2與實施例1的區(qū)別在于：16%重量的硫酸；7%重量的硝酸；0. 1%重量的醋酸； 1%的添加劑；余量的水。
[0019] 實施例3 實施例3與實施例1的區(qū)別在于：9%重量的硫酸；15%重量的硝酸；5%重量的醋酸； 0. 5%的添加劑；余量的水。
[0020] 實施例4 實施例4W實施例3為基礎(chǔ)，實施例4與實施例3的區(qū)別在于其中含有醋鹽型雙子表面 活性劑，相應(yīng)的減少余量水的含量。占ITO蝕刻液0. 5%重量百分比的陰離子雙子表面活性 劑包含雙十二烷氧基雙憐酸鋼鹽、對苯二甲基雙十二烷基憐酸醋鐘鹽和對苯二甲基雙十六 烷基憐酸醋鐘鹽，其中對苯二甲基雙十二烷基憐酸醋鐘鹽和對苯二甲基雙十六烷基憐酸醋 鐘鹽的重量之和與雙十二烷氧基雙憐酸鋼鹽的重量比為2:1。 陽OW實施例5 實施例5與實施例4的區(qū)別在于，占ITO蝕刻液0. 5%重量百分比的陰離子雙子表面活 性劑包含雙十二烷氧基雙憐酸鐘鹽和鋼鹽、對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋鋼鹽，雙十二燒氧 基雙憐酸鐘鹽和鋼鹽的重量之和與對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋鋼鹽的重量比為1:10。 陽0巧 實施例6 實施例6與實施例4的區(qū)別在于，占ITO蝕刻液0. 5%重量百分比的陰離子雙子表面活 性劑包含雙十二烷氧基雙憐酸鐘鹽和對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋鋼鹽，兩種物質(zhì)的重量之 比為3:10。 陽〇2引實施例7 實施例7與實施例6的區(qū)別在于，ITO蝕刻液中還含有烷基酪聚氧乙締酸，相應(yīng)的減 少余量水的含量。烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蝕刻液的重量百分比為 0. 2%。烷基酪聚氧乙締酸具體為壬基酪聚氧乙締酸。
[0024] 實施例8 實施例8與實施例7的區(qū)別在于，烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蝕刻 液的重量百分比為0. 6%。烷基酪聚氧乙締酸具體為二壬基酪聚氧乙締酸。 陽〇2引 實施例9 實施例9與實施例7的區(qū)別在于：烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蝕刻 液的重量百分比為0.4%。烷基酪聚氧乙締酸具體為壬基酪聚氧乙締酸二壬基酪聚氧乙締酸 重量比1:1混合而成。 陽0%] 實施例10 實施例10與實施例9的區(qū)別在于，ITO蝕刻液中還含有抑霧劑，具體為油酸咪挫嘟，相 應(yīng)的減少余量水的含量。油酸咪挫嘟占高世代平板用ITO蝕刻液的重量百分比為1%。 [0027] 實施例11 實施例11與實施例10的不同在于，ITO蝕刻液中的抑霧劑為油酸咪挫嘟和環(huán)燒酸咪 挫嘟2:1混合而成，抑霧劑占高世代平板用ITO蝕刻液的重量百分比為3%。 陽0測對比例（簡稱D) 對比例1不加入雙子表面活性劑，其他組分含量與實施例4相同。
[0029] 將實施例1-11和對比例1所得ITO蝕刻液配置完成后，分別對試樣進(jìn)行蝕刻處 理，測量計算各試樣的蝕刻速率，并且通過視覺觀察蝕刻過程中酸霧和液面二氧化氮濃度 (酸霧和液面二氧化氮濃度及酸揮發(fā)量I-III級分級表示，I-III級酸霧和液面二氧化氮濃 度逐漸增多）
實施例3與實施例4、7、10之間對比發(fā)現(xiàn)，雙子表面活性劑的加入可W優(yōu)化蝕刻液的潤 濕滲透能力和抑霧能力，采用多種表面活性劑進(jìn)行復(fù)配還可對蝕刻液的潤濕滲透能力和抑 霧能力起到一定的增效作用。
[0030] 抑霧劑還可W采用現(xiàn)有技術(shù)中常用的抑霧劑產(chǎn)品代替。
[0031] 對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋、對苯二甲基雙十二烷基憐酸醋和對苯二甲基雙十六 烷基憐酸醋對應(yīng)的鐘鹽和鋼鹽具體指的憐酸醋鹽選擇范圍為：對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋 鐘鹽、對苯二甲基雙辛烷基憐酸醋鋼鹽、對苯二甲基雙十二烷基憐酸醋鐘鹽、對苯二甲基雙 十二烷基憐酸醋鋼鹽、對苯二甲基雙十六烷基憐酸醋鐘鹽、對苯二甲基雙十六烷基憐酸醋 鋼鹽。
[0032] W上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人 員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可W做出若干改進(jìn)和潤飾，運(yùn)些改進(jìn)和潤飾 也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1. 一種高世代平板用ITO蝕刻液，其特征在于，其組分按重量百分比計包括： (1) 4~16%重量的硫酸； (2) 7~22%重量的硝酸； (3) 0. 1~10%重量的醋酸； (4) 0· 01~5%的添加劑； (5) 余量的水； 其中，所述添加劑中包含陰離子雙子表面活性劑，所述陰離子雙子表面活性劑為磷酸 鹽型雙子表面活性劑和/或磷酸酯鹽型雙子表面活性劑。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，其組分按重量百分比 計包括： (1) 7~12%重量的硫酸； (2) 11~18%重量的硝酸； (3) 3~7%重量的醋酸； (4) 0· 5~2%的添加劑； (5) 余量的水； 所述添加劑中雙子表面活性劑的重量占高世代平板用ΙΤ0蝕刻液的重量百分比為 0· 01 ~1%〇3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述磷酸鹽型雙子表 面活性劑為選自雙十二烷氧基雙磷酸鈉鹽和鉀鹽中的至少一種，所述磷酸酯鹽型雙子表面 活性劑為選自對苯二甲基雙辛烷基磷酸酯、對苯二甲基雙十二烷基磷酸酯和對苯二甲基雙 十六烷基磷酸酯對應(yīng)的鉀鹽和鈉鹽中的至少一種。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述添加劑還包括 烷基酚聚氧乙烯醚，烷基酚聚氧乙烯醚的重量占高世代平板用ΙΤ0蝕刻液的重量百分比為 0. 2 ~0. 6%。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述烷基酚聚氧乙烯 醚為選自壬基酚聚氧乙烯醚和二壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一種。6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述添加劑中包含磷 酸鹽型雙子表面活性劑和磷酸酯鹽型雙子表面活性劑，磷酸鹽型雙子表面活性劑和磷酸酯 鹽型雙子表面活性劑的重量之比為（1~5) : 10。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述添加劑中還含有 抑霧劑。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述酸洗抑霧劑為咪 唑啉型緩蝕劑。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的高世代平板用ΙΤ0蝕刻液，其特征在于，所述酸洗抑霧劑為選 自油酸咪唑啉和環(huán)烷酸咪唑啉中的至少一種。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高世代平板用ITO蝕刻液，其組分按重量百分比計包括：4～16%重量的硫酸、7～22%重量的硝酸、0.1～10%重量的醋酸、0.01～5%的添加劑、余量的水；其中，所述添加劑中包含陰離子雙子表面活性劑，所述陰離子雙子表面活性劑為磷酸鹽型雙子表面活性劑和/或磷酸酯鹽型雙子表面活性劑。采用硫酸/硝酸/醋酸三酸系的ITO蝕刻體系，通過添加雙子表面活性劑，解決了蝕刻ITO過程中的酸霧揮發(fā)、蝕刻表面溫度局部升高硝酸分解的問題，提高了蝕刻液的工作穩(wěn)定性，蝕刻所得線路邊緣清晰無側(cè)蝕，無針孔和缺口產(chǎn)生。
【IPC分類】C09K13/06
【公開號】CN105295923
【申請?zhí)枴緾N201510832036
【發(fā)明人】邵勇, 殷福華, 欒成, 趙文虎, 李英, 朱龍, 顧玲燕
【申請人】江陰江化微電子材料股份有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年11月25日