基膜展平裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種基膜展平裝置，包括進(jìn)料輥和出料輥，所述進(jìn)料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進(jìn)料輥傳動(dòng)進(jìn)入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料輥傳出。本實(shí)用新型具有能保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】基膜展平裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電池加工工具，尤其是涉及一種能保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象的基膜展平裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著涂布技術(shù)的發(fā)展，現(xiàn)已廣泛用于各種【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是在電池生產(chǎn)中，在基膜上涂布一層功能涂層是近年鋰離子電池隔膜改性的一個(gè)重要方向。
[0003]現(xiàn)有的涂布機(jī)在對電池隔膜進(jìn)行涂布處理時(shí)，由于隔膜厚度較薄，基材本身張力不均勻，所以在涂布過程中常出現(xiàn)打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型目的在于提供一種隔膜涂布機(jī)的基膜展平結(jié)構(gòu)，用于保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象，在涂布完成時(shí)，使所得制品的外觀與力學(xué)性能均遠(yuǎn)優(yōu)于同類產(chǎn)品的基膜展平裝置。
[0005]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)措施實(shí)現(xiàn)的，一種基膜展平裝置，包括進(jìn)料輥和出料輥，所述進(jìn)料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進(jìn)料輥傳動(dòng)進(jìn)入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料棍傳出。
[0006]作為一種優(yōu)選方式，所述弧形展平輥包括固定設(shè)置在機(jī)架間的弧形軸芯和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯外的輥殼，所述弧形軸芯的為上凸的弧形。
[0007]作為一種優(yōu)選方式，所述弧形展平輥至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置。
[0008]具體的優(yōu)選方式，所述弧形展平輥的弧高為2-10mm。
[0009]具體的優(yōu)選方式，所述基膜在弧形展平輥上形成的包角為10-30°。
[0010]作為一種優(yōu)選方式，所述輥殼由一平皮帶輪傳動(dòng)。
[0011]本實(shí)用新型在進(jìn)料和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，弧形展平輥可保證其接觸基膜的位置是一個(gè)中間高的弧形。從而保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例工作時(shí)的剖面示意圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例弧形展平輥的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例弧形展平輥的剖面示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合實(shí)施例并對照附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0017]本實(shí)施例的一種基膜展平裝置，請參考圖1至圖3，包括進(jìn)料輥4和出料輥2，所述進(jìn)料輥4和出料輥2之間設(shè)置有一弧形展平輥3，基膜I由進(jìn)料輥4傳動(dòng)進(jìn)入經(jīng)弧形展平輥3展平后經(jīng)出料輥2傳出。
[0018]本基膜展平裝置在進(jìn)料輥4和出料輥2之間設(shè)置有一弧形展平輥3，弧形展平輥3可保證其接觸基膜的位置是一個(gè)中間高的弧形。從而保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。
[0019]本實(shí)施例的基膜展平裝置，請參考圖2至圖4，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3包括固定設(shè)置在機(jī)架5間的弧形軸芯31和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯31外的輥殼32，所述弧形軸芯31的為上凸的弧形。
[0020]本實(shí)施例的基膜展平裝置，請參考圖2和圖3，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置6，高度調(diào)節(jié)裝置6通過安裝架7安裝在機(jī)架5上。
[0021]本實(shí)施例的基膜展平裝置，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3的弧高為2-10mm。
[0022]本實(shí)施例的基膜展平裝置，請參考圖1，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，基膜I在弧形展平輥3上形成的包角為10-30°。
[0023]本實(shí)施例的基膜展平裝置，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，輥殼由一平皮帶輪傳動(dòng)(圖中未示出)，輥殼可根據(jù)實(shí)際使用工況主動(dòng)旋轉(zhuǎn)。
[0024]以上是對本實(shí)用新型基膜展平裝置進(jìn)行了闡述，用于幫助理解本實(shí)用新型，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，任何未背離本實(shí)用新型原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍的內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基膜展平裝置，其特征在于:包括進(jìn)料輥和出料輥，所述進(jìn)料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進(jìn)料輥傳動(dòng)進(jìn)入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料輥傳出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥包括固定設(shè)置在機(jī)架間的弧形軸芯和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯外的輥殼，所述弧形軸芯的為上凸的弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥的弧高為2-10mmo
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述基膜在弧形展平輥上形成的包角為10-30°。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述輥殼由一平皮帶輪傳動(dòng)。
【文檔編號】B05C13/02GK203830233SQ201420111876
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月12日
【發(fā)明者】王世剛, 鄭星 申請人:深圳市新嘉拓自動(dòng)化技術(shù)有限公司