述第一控制器中，從而使所述噴頭50更為精確地移動至設(shè)定的區(qū)域。
[0058]進(jìn)一步的，所述噴涂系統(tǒng)還包括分別與所述噴頭50相連的第一管路和第二管路。
[0059]其中，所述第一管路中填充有光阻劑；所述第二管路中填充有光阻去除劑。
[0060]這樣，當(dāng)所述噴頭50移動至所述基板10上方的設(shè)定區(qū)域后，可根據(jù)工藝要求實(shí)現(xiàn)對該區(qū)域的光阻劑的噴涂/去除已經(jīng)噴涂的光阻劑。
[0061]在上述基礎(chǔ)上，如圖6所示，所述滑動桿40的數(shù)量為2個；其中，每個所述滑動桿上設(shè)置有I個所述噴頭。
[0062]這樣，沿所述導(dǎo)軌30可滑動的2個所述滑動桿40與這2個導(dǎo)軌構(gòu)成了一個面積可放大/縮小的矩形框架，當(dāng)所述基板10上需要進(jìn)行光阻劑的噴涂/去除的區(qū)域靠近上述2個所述滑動桿40中的任一個時，只需移動該滑動桿40上的噴頭50至相應(yīng)的區(qū)域即可，減小了所述滑動桿40滑動的距離，進(jìn)一步提高了所述噴涂系統(tǒng)01的工作效率。
[0063]需要說明的是，本發(fā)明所有附圖是上述噴涂系統(tǒng)的簡略的示意圖，只為清楚描述本方案體現(xiàn)了與發(fā)明點(diǎn)相關(guān)的結(jié)構(gòu)，對于其他的與發(fā)明點(diǎn)無關(guān)的結(jié)構(gòu)是現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，在附圖中并未體現(xiàn)或只體現(xiàn)部分。
[0064]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種噴涂系統(tǒng)，包括用于承載基板的承載臺，其特征在于，還包括， 位于所述承載臺的臺面上平行設(shè)置的兩個導(dǎo)軌；所述導(dǎo)軌上設(shè)置有第一坐標(biāo)； 可沿所述兩個導(dǎo)軌滑動的至少一個滑動桿，且所述滑動桿與所述導(dǎo)軌呈垂直設(shè)置；所述滑動桿上設(shè)置有第二坐標(biāo)； 可沿所述滑動桿滑動的至少一個噴頭；所述噴頭設(shè)置有向所述基板排出液體的噴嘴。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，所述滑動桿上設(shè)置有兩個開口方向相同的凹槽； 所述滑動桿通過所述凹槽放置在所述兩個導(dǎo)軌上； 其中，所述凹槽的深度小于所述導(dǎo)軌的高度；所述凹槽的內(nèi)徑大于所述導(dǎo)軌的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)軌包括導(dǎo)軌主體、位于所述導(dǎo)軌主體兩端的導(dǎo)軌基座；其中，所述導(dǎo)軌主體平行于所述臺面；所述導(dǎo)軌基座垂直于所述臺面； 所述滑動桿上設(shè)置有兩個通孔；所述滑動桿通過所述兩個通孔分別套在所述兩個導(dǎo)軌上；其中，所述通孔的截面積大于所述導(dǎo)軌主體的截面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，還包括，驅(qū)動所述滑動桿滑動的第一驅(qū)動裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，還包括，控制所述第一驅(qū)動裝置的第一控制器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，所述滑動桿遠(yuǎn)離所述承載臺的一面上設(shè)置有可沿所述滑動桿滑動的至少一個滑塊； 所述噴頭固定在所述滑塊上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，還包括，驅(qū)動所述噴頭滑動的第二驅(qū)動裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，還包括，控制所述第二驅(qū)動裝置的第二控制器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，還包括，分別與所述噴頭相連的第一管路和第二管路； 其中，所述第一管路中填充有光阻劑；所述第二管路中填充有光阻去除劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或9所述的噴涂系統(tǒng)，其特征在于，所述滑動桿的數(shù)量為2個；其中，每個所述滑動桿上設(shè)置有I個所述噴頭。
【文檔編號】B05B13/00GK104148220SQ201410404408
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年8月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月15日
【發(fā)明者】谷豐, 羅騰 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司