專(zhuān)利名稱(chēng)：一種真空吸取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空吸取技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于沖壓薄板生產(chǎn)領(lǐng)域中的真空吸取
>J-U裝直。
背景技術(shù)：
在沖壓薄板的生產(chǎn)領(lǐng)域常常使用真空吸取裝置進(jìn)行薄板的吸取?，F(xiàn)有技術(shù)中，真空發(fā)生裝置主要有兩種一種是利用真空泵產(chǎn)生，這種真空泵利用機(jī)械原理，將電能轉(zhuǎn)化為定子的動(dòng)能，定子高速旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)葉片，葉片的不斷旋轉(zhuǎn)使得殼體內(nèi)的容積不斷發(fā)生變化，促使空氣的排除和吸入加快，行成真空。這種真空泵體積大，質(zhì)量重，噪音大，耗能高；另一種是采用文丘里原理產(chǎn)生真空的真空發(fā)生器，它相比真空泵而言體積小，質(zhì)量輕，但是結(jié)構(gòu)一樣比較復(fù)雜，工藝難度高；且在產(chǎn)品表面有臟污或雜屑的情況下則還需要增加過(guò)濾裝置。當(dāng)這兩種真空發(fā)生裝置要達(dá)到吸取產(chǎn)品的目的還需要有真空吸盤(pán)的配合，這樣在一些表面有臟污或者安裝位置有限的情況下，它們的作用就會(huì)大打折扣。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供帶有真空發(fā)生模塊的吸取裝置。本發(fā)明提供的一種真空吸取裝置是這樣的，包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔；
真空發(fā)生塊內(nèi)部具有進(jìn)氣通道、導(dǎo)流通道及射流通道；進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道連通；真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分、封閉的第二部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第三部分；
所述進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口位于第一部分空腔內(nèi)；所述導(dǎo)流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的進(jìn)氣口位于第二部分空腔內(nèi)，射流通道的出氣口位于第三部分空腔內(nèi)，且射流通道的出氣口口徑小于其進(jìn)氣口口徑；
彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。優(yōu)選地，所述吸取主體為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)；所述第一部分空腔與第二部分空腔均為圓柱體形狀，且第一部分空腔的底面半徑小于第二部分空腔的底面半徑；第三部分空腔為上底面半徑大于第二部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第三部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑；
真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部固定連接或一體成型；上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑；所述進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道均位于上部；射流通道位于下部。優(yōu)選地，所述進(jìn)氣通道為圓柱形。優(yōu)選地，所述導(dǎo)流通道為開(kāi)設(shè)在進(jìn)氣通道側(cè)壁上的通孔。優(yōu)選地，所述導(dǎo)流通道數(shù)量為2，兩個(gè)導(dǎo)流通道的中心軸線在同一條直線上。
優(yōu)選地，射流通道數(shù)量大于1，各個(gè)射流通道出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部的側(cè)壁一周，各個(gè)射流通道的進(jìn)氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部上底面邊沿的一周。本發(fā)明還提供了另一種真空吸取裝置，包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔；
真空發(fā)生塊的內(nèi)部具有一個(gè)進(jìn)氣通道及射流通道；進(jìn)氣通道與射流通道連通；
真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第二部分；
所述進(jìn)氣通道的出氣口位于第一部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口口徑小于進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口口徑； 彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。優(yōu)選地，所述吸取主體為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)；所述第一部分空腔為圓柱體形狀；第二部分空腔為上底面半徑大于第一部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第二部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑；
真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部固定連接或一體成型；上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑。優(yōu)選地，所述進(jìn)氣通道為圓柱形。優(yōu)選地，所述射流通道為多個(gè)；各個(gè)射流通道出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部的側(cè)壁一周。綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明的有益效果是
1.將真空發(fā)生裝置與吸取的功能集于一體，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，響應(yīng)快，重量輕，成本低廉；
2.本發(fā)明的吸取效果不受被吸取物表面臟污的影響；
3.本發(fā)明不需要加裝過(guò)濾裝置，進(jìn)一步節(jié)省了成本。


本發(fā)明將通過(guò)例子并參照附圖的方式說(shuō)明，其中
圖I是本發(fā)明中吸取主體一個(gè)具體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖。圖2是本發(fā)明中真空發(fā)生塊一個(gè)具體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖。圖3是將圖2中的真空發(fā)生塊放入圖I中的吸取主體后的結(jié)構(gòu)圖。圖4是圖3的A向視圖。圖5是本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例結(jié)構(gòu)圖
圖中標(biāo)記1吸取主體；2真空發(fā)生塊；3彈性墊；4空腔上開(kāi)口 ；5導(dǎo)流通道；6射流通道；7進(jìn)氣通道；8空腔；9空腔下開(kāi)口 ；81通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的空腔部分；82密閉空腔部分；83通過(guò)下開(kāi)口與外界連通的空腔部分。
具體實(shí)施例方式本說(shuō)明書(shū)中公開(kāi)的所有特征，或公開(kāi)的所有方法或過(guò)程中的步驟，除了互相排斥的特征和/或步驟以外，均可以以任何方式組合。本說(shuō)明書(shū)(包括任何附加權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開(kāi)的任一特征，除非特別敘述，均可被其他等效或具有類(lèi)似目的的替代特征加以替換。即，除非特別敘述，每個(gè)特征只是一系列等效或類(lèi)似特征中的一個(gè)例子而已。實(shí)施例I :
本發(fā)明的真空吸取裝置一個(gè)具體實(shí)施方式
是這樣的包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊。吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔。真空發(fā)生塊內(nèi)部具有進(jìn)氣通道、導(dǎo)流通道及射流通道，其中，進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道連通。
真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分、封閉的第二部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第三部分。所述進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口于第一部分空腔內(nèi)；所述導(dǎo)流通道出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的進(jìn)氣口位于第二部分空腔內(nèi)，射流通道的出氣口位于第三部分空腔內(nèi)；且射流通道的進(jìn)氣口大于其出氣口。導(dǎo)流通道在第二部分空腔的開(kāi)口，封閉的第二部分空腔及射流通道在第二部分的開(kāi)口就構(gòu)成了連通導(dǎo)流通道與射流通道的結(jié)構(gòu)。彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。彈性墊優(yōu)選為橡膠或者優(yōu)力膠制成。壓縮空氣通過(guò)吸取主體的上開(kāi)口、真空發(fā)生塊的進(jìn)氣通道進(jìn)入真空發(fā)生塊中，壓縮空氣再通過(guò)進(jìn)氣通道進(jìn)入到導(dǎo)流通道，然后繼續(xù)流經(jīng)第二部分空腔、射流通道的進(jìn)氣口，最后由口徑較小的射流通道出氣口高速?lài)姵?。噴射出?lái)的高速氣流沿著第三部分空腔內(nèi)表面、吸取主體的下表面流動(dòng)，席卷走吸取主體底部附近的氣體，使吸取主體的下表面附近形成一定的真空度，從而在彈性墊與被吸取物接觸時(shí)達(dá)到吸住被吸取物的目的。實(shí)施例2
如圖廣4，本發(fā)明的真空吸取裝置另一個(gè)具體實(shí)施方式
是在實(shí)施例I的基礎(chǔ)上進(jìn)行了改進(jìn)，具體是這樣的將所述吸取主體設(shè)計(jì)為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)，這樣吸取主體的底面為圓形,有利于擴(kuò)大吸取面積。吸取主體內(nèi)空腔是這樣的所述第一部分空腔與第二部分空腔也均為圓柱體形狀，位于上面的第一部分空腔的底面半徑小于位于下面的第二部分空腔的底面半徑。第三部分空腔為上底面半徑大于第二部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第三部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑。真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部之間的連接關(guān)系可以是固定連接也可以是一體成型。上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑。吸取主體的第一部分空腔、第二部分空腔、第三部分空腔、真空發(fā)生塊的上部及真空發(fā)生塊的下部中心軸線基本在同一條直線上。所述進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道均位于上部；射流通道位于下部。所述進(jìn)氣通道為圓柱形，進(jìn)氣通道進(jìn)氣口位于第一部分空腔中，朝向吸取主體內(nèi)部空腔的上開(kāi)口。導(dǎo)流通道為開(kāi)設(shè)在進(jìn)氣通道側(cè)壁上的通孔，導(dǎo)流通道的出氣口朝向第二部分空腔。優(yōu)選的，所述導(dǎo)流通道數(shù)量為2，兩個(gè)導(dǎo)流通道的中心軸線在同一條直線上。所述射流通道數(shù)量大于1，各個(gè)射流通道的出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部的側(cè)壁一周，各個(gè)射流通道的進(jìn)氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部上底面邊沿的一周，射流通道的出氣口小于其進(jìn)氣口。因?yàn)檎婵瞻l(fā)生塊的下部的上底面半徑大于上部的下底面半徑，其下部的上底面必然存在一部分沒(méi)有被上部覆蓋而暴露于第二部分空腔中，所述各個(gè)射流通道的進(jìn)氣口正是均勻設(shè)置在暴露于第二部分空腔中的真空發(fā)生塊下部的上底面一周。優(yōu)選地，各個(gè)射流通道為兩個(gè)連通的圓柱體，兩個(gè)圓柱體的中心軸線具有一定的夾角，本實(shí)施例中夾角為直角。根據(jù)上述內(nèi)容本領(lǐng)域技術(shù)人員不難知曉，導(dǎo)流通道在第二部分空腔的開(kāi)口，封閉的第二部分空腔及射流通道在第二部分的開(kāi)口就構(gòu)成了連通導(dǎo)流通道與射流通道的結(jié)構(gòu)。壓縮空氣通過(guò)吸取主體的上開(kāi)口、真空發(fā)生塊的進(jìn)氣通道進(jìn)入真空發(fā)生塊中，壓縮空氣再通過(guò)進(jìn)氣通道進(jìn)入到導(dǎo)流通道，然后繼續(xù)流經(jīng)第二部分空腔、射流通道的進(jìn)氣口，最后由口徑較小的各個(gè)射流通道出氣口同時(shí)高速?lài)姵?。各路噴射出?lái)的高速氣流沿著第三部分空腔內(nèi)的斜面、吸取主體的下表面流動(dòng),卷走吸取主體底部附近的氣體,使吸取主體的下表面附近形成一定的真空度，從而在彈性墊與被吸取物接觸時(shí)達(dá)到吸住被吸取物的目 的。實(shí)施例3:
本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例是這樣的包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔。真空發(fā)生塊內(nèi)部具有進(jìn)氣通道及射流通道；進(jìn)氣通道與射流通道連通。真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第二部分。所述進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口位于第一部分空腔內(nèi)，朝向空腔的上開(kāi)口 ；射流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)。射流通道的出氣口小于進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口。彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。壓縮空氣通過(guò)吸取主體的上開(kāi)口、真空發(fā)生塊的進(jìn)氣通道進(jìn)入真空發(fā)生塊中，壓縮空氣再通過(guò)進(jìn)氣通道進(jìn)入到射流通道，由口徑較小的射流通道出氣口高速?lài)姵?。噴射出?lái)的高速氣流沿著第二部分空腔內(nèi)表面、吸取主體的下表面流動(dòng)，席卷走吸取主體底部附近的氣體，使吸取主體的下表面附近形成一定的真空度，從而在彈性墊與被吸取物接觸時(shí)達(dá)到吸住被吸取物的目的。實(shí)施例4
如圖5，本實(shí)施例是在實(shí)施例3的基礎(chǔ)上做了進(jìn)一步改進(jìn)。所述吸取主體為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)；所述第一部分空腔為圓柱體形狀；第二部分空腔為上底面半徑大于第一部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第二部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑。真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部固定連接或一體成型；上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑。所述進(jìn)氣通道為圓柱形。多個(gè)射流通道的出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部的側(cè)
壁一周。壓縮空氣通過(guò)吸取主體的上開(kāi)口、真空發(fā)生塊的進(jìn)氣通道進(jìn)入真空發(fā)生塊中，壓縮空氣再通過(guò)進(jìn)氣通道進(jìn)入到各個(gè)射流通道，由各個(gè)口徑較小的射流通道出氣口同時(shí)高速?lài)姵觥娚涑鰜?lái)的高速氣流沿著第三部分空腔內(nèi)的斜面、吸取主體的下表面流動(dòng)，席卷走吸取主體底部附近的氣體，使吸取主體的下表面附近形成一定的真空度，從而在彈性墊與被吸取物接觸時(shí)達(dá)到吸住被吸取物的目的。本發(fā)明并不局限于前述的具體實(shí)施方式
。本發(fā)明擴(kuò)展到任何在本說(shuō)明書(shū)中披露的新特征或任何新的組合，以及披露的任一新的方法或過(guò)程的步驟或任何新的組合。權(quán)利要求
1.一種真空吸取裝置，其特征在于，包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔； 真空發(fā)生塊內(nèi)部具有進(jìn)氣通道、導(dǎo)流通道及射流通道；進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道連通； 真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分、封閉的第二部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第三部分； 所述進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口位于第一部分空腔內(nèi)；所述導(dǎo)流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的進(jìn)氣口位于第二部分空腔內(nèi)，射流通道的出氣口位于第三部分空腔內(nèi)，且射流通道的出氣口口徑小于其進(jìn)氣口口徑； 彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述吸取主體為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)；所述第一部分空腔與第二部分空腔均為圓柱體形狀，且第一部分空腔的底面半徑小于第二部分空腔的底面半徑；第三部分空腔為上底面半徑大于第二部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第三部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑； 真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部固定連接或一體成型；上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑；所述進(jìn)氣通道與導(dǎo)流通道均位于上部；射流通道位于下部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣通道為圓柱形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流通道為開(kāi)設(shè)在進(jìn)氣通道側(cè)壁上的通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流通道數(shù)量為2，兩個(gè)導(dǎo)流通道的中心軸線在同一條直線上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4或5所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，射流通道數(shù)量大于1，各個(gè)射流通道出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部的側(cè)壁一周，各個(gè)射流通道的進(jìn)氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下部上底面邊沿的一周。
7.一種真空吸取裝置，其特征在于，包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔； 真空發(fā)生塊的內(nèi)部具有一個(gè)進(jìn)氣通道及射流通道；進(jìn)氣通道與射流通道連通； 真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第二部分； 所述進(jìn)氣通道的出氣口位于第一部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口口徑小于進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口口徑； 彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述吸取主體為縱截面是“凸”形的柱狀結(jié)構(gòu)；所述第一部分空腔為圓柱體形狀；第二部分空腔為上底面半徑大于第一部分空腔底面半徑的圓臺(tái)，第二部分空腔的上底面半徑小于其下底面半徑； 真空發(fā)生塊包括上部與下部，上部與下部固定連接或一體成型；上部與下部均為圓柱體形狀，且上部的底面半徑小于下部的底面半徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣通道為圓柱形。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的一種真空吸取裝置，其特征在于，所述射流通道為多個(gè)；各個(gè)射流通道出氣口均勻設(shè)置在真空發(fā)生塊下 部的側(cè)壁一周。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空吸取裝置，涉及真空吸取技術(shù)領(lǐng)域，本發(fā)明技術(shù)要點(diǎn)包括吸取主體、真空發(fā)生塊、彈性墊；吸取主體內(nèi)具有一個(gè)上下開(kāi)口的空腔；真空發(fā)生塊的內(nèi)部具有一個(gè)進(jìn)氣通道及射流通道；進(jìn)氣通道與射流通道連通；真空發(fā)生塊位于所述空腔中，將所述空腔分為通過(guò)上開(kāi)口與外界連通的第一部分以及通過(guò)所述下開(kāi)口與外界連通的第二部分；所述進(jìn)氣通道的出氣口位于第一部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口位于第二部分空腔內(nèi)；射流通道的出氣口口徑小于進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口口徑；彈性墊位于真空發(fā)生塊的底部。本發(fā)明主要用于沖壓薄板生產(chǎn)領(lǐng)域中，具體是吸取薄板。
文檔編號(hào)B65H5/22GK102730445SQ201210219709
公開(kāi)日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月29日
發(fā)明者劉兵, 姚國(guó)紅, 宋佳, 潘曉勇 申請(qǐng)人:四川長(zhǎng)虹電器股份有限公司