一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種拋光液及其制備方法，尤其涉及一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]拋光時表面處理常用的方法之一，目的是為了消除表面的細(xì)微不平，使得表面具有鏡面光澤。拋光不但能美化產(chǎn)品，還是保證產(chǎn)品質(zhì)量、延長使用壽命及發(fā)展新品種的重要手段，有時也能起到產(chǎn)品升值的作用。
[0003]拋光可以分為機(jī)械拋光、化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光，拋光液主要用于化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光。機(jī)械拋光主要利用的是拋光輪與拋光膏的精細(xì)磨料對零件進(jìn)行輕微切削和研磨，除去基體表面的細(xì)微不平，達(dá)到降低表面粗糙度的目的。拋光膏是由磨料和油脂兩大部分組成的，由于所用的磨料不同，油脂種類的差異，使拋光膏形成了多種不同的產(chǎn)品，使用在不同的場合。
[0004]化學(xué)拋光時金屬表面上微觀的凸起處在化學(xué)拋光液中的溶解速度比在微觀凹下去處的快，結(jié)果表面逐漸整平而獲得光滑、光亮表面的過程。
[0005]電化學(xué)拋光是對金屬制品表面進(jìn)行精加工的一種電化學(xué)方法，即把金屬工件置于所組成的電拋光液中，作為陽極進(jìn)行處理，降低工件表面微觀結(jié)構(gòu)的粗糙度，從而獲得鏡面般的光澤表面。一般對于難以用機(jī)械、化學(xué)方式拋光的或形狀較為復(fù)雜且光潔度要求高的工件多采用電化學(xué)拋光。
[0006]現(xiàn)有的拋光液為酸性，具有一定的腐蝕性，應(yīng)用于計算機(jī)硬盤時容易對計算機(jī)硬盤的邊緣產(chǎn)生損傷，且容易影響拋光機(jī)的壽命。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能夠不對計算機(jī)硬盤的邊緣產(chǎn)生損傷的拋光液。
[0008]本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是包括按重量份計:離子水15?25份、氧化劑2?5份、有機(jī)絡(luò)合劑3?6份和研磨劑65?80份；所述氧化劑為過氧醋酸、超氯酸鹽、硝酸鐵或過氧異丁酸中的至少一種，所述有機(jī)絡(luò)合劑為有機(jī)胺、有機(jī)酸或有機(jī)磷中的至少一種，所述研磨劑為氧化鎂溶膠。
[0009]—種用于計算機(jī)硬盤的拋光液的制備方法，其特征是在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)絡(luò)合劑和研磨劑，攪拌均勻，調(diào)節(jié)PH值至7?10。
[0010]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述有機(jī)胺為三乙胺或二異丁基胺。
[0011]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，還包括0.2?0.5份的表面活性劑，所述表面活性劑為磷酸鹽表面活性劑、環(huán)氧醚酯表面活性劑或磺酸鹽中的至少一種。
[0012]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，在調(diào)節(jié)PH值前加入表面活性劑，在調(diào)節(jié)PH值至7?10。
[0013]本發(fā)明采用的有益效果是:本發(fā)明組分形成中性及堿性的拋光液，采用低硬度的研磨劑的方法來提高拋光效果，大大降低了對硬盤邊緣的拋光損失，且對拋光機(jī)沒有任何腐蝕效應(yīng)，增加了拋光機(jī)的壽命。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面實(shí)施例，對本發(fā)明做進(jìn)一步的說明。
[0015]實(shí)施例1:一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，包括按重量份計:離子水15份、氧化劑2份、有機(jī)絡(luò)合劑3份和研磨劑80份；所述氧化劑為過氧醋酸、硝酸鐵和過氧異丁酸的混合物，所述有機(jī)絡(luò)合劑為二異丁基胺，所述研磨劑為氧化鎂溶膠。
[0016]在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)絡(luò)合劑和研磨劑，攪拌均勻，調(diào)節(jié)PH值至7?10即值得本拋光液。
[0017]實(shí)施例2: —種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是包括按重量份計:離子水25份、氧化劑5份、有機(jī)絡(luò)合劑4份和研磨劑65份；所述氧化劑為過氧醋酸、超氯酸鹽、硝酸鐵和過氧異丁酸中的混合物，所述有機(jī)絡(luò)合劑為有機(jī)胺和有機(jī)磷中的混合物，所述研磨劑為氧化鎂溶膠，還包括0.5份的表面活性劑，所述表面活性劑為磷酸鹽表面活性劑和磺酸鹽的混合物。
[0018]在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)絡(luò)合劑、表面活性劑和研磨劑，攪拌均勻，調(diào)節(jié)PH值至7?10即值得本拋光液
實(shí)施例3: —種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是包括按重量份計:離子水20份、氧化劑3份、有機(jī)絡(luò)合劑4份和研磨劑72份；所述氧化劑為過氧醋酸，所述有機(jī)絡(luò)合劑為有機(jī)酸，所述研磨劑為氧化鎂溶膠，還包括0.5份的表面活性劑，所述表面活性劑為磺酸鹽。
[0019]在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)絡(luò)合劑、表面活性劑和研磨劑，攪拌均勻，調(diào)節(jié)PH值至7?10即值得本拋光液。
[0020]本發(fā)明組分形成中性及堿性的拋光液，采用低硬度的研磨劑的方法來提高拋光效果，大大降低了對硬盤邊緣的拋光損失，且對拋光機(jī)沒有任何腐蝕效應(yīng)，增加了拋光機(jī)的壽命O
[0021]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)知曉，本發(fā)明的保護(hù)方案不僅限于上述的實(shí)施例，還可以在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上進(jìn)行各種排列組合與變換，在不違背本發(fā)明精神的前提下，對本發(fā)明進(jìn)行的各種變換均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是包括按重量份計:離子水15?25份、氧化劑2?5份、有機(jī)絡(luò)合劑3?6份和研磨劑65?80份；所述氧化劑為過氧醋酸、超氯酸鹽、硝酸鐵或過氧異丁酸中的至少一種，所述有機(jī)絡(luò)合劑為有機(jī)胺、有機(jī)酸或有機(jī)磷中的至少一種，所述研磨劑為氧化鎂溶膠。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是所述有機(jī)胺為三乙胺或二異丁基胺。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是還包括0.2?0.5份的表面活性劑，所述表面活性劑為磷酸鹽表面活性劑、環(huán)氧醚酯表面活性劑或磺酸鹽中的至少一種。4.一種如權(quán)利要求1所述用于計算機(jī)硬盤的拋光液的制備方法，其特征是在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)絡(luò)合劑和研磨劑，攪拌均勻，調(diào)節(jié)PH值至7?10。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液的制備方法，其特征是在調(diào)節(jié)PH值前加入表面活性劑，在調(diào)節(jié)PH值至7?10。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于計算機(jī)硬盤的拋光液，其特征是包括按重量份計：離子水15～25份、氧化劑2～5份、有機(jī)絡(luò)合劑3～6份和研磨劑65～80份；所述氧化劑為過氧醋酸、超氯酸鹽、硝酸鐵或過氧異丁酸中的至少一種，所述有機(jī)絡(luò)合劑為有機(jī)胺、有機(jī)酸或有機(jī)磷中的至少一種，所述研磨劑為氧化鎂溶膠。本發(fā)明組分形成中性及堿性的拋光液，采用低硬度的研磨劑的方法來提高拋光效果，大大降低了對硬盤邊緣的拋光損失，且對拋光機(jī)沒有任何腐蝕效應(yīng)，增加了拋光機(jī)的壽命。
【IPC分類】C09G1/02
【公開號】CN105086834
【申請?zhí)枴緾N201410792152
【發(fā)明人】李立群
【申請人】李立群
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2014年12月19日