專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有使液晶顯示裝置(LCD)用玻璃基板、等離子顯示器(PDP)用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、印刷電路板、電子器件基板等基板旋轉(zhuǎn)的同時，進行基板的清洗、蝕刻、顯影、成膜等處理的基板旋轉(zhuǎn)處理單元的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
例如，在LCD等平板顯示器(FPD)用基板的光蝕刻工序中，使基板保持水平狀態(tài)并以垂直軸為中心進行旋轉(zhuǎn)，同時分別進行使用了氟酸的光蝕刻、利用純水的漂洗以及烘干等各項基板處理。但是，近年來隨著基板的尺寸變大，而根據(jù)上述的旋轉(zhuǎn)方式進行全部的處理逐漸地變得困難。因此，提出了以下方法關(guān)于光蝕刻處理及漂洗處理，以采用藥液的處理效率高的旋轉(zhuǎn)方式進行各自的處理，而對于基板的烘干處理，以相比于旋轉(zhuǎn)方式對基板的損傷少的平送方式、即支撐基板向水平方向輸送的同時通過風刀對基板除水及烘干的方式進行該處理。這樣的方法中，需要水平輸送基板的裝置，例如需要將基板從輥式輸送機轉(zhuǎn)裝到基板旋轉(zhuǎn)處理單元，或者，將基板從基板旋轉(zhuǎn)處理單元轉(zhuǎn)裝到輥式輸送機上。
作為進行上述這樣的基板轉(zhuǎn)裝動作的機構(gòu)，從前使用的機構(gòu)的結(jié)構(gòu)為將基板旋轉(zhuǎn)處理單元配置在俯看為輥式輸送機的延長線上，以使其相鄰于輥式輸送機的端部；在輥式輸送機以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的兩側(cè)設(shè)置互相平行的一對滑軌，并設(shè)置與該滑軌卡合并由滑軌導(dǎo)向而往復(fù)移動在輥式輸送機端部與基板旋轉(zhuǎn)處理單元之間的穿梭器(シャトル)；通過該穿梭器，能夠裝卸自由地支撐基板的4個邊，并在輥式輸送機端部與基板旋轉(zhuǎn)處理單元之間移動基板。另外，設(shè)置有具有保持基板的手部及與手部相連接的臂部的運送機械手，通過該運送機械手，在輥式輸送機端部與基本旋轉(zhuǎn)處理單元之間也可以進行基板的交接(例如參照日本平成10年專利申請公開第156295號公報)。
具備使通過滑軌導(dǎo)向裝卸自由地支撐著基板的穿梭器并使其在輥式輸送機端部與基板旋轉(zhuǎn)處理單元之間往復(fù)運動的機構(gòu)的裝置，因穿梭器與滑軌滑動接觸而移動，故穿梭器移動時有可能會產(chǎn)生灰塵，另外，它不適合利用于具有使用藥液或純水而進行濕法處理的處理單元的裝置上。另外，還具有下述問題從輥式輸送機上舉起基板、特別是大型基板，或者使基板返回到輥式輸送機上的機構(gòu)以及支撐大型基板的4個邊的機構(gòu)等變得復(fù)雜。另一方面，還存在這樣的問題通過運送機械手而在輥式輸送機端部與基本旋轉(zhuǎn)處理單元之間交接基板的裝置仍不適合于濕法處理，還有，因需要揮動運送機械手的臂部的空間，故占用空間變大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述情況，其目的為提供一種基板處理裝置，在包括具有基板旋轉(zhuǎn)處理單元并從水平運送裝置往該處理單元轉(zhuǎn)裝基板的機構(gòu)的裝置中，不用擔心產(chǎn)生灰塵，在具有進行濕法處理的處理單元的裝置中也不會發(fā)生不適情況，結(jié)構(gòu)簡單，而占有空間也相對變小。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了這樣的裝置。
(1)、一種基板處理裝置，具備基板旋轉(zhuǎn)處理單元，該基板旋轉(zhuǎn)處理單元具有以垂直軸為中心而自由旋轉(zhuǎn)地被支撐著的、將基板保持為水平狀態(tài)的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，并使基板旋轉(zhuǎn)而進行處理，其特征在于，包括水平運送裝置，其將基板向水平方向直線運送；可動支撐構(gòu)件，其具有將基板支撐為水平狀態(tài)的支撐部，并以與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的方式，并以前述支撐部的基板支撐面與水平運送裝置的基板運送面成為相同高度的方式而被配置；轉(zhuǎn)裝裝置，其使基板從前述水平運送裝置的運送路徑終端部向前述可動支撐構(gòu)件上水平移動；移動裝置，其使支撐著基板的前述可動支撐構(gòu)件，從與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的位置向前述基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件上移動，前述旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件具有裝載前述可動支撐構(gòu)件的裝載面、以及從裝載在該裝載面上的前述可動支撐構(gòu)件向上方離開而保持基板的基板保持部。
(2)、如(1)所述的基板處理裝置，其特征在于，以與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的方式配置的前述可動支撐構(gòu)件，位于前述基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的正上方，前述移動裝置具有使前述可動支持構(gòu)件升降的升降機構(gòu)。
(3)、如(2)所述的基板處理裝置，其特征在于，在前述可動支撐構(gòu)件上，設(shè)置了用于插入貫通前述旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部的多個貫通孔。
(4)、如(1)至(3)中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述可動支撐構(gòu)件的支撐部為分別以旋轉(zhuǎn)自由的方式被安裝在可動支撐構(gòu)件的上表面?zhèn)鹊亩鄠€自由輥。
(5)、如(1)至(3)中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述移動裝置具有以卡合或脫離自由的方式卡合于前述可動支撐構(gòu)件而支撐可動支撐構(gòu)件的卡合支撐部。
(6)、如(1)至(3)中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述水平運送裝置是由互相平行排列的多個運送輥構(gòu)成的。
在上述(1)所述的本發(fā)明的基板處理裝置中，當通過水平運送裝置運送基板到其運送路徑的終端部時，基板通過轉(zhuǎn)裝裝置而從水平運送裝置的運送路徑的終端部水平移動，而轉(zhuǎn)裝到被配置成支撐部的基板支撐面與水平運送裝置的基板運送面成相同高度的可動支撐構(gòu)件上。當基板被可動支撐構(gòu)件的支撐部支撐著時，通過移動裝置，使支撐基板的可動支撐構(gòu)件向基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件上移動，而可動支撐構(gòu)件被裝載在旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的裝載面上，同時基板從可動支撐構(gòu)件向上方離開而被保持在旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部上。從而通過在裝載了可動支撐構(gòu)件的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件進行旋轉(zhuǎn)，從而使基板旋轉(zhuǎn)，而進行基板的處理。
因此，當采用上述(1)所述的本發(fā)明的基板處理裝置時，構(gòu)成構(gòu)件之間幾乎沒有滑動連接部分，故在將基板從水平運送裝置轉(zhuǎn)裝到基板旋轉(zhuǎn)處理單元時不用擔心產(chǎn)生灰塵，另外，在具有進行濕法處理的處理單元的裝置中也不會發(fā)生不適情況。還有，由于該基板處理裝置不具有從水平運送裝置舉起基板的機構(gòu)或支撐基板4個邊的機構(gòu)等，故結(jié)構(gòu)變得簡單，而且，由于沒有設(shè)置運送機械手，故占有空間也變得比較小。
在上述(2)所述的本發(fā)明的基板處理裝置中，可動支撐構(gòu)件位于基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的正上方，且通過升降機構(gòu)只能相對于旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件下降及上升，故占有空間變得更小。
在上述(3)所述的本發(fā)明的基板處理裝置中，當可動支撐構(gòu)件相對于基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件下降時，通過旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部插通到可動支撐構(gòu)件的貫通孔中，可動支撐構(gòu)件不與基板保持部發(fā)生干涉而被裝載在旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的裝載面上，同時基板從可動支撐構(gòu)件離開而被保持在旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部上。通過這樣的簡單的結(jié)構(gòu)，就可以實現(xiàn)向旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的裝載面上的可動支撐構(gòu)件的裝載動作和旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部的基板保持動作。
在上述(4)所述的基板處理裝置中，當通過移動裝置使基板從水平運送裝置的運送路徑終端部水平移動時，基板轉(zhuǎn)接于可動支撐構(gòu)件的自由輥而被支撐。因此，能夠不損傷基板而確實地從水平運送裝置上轉(zhuǎn)裝到可動支撐構(gòu)件上。
在上述(5)所述的本發(fā)明的基板處理裝置中，可動支撐構(gòu)件在與移動裝置的卡合支撐部卡合而被卡合支撐部支撐的狀態(tài)下，通過移動裝置被運送到基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件上，然后，通過卡合支撐部從可動支撐構(gòu)件脫離，旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件就能夠在保持可動支撐構(gòu)件的狀態(tài)下進行旋轉(zhuǎn)。通過這樣的比校簡單的機構(gòu)，可以確實地實現(xiàn)向基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件上的可動支撐構(gòu)件的移動。
在上述(6)所述的本發(fā)明的基板處理裝置中，通過多個運送輥，基板被水平輸送到與可動支撐構(gòu)件相對向的位置。


圖1表示本發(fā)明的實施形式的1例，是表示基板處理裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的俯視圖；圖2是圖1所示的基板處理裝置的側(cè)面剖視圖；圖3是作為圖1所示的基板處理裝置的構(gòu)成要件的可動支撐構(gòu)件(運送板)的俯視圖；圖4A是圖3的A-A剖視圖；圖4B是圖3的B-B剖視圖；圖4C是圖3的C-C剖視圖；圖5A～圖5C是用來說明圖1所示的基板處理裝置中的基板的轉(zhuǎn)裝動作的圖，是表示輥式輸送機的一部分的側(cè)面剖視圖；圖6同樣是表示運送板、運送板的支撐及移動機構(gòu)以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的一部分的側(cè)視圖；圖7同樣是表示運送板、運送板的支撐及移動機構(gòu)以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的一部分的側(cè)視圖；圖8同樣是表示運送板、運送板的支撐及移動機構(gòu)以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的一部分的側(cè)視圖；圖9同樣是表示運送板、運送板的支撐及移動機構(gòu)以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的一部分的側(cè)視圖；圖10同樣是表示運送板、運送板的支撐及移動機構(gòu)以及基板旋轉(zhuǎn)處理單元的一部分的側(cè)視圖。
具體實施例方式
下面，參照

本發(fā)明的最佳實施方式。
圖1至圖4表示本發(fā)明的實施形式的1例，圖1是表示基板處理裝置的主要部分的結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖2是其側(cè)面剖視圖，圖3是作為該基板處理裝置的構(gòu)成要件的可動支撐構(gòu)件(運送板)的俯視圖，圖4A是圖3的A-A剖視圖，圖4B是圖3的B-B剖視圖，圖4C是圖3的C-C剖視圖。
該基板處理裝置，具有在旋轉(zhuǎn)LCD用玻璃基板等方形的基板W的同時進行處理的基板旋轉(zhuǎn)處理單元10。在該處理單元10中進行例如使用了氟酸的光蝕刻處理、利用純水的漂洗處理等。處理單元10，具有通過旋轉(zhuǎn)支撐軸14而被支撐為水平狀態(tài)并將基板W保持為水平狀態(tài)的旋轉(zhuǎn)保持圓板12，而該旋轉(zhuǎn)保持圓板12，通過未圖示的旋轉(zhuǎn)馬達使旋轉(zhuǎn)支撐軸14旋轉(zhuǎn)，從而可在水平面內(nèi)以垂直軸為中心而旋轉(zhuǎn)。還有，處理單元10中配設(shè)了向保持在旋轉(zhuǎn)保持圓板12上的基板W的表面噴射氟酸或純水等的噴嘴等，但省略對這些的說明。
該基板處理裝置中，配設(shè)了與基板旋轉(zhuǎn)處理單元10相鄰并將基板W向水平方向直線運送的輥式輸送機16。輥式輸送機16，是由互相平行排列的多個運送輥18構(gòu)成。將平面形狀大于基板W的方形的運送板20配置在處理單元10的旋轉(zhuǎn)保持圓板12的正上方的位置，并使其與該輥式輸送機16的運送路徑的終端部相對向。
運送板20中，如圖3所示，在4個角分別各設(shè)置一對、從而設(shè)置了共8個角部貫通孔22，并在整個面上分散而設(shè)置多個小孔徑貫通孔24。另外，在運送板20的上表面的中央部分形成了直線狀的淺溝槽26。進一步，在運送板20的上表面，配設(shè)了以各自旋轉(zhuǎn)軸與溝槽26的長度方向垂直的方式而自由旋轉(zhuǎn)地安裝著的多個自由輥28。如圖4C所示，各自由輥28以從運送板20的上表面分別突出一部分的方式，而且，以全部的自由輥28的上端均位于同一個水平面內(nèi)的方式被安裝著。該運送板20，通過多個自由輥28的上端分別接觸于基板W的下表面而將基板W支撐為水平狀態(tài)。還有，運送板20以在位于如圖2所示那樣的與輥式輸送機16的運送路徑的終端部相對向的基板交接位置A時，由多個自由輥28的上端形成的基板支撐面與輥式輸送機16的基板運送面成為同一個高度的方式而被配置著。另外，運送板20的一個側(cè)面的中央部上形成了橫孔30。
在輥式輸送機16一側(cè)，在運送輥18的旋轉(zhuǎn)軸的上方側(cè)配設(shè)了細長板狀的轉(zhuǎn)裝臂部32。在轉(zhuǎn)裝臂部32的前端部及后端部的上表面，分別設(shè)置了與基板W的各端的邊卡合的卡合凸部34a、34b。轉(zhuǎn)裝臂部32，通過未圖示的支撐及移動機構(gòu)而被支撐為水平狀態(tài)，并在水平方向進行直線往復(fù)移動的同時，向上下方向進行只有微小距離的往復(fù)移動。從而轉(zhuǎn)裝臂部32構(gòu)成為，通過向水平方向的移動動作，往復(fù)移動于輥式輸送機16的運送路徑的終端部位置與設(shè)置了運送板20的基板交接位置A之間；而通過向上下方向的移動動作，往復(fù)移動于卡合凸部34a、34b和基板W的各端的邊卡合的上部位置與卡合凸部34a、34b從基板W各端的邊脫離的下部位置之間。
還有，如圖6至圖10所示，隔著運送板20而在輥式輸送機16的相反側(cè)，配設(shè)了運送板20的支撐及移動機構(gòu)36。支撐及移動機構(gòu)36包括卡合支撐桿38，其具有絲杠部，前端部以可自由卡合或脫離的方式卡合在運送板20的橫孔30中而支撐運送板20；水平驅(qū)動部40，省略對于結(jié)構(gòu)的說明，但其具有與卡合支撐桿38的絲杠部螺合的螺母部，使其以不與卡合支撐桿38共同旋轉(zhuǎn)的方式進行旋轉(zhuǎn)，而使卡合支撐桿38的前端部進入運送板20的橫孔30中或者從運送板20的橫孔30退出；以及升降驅(qū)動部42，其支撐該水平驅(qū)動部40，并使其在上下方向上往復(fù)移動。通過該支撐及移動機構(gòu)36，運送板20在和輥式輸送機16的運送路徑的終端部相對向的上方的基板交接位置A與裝載在基板旋轉(zhuǎn)處理單元10的旋轉(zhuǎn)保持圓板12上的下方的旋轉(zhuǎn)處理位置B之間往復(fù)移動。
基板旋轉(zhuǎn)處理單元10的旋轉(zhuǎn)保持圓板12，其上表面構(gòu)成為支撐運送板20的裝載面，在上表面?zhèn)仍O(shè)置了分別與基板W的各角部卡合而支撐基板W的各一對、共8個角部支撐銷44，同時在整個面上分散而設(shè)置了其上端分別與基板W的下表面接觸支撐基板W的多個下表面支撐銷46。這些各角部支撐銷44以及各下表面支撐銷46，以與設(shè)置在運送板20上的各角部貫通孔22以及各小孔徑貫通孔24的形成位置分別相對應(yīng)的位置上配置。還有，各角部支撐銷44以及各下表面支撐銷46，如圖4A及圖4B所示(支撐銷44、46以雙點劃線表示)，形成為分別插通設(shè)置于運送板20上的各角部貫通孔22以及各小孔徑貫通孔24中的大小，另外，各角部支撐銷44的基板支撐部的高度以及各下表面支撐銷46上端的高度，大于運送板20的厚度。通過具有這樣的結(jié)構(gòu)，當運送板20下降時，運送板20的各角部貫通孔22以及各小孔徑貫通孔24與旋轉(zhuǎn)保持圓板12的各角部支撐銷44以及各下表面支撐銷46分別互相不接觸，而允許進行運送板20的下降動作，從而運送板20能夠被裝載在旋轉(zhuǎn)保持圓板12上。
接著，根據(jù)圖5至圖10，說明具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中的基板W的轉(zhuǎn)裝動作。
如圖5A所示，在轉(zhuǎn)裝臂部32位于下部的狀態(tài)下，當通過輥式輸送機16而運送基板W到運送路徑的終端部位置而停止時，轉(zhuǎn)裝臂部32向上部位置移動，如圖5B所示，轉(zhuǎn)裝臂部32的卡合凸部34b與基板W的后部端邊緣卡合。然后，如圖5C所示，通過轉(zhuǎn)裝臂部32向配置運送板20的基板交接位置A側(cè)水平移動，基板W被支撐在輥式輸送機16的運送輥18上，同時被轉(zhuǎn)裝臂部32的卡合凸部34b推動后部端邊緣而向基板交接位置A移動。從而基板W從被輥式輸送機16的運送輥18支撐的狀態(tài)逐步轉(zhuǎn)換到被運送板20的自由輥28支撐的狀態(tài)，同時通過轉(zhuǎn)裝臂部32而被輸送到基板交接位置A。
如圖6所示，基板W通過轉(zhuǎn)裝臂部32而被輸送到基板交接位置A，基板W被支撐在由支撐及移動機構(gòu)36的卡合支撐桿38支撐著的運送板20的自由輥28上而停止，如圖7所示，轉(zhuǎn)裝臂部32在運送板20的溝槽26內(nèi)移動到下部位置。由此，轉(zhuǎn)裝臂部32的卡合凸部34a、34b與基板W的兩端邊的卡合狀態(tài)被解除。然后，轉(zhuǎn)裝臂部32水平移動到輥式輸送機16的運送路徑的終端部位置處，從基板交接位置A脫離。
如圖8所示，當轉(zhuǎn)裝臂部32從基板交接位置A脫離時，由在自由輥28上支撐基板W的運送板20，通過支撐及移動機構(gòu)36的升降驅(qū)動部42而被移動到基板旋轉(zhuǎn)處理單元10。然后，隨著從基板交接位置A到基板旋轉(zhuǎn)處理位置B的運送板20的下降動作，如圖9所示，基板W從運送板20的自由輥28上被轉(zhuǎn)移到旋轉(zhuǎn)保持圓板12的角部支撐銷44以及下表面支撐銷46上，而基板W由旋轉(zhuǎn)保持圓板12的角部支撐銷44以及下表面支撐銷46保持的同時，將運送板20裝載并保持在旋轉(zhuǎn)保持圓板12的上表面上。
當運送板20被保持在旋轉(zhuǎn)保持圓板12的上表面，而基板W由角部支撐銷44及下表面支撐銷46保持著時，通過支撐及移動機構(gòu)36的水平驅(qū)動部40，卡合支撐桿38向從運送板20離開的方向移動。由此，如圖10所示，卡合支撐桿38的前端部從運送板20的橫孔30中拔出，而卡合支撐桿38與運送板20的卡合狀態(tài)被解除。因此，旋轉(zhuǎn)保持圓板12變成可以旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)，而在基板旋轉(zhuǎn)處理單元10進行規(guī)定的基板處理。
當完成在基板旋轉(zhuǎn)處理單元10的基板W的處理時，通過與上述動作相反的動作，基板W從旋轉(zhuǎn)保持圓板12上被轉(zhuǎn)裝到運送板20上，并被支撐在運送板20上而從基板旋轉(zhuǎn)處理位置B移動到基板交接位置A以后，通過轉(zhuǎn)裝臂部32而從運送板20上返回到輥式輸送機16上。
本發(fā)明的基板處理裝置，如上所述構(gòu)成并進行動作，但是，基板的水平運送裝置、運送板、從水平運送裝置到運送板的基板的轉(zhuǎn)裝裝置、運送板的支撐及移動裝置等結(jié)構(gòu)，并非通過上述實施形式的內(nèi)容而被限定，而是能夠采用各種各樣的機構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，具備基板旋轉(zhuǎn)處理單元，該基板旋轉(zhuǎn)處理單元具有以垂直軸為中心而自由旋轉(zhuǎn)地被支撐著的、將基板保持為水平狀態(tài)的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，并使基板旋轉(zhuǎn)而進行處理，其特征在于，包括水平運送裝置，其將基板向水平方向直線運送；可動支撐構(gòu)件，其具有將基板支撐為水平狀態(tài)的支撐部，并以與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的方式，并以前述支撐部的基板支撐面與水平運送裝置的基板運送面成為相同高度的方式而被配置；轉(zhuǎn)裝裝置，其使基板從前述水平運送裝置的運送路徑終端部向前述可動支撐構(gòu)件上水平移動；移動裝置，其使支撐著基板的前述可動支撐構(gòu)件，從與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的位置向前述基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件上移動，前述旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件具有裝載前述可動支撐構(gòu)件的裝載面、以及從裝載在該裝載面上的前述可動支撐構(gòu)件向上方離開而保持基板的基板保持部。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，以與前述水平運送裝置的運送路徑終端部相對向的方式配置的前述可動支撐構(gòu)件，位于前述基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的正上方，前述移動裝置具有使前述可動支持構(gòu)件升降的升降機構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，在前述可動支撐構(gòu)件上，設(shè)置了用于插入貫通前述旋轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的基板保持部的多個貫通孔。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述可動支撐構(gòu)件的支撐部為分別以旋轉(zhuǎn)自由的方式被安裝在可動支撐構(gòu)件的上表面?zhèn)鹊亩鄠€自由輥。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述移動裝置具有以卡合或脫離自由的方式卡合于前述可動支撐構(gòu)件而支撐可動支撐構(gòu)件的卡合支撐部。
6.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，前述水平運送裝置是由互相平行排列的多個運送輥構(gòu)成的。
全文摘要
一種基板處理裝置，在具有將基板從水平運送裝置轉(zhuǎn)裝到基板旋轉(zhuǎn)處理單元的機構(gòu)的裝置中，不用擔心產(chǎn)生灰塵，即使進行濕法處理也不會發(fā)生不適狀況，結(jié)構(gòu)簡單，占有空間也相對較小。其具有基板旋轉(zhuǎn)處理單元(10)及輥式輸送機(16)，包括配置成與輥式輸送機運送路徑終端部相對向、使支撐基板(W)的自由輥(28)的基板支撐面與輥式輸送機的基板運送面處于相同高度的運送板(20)；使基板從輥式輸送機運送路徑終端部向運送板上水平移動的轉(zhuǎn)裝臂部(32)；將支撐基板的運送板從基板交接位置(A)向基板旋轉(zhuǎn)處理單元的旋轉(zhuǎn)保持圓板(12)上移動的支撐及移動機構(gòu)，旋轉(zhuǎn)保持圓板具有運送板的裝載面及保持基板的支撐銷(44、46)。
文檔編號B65G49/05GK1776884SQ200510108858
公開日2006年5月24日 申請日期2005年10月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月15日
發(fā)明者柴崎博 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社