專利名稱：基板盒的保持裝置及其儲(chǔ)存方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板盒的保持裝置及基板盒的儲(chǔ)存方法，尤其涉 及一種減小灰塵粘附到基板表面的盒的保持裝置以及該盒的儲(chǔ)存方 法。
現(xiàn)有技術(shù)
平板顯示器件，如液晶顯示(LCD)器件和等離子體顯示器件一 般使用一對(duì)大尺寸的玻璃基板。例如在LCD器件的情形中，在一對(duì)玻 璃基板，如陣列基板和彩色濾色器基板之間夾持了液晶材料，從而形 成LCD面板。在LCD面板的生產(chǎn)線上，使用用于儲(chǔ)存多個(gè)玻璃基板 的盒來作為一個(gè)單元儲(chǔ)存或運(yùn)送基板，從而不會(huì)降低生產(chǎn)線的處理能 力。
一般地，基板經(jīng)過各種處理步驟中的任何步驟，如薄膜形成、蝕 刻等。盒將基板容納在其內(nèi)，從而在處理設(shè)備上或從處理設(shè)備裝載或 卸載。就是說，使用盒作為將基板容納在其內(nèi)的傳送器件。在盒中， 基板以疊狀結(jié)構(gòu)設(shè)置，且每個(gè)基板都間隔開并與相鄰基板呈面對(duì)的關(guān) 系，由此基板的被處理的頂表面遠(yuǎn)離相鄰基板的被處理的底表面。在 U.S.專利No.5，890,598中示出了這種基板盒。
在其中通過若干光刻工序形成顯示元件(如像素電極、薄膜晶體 管和電路圖案)的陣列基板的陣列處理步驟中，各個(gè)處理設(shè)備需要定 期清洗。因此，儲(chǔ)存在盒內(nèi)的被處理基板的等待時(shí)間或儲(chǔ)存周期增加
了。
在較長(zhǎng)的儲(chǔ)存周期過程中，基板被處理的表面的性質(zhì)可能會(huì)發(fā)生 變化。當(dāng)灰塵粘附到被處理表面上后，被處理表面的性質(zhì)發(fā)生了變化， 也可以確定灰塵本身的移除率降低了。因此，在盒的儲(chǔ)存周期過程中， 避免灰塵粘附到基板的被處理表面上很重要。
一般地，即使玻璃基板放置在絕對(duì)無塵室中，由于下列原因灰塵 仍可粘附到基板上。就是說，當(dāng)在玻璃基板的表面上形成膜和圖案時(shí)， 玻璃基板的后表面會(huì)接觸生產(chǎn)單元的板。在該接觸的時(shí)刻，板上的灰 塵會(huì)轉(zhuǎn)移到玻璃基板的后表面上。結(jié)果，灰塵會(huì)伴隨玻璃基板。當(dāng)玻 璃基板儲(chǔ)存在盒中時(shí)，灰塵會(huì)落在與基板下側(cè)相鄰的基板的玻璃表面 上。
我們認(rèn)為，通過懸置將其垂直保持并儲(chǔ)存玻璃基板的盒能降低灰 塵粘附到基板上。然而，當(dāng)規(guī)則放置時(shí)，灰塵會(huì)粘附到玻璃基板的涂 層和圖案部分上，然而這并不是充分的方案。
參照?qǐng)D9， 一般地，每個(gè)處理基板1都設(shè)置有膜形成圖案2，例如
在玻璃板3的一個(gè)主表面上的像素電極。這種處理基板儲(chǔ)存在圖10C 所示的盒10中。
該盒10具有盒狀結(jié)構(gòu)，如圖10A到10C中所示。就是說，盒10 具有底板ll、頂板12、多個(gè)側(cè)板13、和阻止器14。側(cè)板13設(shè)置有多 個(gè)以規(guī)則間隔設(shè)置的支撐齒或板16?；?的每個(gè)外邊緣部分都由支 撐板16支撐。當(dāng)基板1通過裝載口裝載到盒10中時(shí)，阻止器14阻止 基板1在裝載口的相反側(cè)從盒IO滑出。
中心齒或板15從阻止器14凸出，從而支撐基板1。這些中心支撐 板15被設(shè)置成阻止基板1的彎曲。基板1的尺寸越大，當(dāng)基板1水平
裝載時(shí)基板中心部的彎曲越大。在該情形中，通過中心支撐板15可阻 止相鄰基板1之間的接觸。中心支撐板15還可阻止在以搖擺移動(dòng)方式 傳送盒的過程中的基板斷裂。
例如在日本特開專利申請(qǐng)No.2003-152069 (第一相關(guān)技術(shù))、日 本特開專利申請(qǐng)No.Hei 10 ( 1998) -18033 (第二相關(guān)技術(shù))、和日本 特開專利申請(qǐng)No.2002-343846 (第三相關(guān)技術(shù))中也提出了與基板盒 相關(guān)的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的典型特征是提供一種基板盒的保持裝置和基板盒 的儲(chǔ)存方法，即使對(duì)于較長(zhǎng)的儲(chǔ)存周期，其也不會(huì)使灰塵容易地粘附 到基板的處理表面。
依照本發(fā)明典型方面的基板盒的保持裝置包括用于將基板與盒保 持在一起的支撐基底。傾斜器件，其被固定到支撐基底，用于通過將 支撐基底旋轉(zhuǎn)90以上，使支撐基底繞水平軸從水平位置旋轉(zhuǎn)到過垂直 位置，其中在所述水平位置中，基板頂表面向上地設(shè)置，且其中在所 述過垂直位置，基板頂表面向下設(shè)置。
依照本發(fā)明典型方面的基板的儲(chǔ)存方法包括水平地在盒中儲(chǔ)存基 板，將盒固定在支撐基底上，以及繞旋轉(zhuǎn)軸使支撐基底旋轉(zhuǎn)到如下角 度，即基板旋轉(zhuǎn)超過90度的角度。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將從結(jié)合附圖的下列描述變得顯而易 見，其中在整個(gè)附圖中相同的參考標(biāo)記表示相同或相似的部件。


當(dāng)結(jié)合附圖時(shí)，本發(fā)明上面和其他的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將從下面 詳細(xì)的描述而變得顯而易見，其中
圖l示出了本發(fā)明第一典型實(shí)施例的基板盒的保持裝置的透視圖； 圖2A和2B分別是圖1的保持裝置的前視圖和側(cè)視圖； 圖3是顯示圖1的保持裝置旋轉(zhuǎn)超過90度時(shí)的狀態(tài)的前視圖； 圖4是顯示圖1的保持裝置旋轉(zhuǎn)180度的狀態(tài)的前視圖5是圖解在第一典型實(shí)施例的保持裝置中基板上的灰塵粘附情 況的圖表；
圖6是圖解本發(fā)明第二典型實(shí)施例的基板盒的保持裝置的透視圖； 圖7是圖6的保持裝置的前視圖8是從不同方向觀看時(shí)的圖6的保持裝置的透視圖； 圖9是圖解一般玻璃基板結(jié)構(gòu)的截面圖； 圖IOA是現(xiàn)有技術(shù)的基板盒的透視圖； 圖IOB是現(xiàn)有技術(shù)的基板盒的前視圖ioc是儲(chǔ)存玻璃基板狀態(tài)的現(xiàn)有技術(shù)的基板盒的前視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
依照本發(fā)明典型實(shí)施例的基板盒的保持裝置包括儲(chǔ)存基板的盒、 保持該盒的支撐基底和連接到該支撐基底并使支撐基底圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋
轉(zhuǎn)90度的傾斜器件。
依照本發(fā)明典型實(shí)施例的基板盒的儲(chǔ)存方法包括下列步驟將基 板幾乎水平地儲(chǔ)存在盒中；將盒固定在支撐基底上；使支撐基底繞旋 轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)90度。
如圖1中所示，用于該保持裝置的箱狀盒IO包括底板11、頂板 12、設(shè)置有齒或支撐板16的多個(gè)側(cè)板13、以及后側(cè)處的阻止器14對(duì)。 側(cè)板13在側(cè)邊緣支撐基板1。支撐板16以規(guī)則間隔設(shè)置在側(cè)板13的 每個(gè)內(nèi)表面上。當(dāng)通過裝載/卸載口將基板1裝載在盒10中時(shí)，阻止器 14阻止基板1在裝載口的相反側(cè)上從盒IO滑出。儲(chǔ)存在盒IO中的基
板1的每個(gè)外邊緣部分都由支撐板16支撐。不必說，在這些基板1的 每個(gè)頂表面上都形成有圖9的膜形成圖案2，而基板1的不受處理的底 表面不具有這種圖案。
如圖1中所示，依照第一個(gè)典型實(shí)施例的基板盒的保持裝置20包 括第一支撐基底21、第二支撐基底22、具有旋轉(zhuǎn)軸24的傾斜器件23、 第一框架部25、和第二框架部26。在初始階段，第一支撐基底21主 要支撐底板11。在初始階段，第二支撐基底22輔助地支撐盒10的側(cè) 面。第二支撐基底22具有框架形的結(jié)構(gòu)，并且，為了在視覺上辨認(rèn)盒 IO中基板的支撐情況，具有開口 222。傾斜器件23連接到第一支撐基 底21的基底中心，并繞旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)支撐基底21和22。旋轉(zhuǎn)軸24 設(shè)置成具有水平軸，該水平軸沿著大致平行于基板1到盒10的插入方 向或裝載方向延伸?？蚣懿?5和26設(shè)置在四個(gè)角，以從而利用支撐 基底21和22保持盒10。就是說，由第一支撐基底21、第二支撐基底 22、框架部25和框架部26固定并保持盒10。這里，如圖1中所示， 第---支撐基底21的框架部25具有字母"L"的形狀。第二支撐基底22 的框架部26是板狀支撐元件，如圖1中所示。此外，支撐基底21和 22不必是分離的元件，而可以是具有字母"L"形狀橫截面的整體元件。 在圖1中，第一支撐基底21被設(shè)置成支撐盒10的底板11，第二支撐 基底22被設(shè)置成支撐其中 一個(gè)側(cè)板13。
如圖3中所示，該實(shí)施例的基板盒10的保持裝置使支撐基底21 和22與盒10 —起繞傾斜器件23的旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)。在該旋轉(zhuǎn)過程中， 第一支撐基底21如此旋轉(zhuǎn)，即在旋轉(zhuǎn)開始時(shí)盒10的左側(cè)部分向上抬 起。在旋轉(zhuǎn)結(jié)束時(shí)，基板1的處理表面旋轉(zhuǎn)到超過垂直位置，從而使 處理表面面向下，由此灰塵不會(huì)粘附到頂表面，即基板的處理表面。
接下來，參照附圖描述該實(shí)施例的基板盒的儲(chǔ)存方法。與常規(guī)的 工序一樣，儲(chǔ)存在盒10中的基板1被傳送到生產(chǎn)線。該實(shí)施例的基板 盒的儲(chǔ)存方法的特征在于，將基板1儲(chǔ)存在盒10中、以超過90度的
范圍將這些基板1旋轉(zhuǎn)到水平面、在該旋轉(zhuǎn)后的狀態(tài)中對(duì)其進(jìn)行保持、 并保存。
首先，盒IO放置到支撐基底21和22上，從而盒10被固定到保
持裝置20。接下來，支撐基底21和22與盒10 —起繞傾斜器件23的 旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)90度以上，如圖3中所示。結(jié)果，所有基板的處理表 面都從水平位置旋轉(zhuǎn)到過垂直位置。就是說，形成有圖9中所示圖案2 的一個(gè)主表面面向下，從而灰塵不會(huì)粘附到基板的處理表面。
當(dāng)通常從儲(chǔ)存裝置提供基板1時(shí)，通過將基板1的圖案表面向上 放置來容納盒10。在該實(shí)施例中，當(dāng)對(duì)盒IO進(jìn)行保持、保存或傳送時(shí)， 盒10需要如此傾斜，即基板1的圖案表面面對(duì)底部。因而，為了在盒 10傾斜的狀態(tài)中牢固地將盒10固定在支撐基底21和22上，為第一支 撐基底21設(shè)置框架部25，為第二支撐基底22設(shè)置框架部26。通過第 一和第二支撐基底21和22、第一框架部25和第二框架部26的協(xié)同作 用，可利用它們牢固地保持盒10。
為了在儲(chǔ)存模式中保持盒10，鎖定旋轉(zhuǎn)軸24，從而在旋轉(zhuǎn)了僅超 過90度的預(yù)定角度之后不再旋轉(zhuǎn)。通過使用常規(guī)的固定部件，如連接 到旋轉(zhuǎn)軸24的銷栓和螺釘很容易鎖定旋轉(zhuǎn)軸24。
通過進(jìn)一步使傾斜器件23繞旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)，傾斜器件23可反轉(zhuǎn) 盒10的支撐基底21和22。在該情形中，如圖4中所示，旋轉(zhuǎn)了 180 度，基板1的處理表面面對(duì)底部。在該狀態(tài)中，基板1被保持在下述 狀態(tài)中，即基板1的處理表面的外邊緣部分由側(cè)板13的支撐板16支 撐。通過在第一支撐基底21中安裝例如致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)設(shè)備，可使盒10 旋轉(zhuǎn)并停止在任意角度。在盒10旋轉(zhuǎn)之后，第二支撐基底22主要地 支撐盒IO。在該情形中，如圖3或圖4中所示，即使盒10旋轉(zhuǎn)超過了 90度，盒10也會(huì)由支撐基底21和22以及框架部25和26支撐，因而 盒不會(huì)掉落。
對(duì)于盒10來說希望較低的旋轉(zhuǎn)速度，從而不會(huì)對(duì)基板10產(chǎn)生搖 擺運(yùn)動(dòng)。此外，當(dāng)盒10的儲(chǔ)存周期結(jié)束時(shí)，傾斜器件23反向旋轉(zhuǎn)，
通過使其回到圖1的初始狀態(tài)而取出盒10。
考慮了使用該實(shí)施例的基板盒的保持裝置20來保存基板的情形。
在第三個(gè)相關(guān)技術(shù)中，盡管是在絕對(duì)無塵室中，為了保持盒，仍需要 所謂的分隔室或緩沖器的大型儲(chǔ)存裝置。必須將絕對(duì)無塵室中的無塵 空氣引入盒中，從而保持無塵狀態(tài)。
相反，在該實(shí)施例的基板的保持裝置20中，因?yàn)楹?0繞旋轉(zhuǎn)軸 24旋轉(zhuǎn)，所以僅需要儲(chǔ)存盒IO的空間。當(dāng)使用該實(shí)施例的基板的保持 裝置保存基板1時(shí)，灰塵不會(huì)粘附到基板1的處理表面上，可由保持 裝置20保持盒10。在該實(shí)施例中，僅通過將基板的保持裝置20保存 在絕對(duì)無塵室中就可足夠干凈地保存基板1，不再需要所謂的間隔室或 緩沖器的大型儲(chǔ)存裝置，因而可減小儲(chǔ)存空間。
當(dāng)基板1較小以及盒10的儲(chǔ)存數(shù)較小，且可通過手傳送時(shí)，用手 旋轉(zhuǎn)傾斜器件23，如圖3或圖4中所示，只執(zhí)行并保持儲(chǔ)存模式。在 該情形中，不需要傾斜器件23的驅(qū)動(dòng)部件。此外，即使盒10較大， 在儲(chǔ)存基板之前也可旋轉(zhuǎn)并保存盒10。在旋轉(zhuǎn)了保持裝置之后可將盒 IO放置在支撐基底中。
在實(shí)施例中，因?yàn)榛?的處理表面被保持為面向下，所以灰塵 不會(huì)粘附到基板1的處理表面。因此，絕對(duì)無塵室就足夠了，且不需
要例如上述緩沖器的儲(chǔ)存裝置。
對(duì)于圖1的保持裝置的操作，如前面所述的，將具有基板的盒IO 放置在支撐基底21盒22上。與第三相關(guān)技術(shù)一樣，通過手進(jìn)行或通 過使用傳送機(jī)器人對(duì)這些基板1進(jìn)行裝載。當(dāng)盒IO接收到裝載玻璃基
板的信號(hào)時(shí)，驅(qū)動(dòng)傾斜器件23，并通過旋轉(zhuǎn)型致動(dòng)器旋轉(zhuǎn)盒10。在該
情形中，在支撐基底21和22中安裝傳感器，以及可接收基板1的裝
配信號(hào)，且當(dāng)其與第三相關(guān)技術(shù)類似地是疊式儲(chǔ)存器時(shí)，可通過儲(chǔ)存 位置的傳感器探測(cè)儲(chǔ)存信號(hào)。
當(dāng)盒10的儲(chǔ)存周期結(jié)束時(shí)，解除致動(dòng)器的操作，盒10返回到初 始狀態(tài)，并通過與裝載時(shí)相反的操作取出盒10。
圖5顯示下述結(jié)果的圖表，所述結(jié)果測(cè)量了在儲(chǔ)存周期過程中粘 附到玻璃基板的處理表面上的灰塵數(shù)。在相關(guān)技術(shù)的情形中，粘附到 基板表面的灰塵數(shù)是每250小時(shí)一百片，如帶有黑四邊形的虛線所示。 即使在清洗了該玻璃基板之后，剩下的灰塵數(shù)仍然接近每250小時(shí)五 十片。相對(duì)地，依照該實(shí)施例，灰塵數(shù)為每250小時(shí)十片或更少。其 顯示出粘附的灰塵數(shù)顯著減少。因而在該實(shí)施例中，通過保持在玻璃 基板旋轉(zhuǎn)超過90度的狀態(tài)中，可以確保粘附到基板處理表面的灰塵接 近于零。
接下來，將參照附圖描述依照第二個(gè)典型實(shí)施例的基板的保持裝 置和儲(chǔ)存方法。如圖6中所示，基板盒的保持裝置20a包括第一支撐基 底21、第二支撐基底22a、具有旋轉(zhuǎn)軸24的傾斜器件23a、第一框架 部25和第二框架部26a。第一支撐基底21支撐用于儲(chǔ)存玻璃基板的盒 10的底板11。第二支撐基底22a支撐盒10的后側(cè)。傾斜器件23a設(shè)置 在第一支撐基底21的基底中心并使支撐基底21和22a繞旋轉(zhuǎn)軸24旋 轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸24設(shè)置成具有水平軸，該水平軸大致垂直于基板1到盒10 的插入方向或裝載方向延伸?？蚣懿?5和26a設(shè)置在每個(gè)支撐基底21 和22a的四個(gè)角，從而支撐盒IO。盒10固定并保持在由第一支撐基底 21、第二支撐基底22a、框架部25和框架部26a包圍的空間中。在該 實(shí)施例中，基板盒的保持裝置20a使玻璃基板向著盒IO的后側(cè)旋轉(zhuǎn)， 如圖6中所示，而不是像圖1 一樣在橫向方向上旋轉(zhuǎn)。換句話說，在 旋轉(zhuǎn)開始時(shí)，靠近盒10裝載/卸載口的第一支撐基底21的端部抬起。
在該實(shí)施例中，盡管盒10由支撐基底21盒22a支撐，但支撐基底22a 可設(shè)置在第一支撐基底21的后側(cè)?？蚣懿?5和26a具有字母"L"的 形狀，設(shè)置在四個(gè)角上以支撐盒10。
在該實(shí)施例的基板盒的保持裝置20a中，在盒IO設(shè)置到支撐基底 21和22a的狀態(tài)中，支撐基底21和22a與具有基板盒10 —起繞傾斜 器件23a的旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)。結(jié)果，第一支撐基底21在盒10的后方向 上旋轉(zhuǎn)。換句話說，其是下述的一種旋轉(zhuǎn)，即通過將盒10后側(cè)處的阻 止器14-一側(cè)向下拉所導(dǎo)致的旋轉(zhuǎn)。
該實(shí)施例的儲(chǔ)存方法的特征在于，將基板1儲(chǔ)存在盒10中、以超 過90度的范圍將這些基板1旋轉(zhuǎn)到水平面、在該旋轉(zhuǎn)后的狀態(tài)中保持 基板、并保存。
首先，將其中儲(chǔ)存有基板1的盒IO設(shè)置到支撐基底21和22a上， 并將盒10固定在保持裝置20a上。接下來，支撐基底21和22與盒10 一起繞旋轉(zhuǎn)軸24旋轉(zhuǎn)。在該旋轉(zhuǎn)過程中，如圖6中所示，繞中心設(shè)置 在第一支撐基底21中心部分的傾斜器件23a的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。理想的是， 通過旋轉(zhuǎn)90度以上來設(shè)置這些基板盒10的旋轉(zhuǎn)角度，使基板1的表 面面向下，從而與第一個(gè)實(shí)施例的情形一樣，灰塵不會(huì)粘附到基板表 面的處理表面上。就是說，理想的是將其保持并保存在下述狀態(tài)中， 即其中基板的處理表面面向下。當(dāng)支撐基底21和22a旋轉(zhuǎn)到后側(cè)時(shí)， 基板1有阻止器14支撐，且盒10主要由第二支撐基底22a保持。
對(duì)于盒10的旋轉(zhuǎn)方向，理想的是如此旋轉(zhuǎn)，即旋轉(zhuǎn)軸平行于基板 1的長(zhǎng)邊。這是因?yàn)?，基板l的移動(dòng)變得穩(wěn)定。當(dāng)盒10旋轉(zhuǎn)時(shí)，為了 使其繞平行于基板1長(zhǎng)邊的軸旋轉(zhuǎn)，應(yīng)適當(dāng)設(shè)置盒10的結(jié)構(gòu)以及盒10 安裝到保持裝置20a的方向。
當(dāng)使用依照該實(shí)施例的基板盒的保持裝置和儲(chǔ)存方法時(shí)，在儲(chǔ)存
模式過程中粘附的灰塵數(shù)量顯著降低，這與第一個(gè)典型實(shí)施例一樣。
依照本發(fā)明典型實(shí)施例的基板盒的儲(chǔ)存方法包括下述步驟直接 將上述基板的保持裝置放置并保存在絕對(duì)無塵室中。
本發(fā)明可應(yīng)用于顯示面板基板和如上所述基板的保持裝置的儲(chǔ)存 方法。通常，其不僅適用于玻璃基板，而且還適用于使用如下基板盒 的器件，所述基板盒用于儲(chǔ)存片狀基板，如塑料板、陶瓷基板和半導(dǎo) 體晶片。
盡管結(jié)合特定優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)當(dāng)理解到，本發(fā) 明所包含的主題并不限于這些具體的實(shí)施例。相反，本發(fā)明的主題包 括所有可選擇的方案、修改方案和等價(jià)方案，這都包含在下面權(quán)利要 求的精神和范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板盒的保持裝置，包括用于儲(chǔ)存多個(gè)基板的盒；用于保持該盒的支撐基底；和固定到支撐基底的傾斜器件，用于通過將支撐基底旋轉(zhuǎn)90度以上，使支撐基底圍繞水平軸從其中基板頂表面向上設(shè)置的水平位置旋轉(zhuǎn)到其中基板頂表面向下設(shè)置的過垂直位置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板盒的保持裝置，其中傾斜器件設(shè)置 有在所述水平軸方向上延伸的旋轉(zhuǎn)軸。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板盒的保持裝置，其中所述盒包括底板、 頂板和在底板與頂板之間延伸的側(cè)板，以及側(cè)板設(shè)置有從該側(cè)板凸出的支 撐齒，從而支撐基板，其中通過露出所述齒的開口插入該基板。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板盒的保持裝置，其中傾斜器件使支 撐基底圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)大約180度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板盒的保持裝置，其中支撐基底通過 支撐盒的底部和側(cè)邊來保持所述盒。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板盒的保持裝置，其中支撐基底包括 支撐盒的底部的第一支撐基底、和支撐盒的側(cè)邊的第二支撐基底。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板盒的保持裝置，其中旋轉(zhuǎn)軸大致平 行于基板到盒的插入方向。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板盒的保持裝置，其中支撐基底通過 支撐盒的底部和后部來保持所述盒。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板盒的保持裝置，其中支撐基底包括 支撐盒的底部的第一支撐基底、和支撐盒的后部的第二支撐基底。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板盒的保持裝置，其中旋轉(zhuǎn)軸大致垂直于基板到盒的插入方向。
11. 一種基板盒的儲(chǔ)存方法，包括下述步驟 幾乎水平地在基板盒中儲(chǔ)存基板； 將盒固定在支撐基底上；和圍繞旋轉(zhuǎn)軸使支撐基底旋轉(zhuǎn)，直到基板旋轉(zhuǎn)了 90度或更大。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中盒形成為箱狀結(jié)構(gòu)，其具有底板、頂板和多個(gè)支撐體，且所述盒在多個(gè)支撐體之 間儲(chǔ)存多個(gè)基板。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中傾斜器件使 支撐基底圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)大約180度。
14. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中支撐基底通 過支撐盒的底部和側(cè)邊來保持所述盒。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中傾斜器件是 可固定的，其中支撐基底在盒的側(cè)邊的方向上旋轉(zhuǎn)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中支撐基底通 過支撐盒的底部和后部來保持所述盒。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板盒的儲(chǔ)存方法，其中傾斜器件是 可固定的，其中支撐基底在盒的后部的方向上旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
基板盒的保持裝置包括用于保持具有基板的盒的支撐基底。傾斜器件固定到支撐基底，用于通過將支撐基底旋轉(zhuǎn)90以上，使支撐基底繞水平軸從其中基板頂表面向上設(shè)置的水平位置旋轉(zhuǎn)到其中基板頂表面向下設(shè)置的過垂直位置?；搴械膬?chǔ)存方法包括幾乎水平地在盒中儲(chǔ)存基板、將盒固定在支撐基底上、和繞旋轉(zhuǎn)軸使支撐基底如此旋轉(zhuǎn)，即基板旋轉(zhuǎn)到超過90度的角度。
文檔編號(hào)B65D85/86GK101097879SQ200710127840
公開日2008年1月2日 申請(qǐng)日期2007年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月29日
發(fā)明者元島秀人, 山下正美, 飯尾善秀 申請(qǐng)人:Nec液晶技術(shù)株式會(huì)社