液材擠出裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種液材擠出裝置，包括：藉由使沖擊構(gòu)件在一獨立模塊中僅受其磁場作用即完成執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程；藉由使擠出構(gòu)件以樞軸部上端的定位部受直接撞擊而將液材擠出并經(jīng)彈性元件向上復(fù)位；使沖擊構(gòu)件及擠出構(gòu)件分別進(jìn)行位移的上限定位，增加液材擠出的精確性；而使氣泡可經(jīng)由溢氣道溢出外部，既可排氣泡又可阻液材流出；使各機(jī)構(gòu)形成各別獨立單元模塊，大幅增加清潔及拆卸組裝的便利；并使擠出構(gòu)件被撞擊運(yùn)動的阻力減少、靈敏度增加。
【專利說明】液材擠出裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型有關(guān)于一種擠出裝置，尤指一種對具有黏性的液材，將沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件以呈兩段方式進(jìn)行液材擠出的液材擠出裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]一般具有黏性的液材的擠出，常以柱塞擠出或螺桿擠出方式來提供予待黏著物，前者使用的黏性液材的黏度較低，后者則使用于黏度較高的黏性液材；以前者而言，因為黏性較低，故在擠出方式上常采高速噴出的與待黏著物非接觸方式進(jìn)行，為求高速度的反復(fù)擠出，先前技術(shù)常采彈簧配合上方設(shè)有氣壓活塞的柱塞，藉氣壓活塞受氣壓推力連動柱塞上移后，釋放氣壓使彈簧以其受壓縮的回復(fù)力，驅(qū)動柱塞向下擠出黏性液材。
[0003]由于高速化的液材擠出逐漸被要求，一種將氣壓活塞與柱塞分離成沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件，再使沖擊構(gòu)件撞擊擠出構(gòu)件以對液材擠出的方法及裝置被研發(fā)，例如US6267266^non-contact liquid material dispenser having a bellows valve assemblyand method for ejecting liquid material onto a substrate”案，其以氣壓活塞所連動的沖擊構(gòu)件撞擊一擠出構(gòu)件，該擠出構(gòu)件為一管狀體，其連接與連動一來自貯液筒的液材輸入管，使液材輸入擠出構(gòu)件的管體內(nèi)，而充滿擠出構(gòu)件下方一具有擠出管道的撓性件中，藉由擠出構(gòu)件受沖擊構(gòu)件撞擊后，擠出構(gòu)件再擠壓撓性件，使撓性件在空間限制下，厚度縮小而壓迫擠出管道中液材，而將液材擠出。
[0004]另外，中國臺灣TW 1428187”液材排出裝置及液材排出方法”專利案也將氣壓活塞與柱塞分離成沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件，但其將擠出構(gòu)件上方伸長并穿經(jīng)沖擊構(gòu)件，以供上方一微調(diào)機(jī)構(gòu)作調(diào)整擠出構(gòu)件的上限定位，及于擠出構(gòu)件一抵接部下方與液室間，設(shè)另一微調(diào)機(jī)構(gòu)以調(diào)整擠出構(gòu)件的下限定位。
[0005]CN103502781”力放大驅(qū)動系統(tǒng)，噴射分配器，以及分配流體的方法”，其以活塞上、下兩端分別受進(jìn)、排氣操作，而驅(qū)動沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行反復(fù)沖擊，并在液室中設(shè)置用以限制擠出構(gòu)件上限定位的止動構(gòu)件，使擠出構(gòu)件上移的距離受到定位。
[0006]而中國臺灣TW M409893”點膠機(jī)”專利案，則以驅(qū)動機(jī)構(gòu)中受一電磁鐵單向磁吸作用的出力軸連結(jié)一第一撞針，并在該第一撞針對應(yīng)套入一彈性件提供反向回復(fù)力方式形成反復(fù)的作動力，再以第一撞針撞擊第二撞針，讓第二撞針底端于噴嘴對液材擠出。
實用新型內(nèi)容
[0007]然而，先前技術(shù)US6267266案的擠出構(gòu)件為一管狀體，其連接與連動來自貯液筒的液材輸入管，造成擠出構(gòu)件每次位移皆伴隨連動液材輸出管，在高速及高頻率的反復(fù)位移上造成影響；而TW 1428187案的擠出構(gòu)件與液室內(nèi)壁呈非接觸方式作液材擠出，必須對擠出構(gòu)件限制其上、下限定位，亦不適于接觸式的采用；且二者固藉將氣壓活塞與柱塞分離成沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件，但沖擊構(gòu)件的驅(qū)動力仍來自氣壓活塞與彈簧，對于高速及高頻率的反復(fù)位移輸出驅(qū)動力仍有不足！而其沖擊構(gòu)件采管狀體中樞設(shè)擠出構(gòu)件的方式，亦增加滑動位移的阻力；CN103502781采取在液室中設(shè)置止動構(gòu)件，用以限制擠出構(gòu)件上限定位的方式，止動構(gòu)件在液室中的位移將受液材阻滯，并容易在止動件上移過程中擠壓液材通過軸封縫隙形成泄漏！另，TW M409893雖然采取電磁鐵的磁吸方式，但其僅單向磁吸形成向下驅(qū)力，其反復(fù)的向上驅(qū)力須來自于增加第一撞針及彈性件的作用，不僅連動構(gòu)造復(fù)雜，反復(fù)寸動的速度、頻率仍受限彈性件先天的限制及經(jīng)第一撞針之間接傳動阻力，且第一撞針藉與電磁鐵內(nèi)環(huán)襯套直接接觸作為上限定位，該等接觸將會造成電磁鐵損耗，故仍有待改進(jìn)之處！
[0008]因此，本實用新型的目的，在于提供一種以獨立驅(qū)動機(jī)構(gòu)模塊完成執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程的液材擠出裝置。
[0009]本實用新型另一目的，在于提供一種以上限定位對沖擊構(gòu)件及擠出構(gòu)件進(jìn)行位移限位的液材擠出裝置。
[0010]本實用新型又一目的，在于提供一種可消除液室中液材氣泡的液材擠出裝置。
[0011]本實用新型再一目的，在于提供一種模塊化的液材擠出裝置。
[0012]本實用新型又再一目的，在于提供一種降低擠出構(gòu)件在被沖擊構(gòu)件撞擊時的位移阻力的液材擠出裝置。
[0013]本實用新型又再一目的，在于提供一種以獨立驅(qū)動機(jī)構(gòu)模塊及獨立柱塞機(jī)模塊，使二獨立模塊形成連結(jié)，并以擠出構(gòu)件另一端將液室中液材擠出的液材擠出裝置。
[0014]本實用新型又再一目的，在于提供一種降低擠出構(gòu)件在被沖擊構(gòu)件撞擊時的位移阻力的液材擠出裝置。
[0015]本實用新型又再一目的，在于提供一種以可微調(diào)的上限定位對沖擊構(gòu)件及擠出構(gòu)件進(jìn)行位移限位的液材擠出裝置。
[0016]本實用新型又再一目的，在于提供一種使柱塞機(jī)構(gòu)與液室模塊作模塊化組合的液材擠出裝置。
[0017]本實用新型又再一目的，在于提供一種使液室模塊與閥座作模塊化組合的液材擠出裝置。
[0018]本實用新型又再一目的，在于提供一種可提高沖擊強(qiáng)度的液材擠出裝置。
[0019]依據(jù)本實用新型目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，為一獨立模塊，設(shè)有一沖擊構(gòu)件執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程；一柱塞機(jī)構(gòu)，為一獨立模塊，柱塞機(jī)構(gòu)中設(shè)有一樞孔，并在樞孔中設(shè)一擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件一端伸入一液室中，樞孔中設(shè)一彈性元件；擠出構(gòu)件受沖擊構(gòu)件直接撞擊，彈性元件回復(fù)力將擠出構(gòu)件向上復(fù)位。
[0020]依據(jù)本實用新型另一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)，設(shè)于液室外，對擠出構(gòu)件進(jìn)行位移的上限定位。
[0021]依據(jù)本實用新型又一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；一溢氣道，設(shè)于該柱塞機(jī)構(gòu)與液室接口處，供輸入液材的液室所形成的氣泡，經(jīng)由該溢氣道溢出液室外。
[0022]依據(jù)本實用新型再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；一多個模塊，包括:設(shè)有沖擊構(gòu)件的驅(qū)動機(jī)構(gòu)形成一第一單元的獨立模塊；一微調(diào)擠出構(gòu)件的第二微調(diào)機(jī)構(gòu)與設(shè)有擠出構(gòu)件的柱塞機(jī)構(gòu)形成一第二單元的獨立模塊；設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；第二單元的獨立模塊與第三單元的獨立模塊固設(shè)結(jié)合，而第一單元及第二單元則形成可分離而互不連結(jié)的獨立模塊，二者僅藉沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件的撞擊形成接觸。
[0023]依據(jù)本實用新型再一目的的另一液材擠出裝置，包括:
[0024]一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；多個模塊，包括:設(shè)有該擠出機(jī)構(gòu)的一柱塞機(jī)構(gòu)所形成的第二單元的獨立模塊；設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；第三單元的獨立模塊中形成該液室的一液室座，以一凹設(shè)的接口與第二單元的獨立模塊中一凸設(shè)的對位部嵌設(shè)對接。
[0025]依據(jù)本實用新型再一目的的又一液材擠出裝置，包括:
[0026]一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；多個模塊，設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；設(shè)有供擠出構(gòu)件撞擊的一閥座、將液材擠出的一針管、用以保護(hù)該針管的一保護(hù)座，三者形成一第四單元獨立模塊；第四單元以閥座嵌置對接于第三單元的液室模塊一出口端處的一容置空間，并藉一第二環(huán)罩與液室模塊固設(shè)結(jié)合。
[0027]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位；擠出構(gòu)件設(shè)有一樞軸部，其為擠出構(gòu)件最大軸徑，該樞軸部設(shè)于一柱塞座的樞孔中，并受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐。
[0028]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一執(zhí)行上下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中；該驅(qū)動機(jī)構(gòu)與柱塞機(jī)構(gòu)各為獨立模塊，其間保持間隔，沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件一端進(jìn)行沖擊時，使二獨立模塊形成連結(jié)，并以擠出構(gòu)件另一端將液室中液材擠出。
[0029]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；擠出構(gòu)件包括一樞軸部，其具有擠出構(gòu)件的最大外徑，樞軸部上端設(shè)有一軸徑較樞軸部小的定位部，樞軸部下端設(shè)有一軸徑較樞軸部小的閥針，樞軸部在該樞孔的軸襯處受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，且為包括定位部、閥針的擠出構(gòu)件上所受的唯一徑向?qū)嵸|(zhì)支撐；一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中；該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件的定位部進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件的閥針將液室中液材擠出。
[0030]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；該柱塞座上方設(shè)有一微調(diào)室，其中設(shè)有一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)；一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中；該沖擊構(gòu)件在第二微調(diào)機(jī)構(gòu)中對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件閥針將液室中液材擠出。
[0031]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；一液室模塊，包括一液室座，其藉第一環(huán)罩使液室座與該柱塞機(jī)構(gòu)的柱塞座聯(lián)結(jié)；液室座中設(shè)有中空的液室，該液室上方形成凹設(shè)的接口，液室座藉該接口與柱塞座嵌接，使液室與柱塞座的樞孔相通，使所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中；該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材擠出。
[0032]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；一液室模塊，包括一液室座，液室座中設(shè)有中空的液室，所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中；液室下方形成一出口端，該處形成同心設(shè)置的位于外圈的第一環(huán)座及位于內(nèi)圈的第二環(huán)座，該位于內(nèi)圈的第二環(huán)座長度較短而使第一環(huán)座及第二環(huán)座底端間形成一容置空間，一開有擠出流道的閥座設(shè)于該容置空間中；該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材自閥座的擠出流道擠出。
[0033]依據(jù)本實用新型又再一目的的液材擠出裝置，包括:一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件，其為實心的構(gòu)件；一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊并為實心的構(gòu)件；一液室模塊，包括一液室，所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中；該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材擠出。
[0034]本實用新型實施例的液材擠出裝置，藉由使沖擊構(gòu)件在一獨立模塊中僅受其磁場作用即完成執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程；并在永久磁鐵輔助下使增強(qiáng)的磁場強(qiáng)度提高沖擊構(gòu)件的沖擊速度與頻率；藉由使擠出構(gòu)件以樞軸部上端的定位部受直接撞擊，而以樞軸部下端的閥針將液材擠出；并在沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時經(jīng)彈性元件向上復(fù)位；使沖擊構(gòu)件及擠出構(gòu)件分別進(jìn)行位移的上限定位，增加液材擠出的精確性；而使氣泡可經(jīng)由與輸入液材的液室無關(guān)的微細(xì)溢氣道溢出外部，既可排氣泡又可阻液材流出；使各機(jī)構(gòu)形成各別獨立單元模塊，大幅增加清潔及拆卸組裝的便利；并通過使擠出構(gòu)件被撞擊運(yùn)動的阻力減少、靈敏度增加。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1是本實用新型實施例中液材擠出裝置的立體示意圖。
[0036]圖2是本實用新型實施例中液材擠出裝置的剖面示意圖。
[0037]圖3是本實用新型實施例中液材擠出裝置各模塊分解的示意圖。
[0038]圖4是本實用新型實施例中液室與閥座的部份放大示意圖。
[0039]圖5是本實用新型第二實施例的面示意圖。
[0040]符號說明
[0041]I驅(qū)動機(jī)構(gòu)11第一電磁元件
[0042]111第一接腳112第一穿孔
[0043]12第二電磁元件121第二接腳
[0044]122第二穿孔13沖擊構(gòu)件
[0045]131受磁元件14感應(yīng)區(qū)
[0046]141感應(yīng)空間142縫隙
[0047]151第一助磁元件152第二助磁元件
[0048]2柱塞機(jī)構(gòu)21柱塞座
[0049]211樞孔212頸部
[0050]213軸孔214軸襯
[0051]215聯(lián)結(jié)部216對位部
[0052]217微調(diào)室22擠出構(gòu)件
[0053]221樞軸部222定位部
[0054]223第一限位部224閥針
[0055]225第二限位部23第二微調(diào)機(jī)構(gòu)
[0056]231限制件2311撞擊室
[0057]2312頸部2313外螺紋
[0058]2314 軸孔 2315 筒口
[0059]2316 筒壁 2317 嵌孔
[0060]232調(diào)節(jié)座2321螺轉(zhuǎn)部
[0061]2322內(nèi)螺紋2323定位元件
[0062]2324設(shè)定部2325間距
[0063]24彈性元件3液室模塊
[0064]31液室座311凸緣
[0065]312 液室 313 接口
[0066]314油封315溢氣道
[0067]316 出口端317第一環(huán)座
[0068]318第二環(huán)座319容置空間
[0069]320 油封32閥座
[0070]321擠出部322管座
[0071]323第一擠出流道324針管
[0072]325第二擠出流道326保護(hù)座
[0073]327 護(hù)腳328區(qū)間
[0074]329撞擊緣33第一環(huán)罩
[0075]34第二環(huán)罩4驅(qū)動機(jī)構(gòu)
[0076]41活塞室42活塞
[0077]43第一流道44第二流道
[0078]45沖擊構(gòu)件5柱塞座
[0079]51限制件52微調(diào)室
[0080]53定位元件6擠出構(gòu)件
[0081]61閥針611密封段
[0082]612擠出段7油封
[0083]8液室A固定座
[0084]Al上固定件A2下固定件
[0085]A21軸襯A22軸孔
[0086]A3第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A31螺孔
[0087]A32螺桿A33螺帽

【具體實施方式】
[0088]請參閱圖1、2，本實用新型實施例的液材擠出裝及裝置，可以圖中所示的裝置為例作說明；其特征在于，包括:
[0089]一驅(qū)動機(jī)構(gòu)1，設(shè)于一立設(shè)的固定座A的上、下水平設(shè)置的上固定件Al與下固定件A2間，上固定件Al上設(shè)有一第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A3，其在上固定件Al上設(shè)有螺孔A31，及在其中螺設(shè)一螺桿A32，并以一螺帽A33將螺桿A32螺固定位在上固定件Al上；該驅(qū)動機(jī)構(gòu)I包括第一電磁元件11及第二電磁元件12，其特征在于，第電磁元件11以第一接腳111固設(shè)定位于上固定件Al，其上設(shè)有鏤空的第一穿孔112 ;第二電磁元件12以第二接腳121固設(shè)定位于下固定件A2，其上設(shè)有鏤空的第二穿孔122 ;所述第一電磁元件11上第一穿孔112供該螺桿A32穿經(jīng)，所述第二電磁元件12上第二穿孔122供一沖擊構(gòu)件13穿經(jīng)；該沖擊構(gòu)件13為一桿狀體，上端設(shè)有一板狀受磁元件131，沖擊構(gòu)件13 —端向下樞經(jīng)下固定件A2上一設(shè)有軸襯A21的軸孔A22，而凸伸于下固定件A2下方；沖擊構(gòu)件13另一端向上凸伸于一感應(yīng)區(qū)14中，該感應(yīng)區(qū)14由第一電磁元件11與第二電磁元件12間所相對應(yīng)凹設(shè)而形成的感應(yīng)空間141與其間的縫隙142形成，沖擊構(gòu)件13以受磁元件131設(shè)于該感應(yīng)區(qū)14的感應(yīng)空間141中，受磁元件131面積擴(kuò)伸于感應(yīng)區(qū)14外的第一電磁元件11與第二電磁元件12間的縫隙141中；在該感應(yīng)區(qū)14的感應(yīng)空間141內(nèi)中，設(shè)有環(huán)狀的永久磁鐵所構(gòu)成的第一助磁元件151固設(shè)于板狀受磁元件131朝第一電磁元件11的一側(cè)，另設(shè)有環(huán)狀的永久磁鐵所構(gòu)成的第二助磁元件152固設(shè)于板狀受磁元件131朝第二電磁元件12的一側(cè)；該受磁元件131并可受第一電磁元件11與第二電磁元件12不同磁場的作用，而在第一電磁元件11與第二電磁元件12間感應(yīng)區(qū)14的縫隙141中作上、下反復(fù)寸動，縫隙141限制了受磁元件131連動沖擊構(gòu)件13上、下反復(fù)寸動位移的上下限定位；而該感應(yīng)區(qū)14的感應(yīng)空間141內(nèi)，沖擊構(gòu)件13頂端也同時藉觸頂?shù)降谝晃⒄{(diào)機(jī)構(gòu)A3的螺桿A32底端而限制其上限定位，惟該螺桿A32可因其微調(diào)而使沖擊構(gòu)件13的上限定位獲得改變；而當(dāng)沖擊構(gòu)件13位于下限定位時，第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A3的螺桿A32底端及該感應(yīng)區(qū)14上緣與沖擊構(gòu)件13間無任何件連結(jié)而保持一間距；
[0090]一柱塞機(jī)構(gòu)2，(請同時配合參閱圖2、3)設(shè)于該立設(shè)的固定座A上，并與驅(qū)動機(jī)構(gòu)I所固設(shè)的下固定件A2間保持一間距下而位于其下方，包括一柱塞座21，其內(nèi)設(shè)有一樞孔211，樞孔211近下方部位設(shè)有一將樞孔211限縮的頸部212，該頸部212處形成一孔徑較樞孔211孔徑小的軸孔213 ;樞孔211近上方部位設(shè)有一軸襯214，該處樞設(shè)一擠出構(gòu)件22 ;柱塞座21下方外圓周設(shè)有一聯(lián)結(jié)部215，其設(shè)有外螺紋，聯(lián)結(jié)部215下方形成向下凸伸的對位部216，該對位部216同時形成樞孔211的外圓周；柱塞座21上方設(shè)有一凹設(shè)的微調(diào)室217，其中設(shè)有一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23，該微調(diào)室217與樞孔211相通；
[0091]所述擠出構(gòu)件22包括一樞軸部221，其為擠出構(gòu)件22最大外徑的部位，樞軸部221上端設(shè)有一軸徑較樞軸部221小的定位部222，其與樞軸部221段差處形成一第一限位部223，定位部222及第一限位部223并凸伸于該微調(diào)室216 ;樞軸部221下端設(shè)有一軸徑較樞軸部221小的閥針224，其與樞軸部221段差處形成一第二限位部225，第二限位部225與該樞孔211限縮的頸部212間閥針224軸徑上套設(shè)一彈簧構(gòu)成的彈性元件24，閥針224向下凸伸出頸部212處所形成的軸孔213，且閥針224的軸徑小于該軸孔213的孔徑，而使二者間保留一余隙；樞軸部221在該樞孔211的軸襯214處受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，且為包括定位部222、閥針224的擠出構(gòu)件22上所受的唯一徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，以保持細(xì)長構(gòu)造的擠出構(gòu)件22在上、下位移的靈敏度及不受阻力的位移，且避免多點支撐所造成的中心線精準(zhǔn)度的問題，由于樞軸部221為擠出構(gòu)件22最大外徑的部位，故亦可獲得整體擠出構(gòu)件22滑動位移的穩(wěn)定性；
[0092]所述第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23包括一限制件231，及一調(diào)節(jié)座232 ;其特征在于，該限制件231略呈筒狀，其中設(shè)有一中空的撞擊室2311，并于撞擊室2311底部設(shè)有一朝中心設(shè)置而將撞擊室2311限縮的頸部2312，及一位于外周緣的外螺紋2313 ;該頸部2312處形成一孔徑較撞擊室2311孔徑小的軸孔2314，所述擠出構(gòu)件22的定位部222伸經(jīng)該軸孔2314而凸伸于該撞擊室2311中，并與該驅(qū)動機(jī)構(gòu)I的沖擊構(gòu)件13底端在撞擊室2311中接觸及進(jìn)行撞擊，而擠出構(gòu)件22的第一限位部223則因彈性元件24對擠出構(gòu)件22的作用保持上頂接觸于該頸部2312下方處，用以限制擠出構(gòu)件22位移的上限定位；該限制件231筒狀中空的空間具有與外部開放的筒口 2315，使該沖擊構(gòu)件13與擠出構(gòu)件22進(jìn)行撞擊的部位，曝露在位于周圍被限制件231筒狀中空的空間圈圍，但與外部接觸的非密封空間中，且該沖擊構(gòu)件13以其最底端與擠出構(gòu)件33的最上端進(jìn)行直接撞擊接觸，使撞擊的發(fā)生可以降低阻力；且沖擊構(gòu)件13與擠出構(gòu)件22為實心的圓棒狀構(gòu)件，以使強(qiáng)度足以承受高速及高頻率的撞擊；且擠出構(gòu)件22為未與任何構(gòu)件連結(jié)、未承載或容置液材、并具有自由滑動位移的單體構(gòu)件，以使其具有滑動位移的靈敏度；而擠出構(gòu)件22的定位部222上端被撞擊部位并形成圓凸面，如此可以使撞擊點及撞擊力量集中于擠出構(gòu)件22的中心軸線，使撞擊力不受損耗；
[0093]該撞擊室2311外周緣的限制件231筒壁2316上環(huán)列布設(shè)有多個嵌孔2317，可藉工具嵌于其中對限制件231進(jìn)行撥轉(zhuǎn)；該調(diào)節(jié)座232設(shè)有一螺轉(zhuǎn)部2321，其設(shè)有與所述限制件231底部外周緣外螺紋2313螺設(shè)的內(nèi)螺紋2322，及多個定位元件2323所構(gòu)成的設(shè)定部2324，用以設(shè)定該限制件231于調(diào)節(jié)座232上的定位，調(diào)節(jié)座232以該設(shè)定部2324坐設(shè)于柱塞座21的微調(diào)室217周緣上方，而使位于微調(diào)室217中的螺轉(zhuǎn)部2321螺設(shè)于螺轉(zhuǎn)部2321的限制件231懸空于微調(diào)室217底部上方一間距2325高度處，該間距2325高度提供限制件231被上、下調(diào)整的位移空間；該限制件231設(shè)于擠出構(gòu)件22上限定位的上方，并與驅(qū)動機(jī)構(gòu)I保持一間距，擠出構(gòu)件22與驅(qū)動機(jī)構(gòu)I上、下之間除與沖擊構(gòu)件13直接接觸撞擊外，其間并無任何直接或透過第三構(gòu)件的連結(jié)，而當(dāng)擠出構(gòu)件22抵于限制件231被限定位移的上限定位，且沖擊構(gòu)件13位于上下位移的上始點時，沖擊構(gòu)件13底端與擠出構(gòu)件22上端間保持一間距，二者間無任何連結(jié)，以提供沖擊構(gòu)件13撞擊的沖量；
[0094]一液室模塊3，包括一液室座31及閥座32，該液室座31上方設(shè)有一外伸的凸緣311，并藉第一環(huán)罩33扣罩該凸緣311，而使液室座31與該柱塞機(jī)構(gòu)2柱塞座21下方聯(lián)結(jié)部215的外螺紋螺設(shè)聯(lián)結(jié)；液室座31中設(shè)有中空的管狀液室312，該液室312上方形成凹設(shè)的接口 313，液室座31藉該接口 313與柱塞座21下方對位部216嵌接，并藉此使液室312與柱塞座21的頸部212處軸孔213對應(yīng)而與樞孔211相通，并藉此使所述柱塞機(jī)構(gòu)2的擠出構(gòu)件22下端閥針224伸入液室312中，同時以一撓性軸封314對閥針224與液室312間進(jìn)行密封；柱塞座21下方對位部216中頸部212下方的部份樞孔211空間形成一開放性液室218，其與液室312對應(yīng)并位于撓性軸封314所封閉的液室312外，液室座31在凹設(shè)的接口 313處設(shè)有微細(xì)的溢氣道315，溢氣道315對應(yīng)該開放性液室218與接口 313且使二者與外部相通，基于制造的便利，該溢氣道315上方的凸緣311可為與液室座31不同的另一構(gòu)件藉螺固而相結(jié)合；液室座31—側(cè)接設(shè)來自貯液槽的管道33，以導(dǎo)引液材進(jìn)入液室312 ;請參閱圖3、4，液室312下方逐漸束縮形成一出口端316，并于該出口端316處形成同心設(shè)置的第一環(huán)座317及第二環(huán)座318，其中第二環(huán)座318長度較低而使第一環(huán)座317及第二環(huán)座318底端間形成一容置空間319，該容置空間319受閥座32所對接嵌設(shè)其特征在于，并于第一環(huán)座317及第二環(huán)座318之間的徑向間隙中設(shè)有油封320 ;該閥座32呈一平設(shè)狀，其上方表面對應(yīng)出口端316設(shè)有弧凹擠出部321，擠出部321下方設(shè)有一管座322，管座322中設(shè)有第一擠出流道323，其具有第一孔徑，該第一擠出流道323中固設(shè)一針管324，該針管324—部份長度固設(shè)于第一擠出流道323內(nèi)徑，一部份向下凸伸于管座322及第一擠出流道323外，針管324中形成一第二擠出流道325，其具有第二孔徑；該管座322周緣環(huán)設(shè)一保護(hù)座326，其具有一外錐面并向下凸伸多個相間隔并共同圍設(shè)針管324周緣的護(hù)腳327，其長度與針管324底端約略相當(dāng)，用以保護(hù)針管324底端避免撞傷；閥座32、管座322、針管324三者以黏性材料固設(shè)成一體，并受一第二環(huán)罩34扣罩而螺設(shè)定位于液室座31底部出口端316的外周緣。
[0095]請參閱圖3，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)I設(shè)于上固定件Al與下固定件A2間形成獨立模塊，即使其它機(jī)構(gòu)拆卸維修或清潔，并不影響其獨立運(yùn)作及微調(diào)后的設(shè)定；該柱塞機(jī)構(gòu)2中的擠出構(gòu)件22受第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23及第二限位部225與頸部212間彈性元件24的限制而定位在柱塞座21樞孔211中，且驅(qū)動機(jī)構(gòu)I中沖擊構(gòu)件13與柱塞機(jī)構(gòu)2中擠出構(gòu)件22間無任何連接元件，故柱塞機(jī)構(gòu)2本身亦形成獨立模塊，即使其它機(jī)構(gòu)拆卸維修或清潔，并不影響其獨立運(yùn)作及微調(diào)后的設(shè)定；而液室模塊3本身即為一獨立模塊而藉第一環(huán)罩33與柱塞機(jī)構(gòu)2結(jié)合；另，閥座32、保護(hù)座326、針管324三者本身即黏固成一獨立模塊而藉第二環(huán)罩34與液室模塊3結(jié)合；故整體充份模塊化而易于拆卸組裝及調(diào)整定位。
[0096]本實用新型實施例的液材擠出裝置，包括:
[0097]一驅(qū)動手段，使沖擊構(gòu)件13上受磁元件15位于第一電磁元件11與第二電磁元件12間的感應(yīng)區(qū)14，并僅受其磁場作用即完成執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程；另，在沖擊構(gòu)件13上結(jié)合第一助磁元件151與第二助磁元件152的永久磁鐵，以輔助和第一電磁元件11與第二電磁元件12間的磁場強(qiáng)度；
[0098]一擠出手段，使擠出構(gòu)件22的樞軸部221在柱塞座21的樞孔211中受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，并以樞軸部221上端的定位部222受沖擊構(gòu)件13直接撞擊，該樞軸部221的長度較定位部222長，由于樞軸部221為擠出構(gòu)件22最大外徑的部位，故在為擠出構(gòu)件22受撞擊時，可維持整體擠出構(gòu)件22滑動位移的穩(wěn)定性，而以樞軸部221下端的閥針224進(jìn)入液室模塊3的液室312中將液材擠出；并在沖擊構(gòu)件13受磁場作用向上復(fù)位時，藉樞孔211中彈性元件24回復(fù)力推頂樞軸部221，而將擠出構(gòu)件22向上復(fù)位；
[0099]一定位手段，包括以第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A3對沖擊構(gòu)件13進(jìn)行位移的上限定位，及以第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23對擠出構(gòu)件22進(jìn)行位移的上限定位；沖擊構(gòu)件13的位移上、下限由第一電磁元件11與第二電磁元件12的磁場決定，而由于第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A3對沖擊構(gòu)件13進(jìn)行位移的上限定位，故沖擊構(gòu)件13的位移下限則由第一電磁元件11與第二電磁元件12的磁場對受磁元件15施予斥力或吸力決定，例如施予吸力時，由第二電磁元件12決定，第二電磁元件12上端面為下限定位處，若施予斥力，則雖第二電磁元件12上端面仍為下限定位處，惟由第一電磁元件11決定；擠出構(gòu)件22下方閥針224則直接撞觸閥座32將液材擠出而不設(shè)位移下限定位；第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23對擠出構(gòu)件22進(jìn)行位移的上限定位，采取在液室312夕卜，且在擠出構(gòu)件22的樞軸部221上方對擠出構(gòu)件22執(zhí)行限位，并提供該限位點以可作上下微調(diào)的手段，來提供擠出構(gòu)件22上下行程可作不同的設(shè)定；
[0100]一溢氣手段，使擠出構(gòu)件22上閥針224進(jìn)出的空間被撓性軸封314所封閉及分隔，形成一供輸入液材的液室312，及一位于撓性軸封314外未輸入液材的開放性液室218，以使擠出構(gòu)件22上閥針224進(jìn)出輸入液材的液室312所形成氣泡，可經(jīng)由開放性液室218處所設(shè)的微細(xì)溢氣道315溢出輸入液材的液室312外；
[0101]—模塊手段，使微調(diào)沖擊構(gòu)件13的第一微調(diào)機(jī)構(gòu)A3與驅(qū)動機(jī)構(gòu)I形成一第一單元，使微調(diào)擠出構(gòu)件22的第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23與柱塞機(jī)構(gòu)2形成一第二單元，使第一單元及第二單元形成可分離而互不連結(jié)的獨立模塊，二者間保持間隔，僅藉沖擊構(gòu)件13與擠出構(gòu)件22直接撞擊形成接觸，且該接觸部位位于微調(diào)擠出構(gòu)件22的第二微調(diào)機(jī)構(gòu)23筒狀限制件231中空且與外部開放的撞擊室2311中；另外，使液室模塊3形成一第三單元的獨立模塊，藉液室座31以凹設(shè)接口 313與第二單元中柱塞機(jī)構(gòu)2的柱塞座21下方對位部216嵌設(shè)對接，及以第一環(huán)罩33與第二單元的柱塞機(jī)構(gòu)2固設(shè)結(jié)合；使閥座32、保護(hù)座326、針管324三者形成一第四單元的獨立模塊，以閥座32嵌置對接于第三單元液室模塊3出口端316處容置空間319，并藉第二環(huán)罩34與液室模塊3固設(shè)結(jié)合；
[0102]一減阻手段，使柱塞機(jī)構(gòu)2的擠出構(gòu)件22在被驅(qū)動機(jī)構(gòu)I的沖擊構(gòu)件13直接撞擊時，擠出構(gòu)件22僅以最大軸徑的樞軸部221在柱塞座21的樞孔211中受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，擠出構(gòu)件22樞軸部221上端定位部222及下端閥針224均不受類如軸襯或軸孔的剛性接觸地徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，僅由閥針224在液室312受撓性軸封314的徑向撓性密封，以使擠出構(gòu)件22的被撞擊運(yùn)動的阻力減少、靈敏度增加。
[0103]本實用新型實施例的液材擠出裝置，在實施上，藉由使沖擊構(gòu)件13在一獨立模塊中僅受其磁場作用即完成執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程；并在永久磁鐵輔助下使增強(qiáng)的磁場強(qiáng)度提高沖擊構(gòu)件13的沖擊速度與頻率；藉由使擠出構(gòu)件22以樞軸部221上端的定位部222受直接撞擊，而以樞軸部221下端的閥針224將液材擠出；并在沖擊構(gòu)件13向上復(fù)位時經(jīng)彈性元件24向上復(fù)位；使沖擊構(gòu)件13及擠出構(gòu)件22分別進(jìn)行位移的上限定位，增加液材擠出的精確性；而使氣泡可經(jīng)由與輸入液材的液室312無關(guān)的微細(xì)溢氣道315溢出外部，既可排氣泡又可阻液材流出；使各機(jī)構(gòu)形成各別獨立單元模塊，大幅增加清潔及拆卸組裝的便利；并通過使擠出構(gòu)件22被撞擊運(yùn)動的阻力減少、靈敏度增加。
[0104]請參閱圖5，本實用新型第二實施例中，使驅(qū)動機(jī)構(gòu)4包括一位于一活塞室41中的活塞42，活塞室41分別設(shè)有位于活塞42 —側(cè)的第一流道43，以及位于活塞另一側(cè)的第二流道44，活塞42連動一沖擊構(gòu)件45，藉由分別自第一流道43，、第二流道44輸入或輸出氣體，使活塞42被驅(qū)動進(jìn)行上下反復(fù)運(yùn)動，并進(jìn)而連動沖擊構(gòu)件45上下反復(fù)位移；該柱塞座5上方限制件51直接螺設(shè)于微調(diào)室52，并將該多個定位元件53設(shè)于該柱塞座5上對應(yīng)限制件51的周緣，以設(shè)定該限制件51于柱塞座5上的定位；而擠出構(gòu)件6的閥針61則形成一軸徑較大的密封段611及一軸徑較小的擠出段612，其特征在于，該密封段611供與油封7樞設(shè)，擠出段612則于液室8中供擠出液材。
[0105]本實用新型第二實施例提供采用活塞42的可行驅(qū)動模式，其特征在于，由于限制件51直接螺設(shè)于微調(diào)室52，故可使微調(diào)件簡省，另因閥針61纖細(xì)，考量現(xiàn)行市販油封7的規(guī)格難以符合密封性需求，因此采用二段式外徑設(shè)計，使油封7密封部位的軸徑較大。
[0106]但以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，當(dāng)不能以此限定本實用新型實施的范圍，即凡依本實用新型申請專利范圍及實用新型說明內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本實用新型專利涵蓋的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，為一獨立模塊，設(shè)有一沖擊構(gòu)件執(zhí)行下、上反復(fù)位移的一個完整沖擊行程，并循環(huán)前述沖擊行程； 一柱塞機(jī)構(gòu)，為一獨立模塊，柱塞機(jī)構(gòu)中設(shè)有一樞孔，并在樞孔中設(shè)一擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件一端伸入一液室中，樞孔中設(shè)一彈性元件； 擠出構(gòu)件受沖擊構(gòu)件直接撞擊，彈性元件回復(fù)力將擠出構(gòu)件向上復(fù)位。
2.如權(quán)利要求1所述液材擠出裝置，其特征在于，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)有電磁元件，其形成一感應(yīng)區(qū)，沖擊構(gòu)件上一受磁元件位于該感應(yīng)區(qū)中，電磁對受磁元件上、下側(cè)分別進(jìn)行磁性作用。
3.如權(quán)利要求1所述的液材擠出裝置，其特征在于，該沖擊構(gòu)件上設(shè)有永久磁鐵所構(gòu)成的助磁元件。
4.如權(quán)利要求1所述的液材擠出裝置，其特征在于，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)有一活塞，活塞兩側(cè)分別輸入或輸出氣體，而被驅(qū)動進(jìn)行上下反復(fù)運(yùn)動，以連動沖擊構(gòu)件下、上反復(fù)位移。
5.—種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)，設(shè)于液室外，對擠出構(gòu)件進(jìn)行位移的上限定位。
6.如權(quán)利要求5所述的液材擠出裝置，其特征在于，該沖擊構(gòu)件設(shè)有第一電磁元件與第二電磁元件，其以磁場決定位移上、下限，并設(shè)有一第一微調(diào)機(jī)構(gòu)對沖擊構(gòu)件進(jìn)行位移的上限定位。
7.如權(quán)利要求5所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件下方設(shè)有一閥針，其不設(shè)位移下限定位直接撞觸一閥座將液材擠出。
8.如權(quán)利要求5所述的液材擠出裝置，其特征在于，該第二微調(diào)機(jī)構(gòu)在擠出構(gòu)件一樞軸部上方對擠出構(gòu)件執(zhí)行限位，該樞軸部為擠出構(gòu)件最大外徑部位，并與一樞孔樞設(shè)。
9.如權(quán)利要求5所述的液材擠出裝置，其特征在于，還包括設(shè)有一第一微調(diào)機(jī)構(gòu)，其對沖擊構(gòu)件進(jìn)行位移的上限定位。
10.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 一溢氣道，設(shè)于該柱塞機(jī)構(gòu)與液室接口處，供輸入液材的液室所形成的氣泡，經(jīng)由該溢氣道溢出液室外。
11.如權(quán)利要求10所述的液材擠出裝置，其特征在于，該供輸入液材的液室由該擠出構(gòu)件上一閥針進(jìn)出的空間被撓性軸封所封閉及分隔而形成，該撓性軸封同時分隔出一位于燒性軸封外未輸入液材的開放性液室。
12.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 一多個模塊，包括:設(shè)有沖擊構(gòu)件的驅(qū)動機(jī)構(gòu)形成一第一單元的獨立模塊；一微調(diào)擠出構(gòu)件的第二微調(diào)機(jī)構(gòu)與設(shè)有擠出構(gòu)件的柱塞機(jī)構(gòu)形成一第二單元的獨立模塊；設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；第二單元的獨立模塊與第三單元的獨立模塊固設(shè)結(jié)合，而第一單元及第二單元則形成可分離而互不連結(jié)的獨立模塊，二者僅藉沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件的撞擊形成接觸。
13.如權(quán)利要求12所述的液材擠出裝置，其特征在于，該接觸部位位于微調(diào)擠出構(gòu)件的第二微調(diào)機(jī)構(gòu)一筒狀限制件的中空且與外部開放的一撞擊室中。
14.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 多個模塊，包括:設(shè)有該擠出機(jī)構(gòu)的一柱塞機(jī)構(gòu)所形成的第二單元的獨立模塊；設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；第三單元的獨立模塊中形成該液室的一液室座，以一凹設(shè)的接口與第二單元的獨立模塊中一凸設(shè)的對位部嵌設(shè)對接。
15.如權(quán)利要求14所述的液材擠出裝置，其特征在于，該第三單元的獨立模塊以一第一環(huán)罩與第二單元獨立模塊的柱塞機(jī)構(gòu)固設(shè)結(jié)合。
16.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 多個模塊，設(shè)有該液室的一液室模塊形成一第三單元的獨立模塊；設(shè)有供擠出構(gòu)件撞擊的一閥座、將液材擠出的一針管、用以保護(hù)該針管的一保護(hù)座，三者形成一第四單元獨立模塊；第四單元以閥座嵌置對接于第三單元的液室模塊一出口端處的一容置空間，并藉一第二環(huán)罩與液室模塊固設(shè)結(jié)合。
17.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一上、下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，設(shè)有受沖擊構(gòu)件撞擊的擠出構(gòu)件，擠出構(gòu)件伸入一液室中，沖擊構(gòu)件向上復(fù)位時，擠出構(gòu)件亦受一彈性元件作用向上復(fù)位； 擠出構(gòu)件設(shè)有一樞軸部，其為擠出構(gòu)件最大軸徑，該樞軸部設(shè)于一柱塞座的樞孔中，并受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐。
18.如權(quán)利要求17所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件樞軸部上端一定位部及下端一閥針均不受剛性接觸的徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，僅由閥針在液室受撓性軸封的徑向撓性密封。
19.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一執(zhí)行上下反復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊； 一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中； 該驅(qū)動機(jī)構(gòu)與柱塞機(jī)構(gòu)各為獨立模塊，其間保持間隔，沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件一端進(jìn)行沖擊時，使二獨立模塊形成連結(jié)，并以擠出構(gòu)件另一端將液室中液材擠出。
20.如權(quán)利要求19所述的液材擠出裝置，其特征在于，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括:第一電磁元件及一第二電磁元件，其間形成一感應(yīng)區(qū)，沖擊構(gòu)件上一受磁元件位于該感應(yīng)區(qū)中。
21.如權(quán)利要求19所述的液材擠出裝置，其特征在于，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)有一第一微調(diào)機(jī)構(gòu)，該沖擊構(gòu)件藉觸頂?shù)降谝晃⒄{(diào)機(jī)構(gòu)而限制其上限定位。
22.如權(quán)利要求20所述的液材擠出裝置，其特征在于，該感應(yīng)區(qū)中設(shè)有永久磁鐵所構(gòu)成的助磁元件。
23.如權(quán)利要求19所述的液材擠出裝置，其特征在于，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括:一位于一活塞室中的活塞，活塞室分別設(shè)有位于活塞一側(cè)的第一流道，以及位于活塞另一側(cè)的第二流道，活塞連動該沖擊構(gòu)件，藉由分別自第一流道、第二流道輸入或輸出氣體，使活塞被驅(qū)動進(jìn)行上下反復(fù)運(yùn)動，并進(jìn)而連動沖擊構(gòu)件上下反復(fù)位移。
24.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；擠出構(gòu)件包括一樞軸部，其具有擠出構(gòu)件的最大外徑，樞軸部上端設(shè)有一軸徑較樞軸部小的定位部，樞軸部下端設(shè)有一軸徑較樞軸部小的閥針，樞軸部在該樞孔的軸襯處受到徑向?qū)嵸|(zhì)支撐，且為包括定位部、閥針的擠出構(gòu)件上所受的唯一徑向?qū)嵸|(zhì)支撐； 一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中； 該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件的定位部進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件的閥針將液室中液材擠出。
25.如權(quán)利要求24所述的液材擠出裝置，其特征在于，該柱塞座上方設(shè)有一微調(diào)室，其中設(shè)有一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)，該微調(diào)室與樞孔相通；定位部與樞軸部段差處形成一第一限位部，定位部及第一限位部并凸伸于該微調(diào)室。
26.如權(quán)利要求24所述的液材擠出裝置，其特征在于，該閥針與樞軸部段差處形成一第二限位部，第二限位部與該樞孔一限縮的頸部間閥針軸徑上套設(shè)一彈性元件。
27.如權(quán)利要求24所述的液材擠出裝置，其特征在于，該柱塞座下方外圓周設(shè)有一聯(lián)結(jié)部，其設(shè)有外螺紋，聯(lián)結(jié)部下方形成向下凸伸的對位部，該對位部同時形成樞孔的外圓周。
28.如權(quán)利要求24所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件的閥針形成一軸徑較大的密封段及一軸徑較小的擠出段，其特征在于，該密封段供與油封樞設(shè)，擠出段則于液室中供擠出液材。
29.—種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊；該柱塞座上方設(shè)有一微調(diào)室，其中設(shè)有一第二微調(diào)機(jī)構(gòu)； 一液室模塊，包括一液室座，該液室座設(shè)有可輸入液材的液室，該擠出構(gòu)件一端位于該液室中； 該沖擊構(gòu)件在第二微調(diào)機(jī)構(gòu)中對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件閥針將液室中液材擠出。
30.如權(quán)利要求29所述液材擠出裝置，其特征在于，該第二微調(diào)機(jī)構(gòu)包括一限制件，用以限制擠出構(gòu)件位移的上限定位，其設(shè)有一中空的撞擊室，所述擠出構(gòu)件伸于該撞擊室中，并與該驅(qū)動機(jī)構(gòu)的沖擊構(gòu)件在撞擊室中接觸及進(jìn)行撞擊。
31.如權(quán)利要求30所述的液材擠出裝置，其特征在于，該第二微調(diào)機(jī)構(gòu)包括一調(diào)節(jié)座，其設(shè)有一螺轉(zhuǎn)部，其可供該限制件螺設(shè)其特征在于，調(diào)節(jié)座另設(shè)有多個定位元件所構(gòu)成的設(shè)定部，用以設(shè)定該限制件于調(diào)節(jié)座上的定位。
32.—種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊； 一液室模塊，包括一液室座，其藉第一環(huán)罩使液室座與該柱塞機(jī)構(gòu)的柱塞座聯(lián)結(jié)；液室座中設(shè)有中空的液室，該液室上方形成凹設(shè)的接口，液室座藉該接口與柱塞座嵌接，使液室與柱塞座的樞孔相通，使所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中； 該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材擠出。
33.如權(quán)利要求32所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件以一軸封與液室間密封，柱塞座的部份樞孔空間形成一開放性液室，其與液室對應(yīng)并位于軸封所封閉的液室夕卜，液室座設(shè)有溢氣道對應(yīng)該開放性液室使與外部相通。
34.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊； 一液室模塊，包括一液室座，液室座中設(shè)有中空的液室，所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中；液室下方形成一出口端，該處形成同心設(shè)置的位于外圈的第一環(huán)座及位于內(nèi)圈的第二環(huán)座，該位于內(nèi)圈的第二環(huán)座長度較短而使第一環(huán)座及第二環(huán)座底端間形成一容置空間，一開有擠出流道的閥座設(shè)于該容置空間中； 該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材自閥座的擠出流道擠出。
35.如權(quán)利要求34所述的液材擠出裝置，其特征在于，該閥座上設(shè)有擠出部，擠出部下方設(shè)有一管座，管座中設(shè)有第一擠出流道，其具有第一孔徑，該第一擠出流道中固設(shè)一針管，該針管一部份固設(shè)于第一擠出流道內(nèi)徑，一部份向下凸伸于管座及第一擠出流道外，針管中形成一第二擠出流道，其具有第二孔徑。
36.如權(quán)利要求35所述液材擠出裝置，其特征在于，該管座周緣環(huán)設(shè)一保護(hù)座，其向下凸伸多個相間隔并共同圍設(shè)針管周緣的護(hù)腳，閥座、管座、針管三者固設(shè)成一體，并受一第二環(huán)罩扣罩而定位于液室座底部出口端。
37.一種液材擠出裝置，其特征在于，包括: 一驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括一受驅(qū)動進(jìn)行往復(fù)位移的沖擊構(gòu)件，其為實心的構(gòu)件； 一柱塞機(jī)構(gòu)，包括一柱塞座，其內(nèi)設(shè)有一樞孔，樞孔中設(shè)有一擠出構(gòu)件，其可受沖擊構(gòu)件撞擊并為實心的構(gòu)件； 一液室模塊，包括一液室，所述柱塞機(jī)構(gòu)的擠出構(gòu)件伸入液室中； 該沖擊構(gòu)件對擠出構(gòu)件進(jìn)行沖擊，使擠出構(gòu)件將液室中液材擠出。
38.如權(quán)利要求37所述的材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件為未與任何構(gòu)件連結(jié)并具有自由滑動位移的單體構(gòu)件。
39.如權(quán)利要求37所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件在液室外受一限制件限制位移上限定位，及受一彈性元件作用提供回復(fù)力。
40.如權(quán)利要求37所述的液材擠出裝置，其特征在于，該擠出構(gòu)件上端被撞擊部位形成凸面，使撞擊力量集中于擠出構(gòu)件的中心軸線。
41.如權(quán)利要求37所述的液材擠出裝置，其特征在于，該沖擊構(gòu)件與擠出構(gòu)件進(jìn)行撞擊的部位，位于周圍被圈圍但非密封的空間中。
42.如權(quán)利要求37項所述液材擠出裝置，其特征在于，該沖擊構(gòu)件以其最底端與擠出構(gòu)件的最上端進(jìn)行撞擊接觸。
【文檔編號】B05B12/00GK204261844SQ201420612988
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月1日
【發(fā)明者】廖益群, 吳佳霖, 黃博道 申請人:萬潤科技股份有限公司