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輕剝離型增印保護(hù)膜的制作方法

文檔序號(hào):4159426閱讀:173來源:國知局
專利名稱:輕剝離型增印保護(hù)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種增印保護(hù)膜,尤其涉及一種輕剝離型增印保護(hù)膜。
背景技術(shù)
手機(jī)觸摸按鍵,薄膜開關(guān)等產(chǎn)品在搬運(yùn)和使用過程中,其表面容易受到接觸性污染或磨痕劃傷,通常采用保護(hù)膜覆蓋在其表面使之免受損傷和污染。保護(hù)膜一般由基材層和涂覆在該基材層上的膠粘劑層構(gòu)成。當(dāng)保護(hù)膜用來保護(hù)各種薄膜面板例如手機(jī)觸摸按鍵,薄膜開關(guān)等產(chǎn)品的表面時(shí),需要在保護(hù)膜上印刷文字、圖案等。傳統(tǒng)的保護(hù)膜一般都沒有經(jīng)過耐磨增印處理,因此很難在保護(hù)膜上進(jìn)行印刷作業(yè),其次,現(xiàn)有增印保護(hù)膜中原紙或淋膜以后的紙的凹凸形狀的不均勻,使得有機(jī)感壓膠膠面的霧度不均勻,有反光發(fā)亮的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種輕剝離型增印保護(hù)膜,此輕剝離型增印保護(hù)膜解決了現(xiàn)有保護(hù)膜不能印刷文字、圖案和離型紙的淋膜層與離型劑涂層結(jié)合力不高的問題。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種輕剝離型增印保護(hù)膜,包括一基材層,此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層,此基材層下表面通過有機(jī)硅壓敏膠與一離型膜粘合連接;所述離型膜包括上表面和下表面分別淋膜有PE膜和PET膜的原紙層,原紙層的PET膜另一表面涂覆有霧面防靜電涂層,此霧面防靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層;所述霧面防靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.83um
3.32um,此離型劑涂層另一表面具有若干個(gè)凸起部。上述技術(shù)方案中進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案如下:上述方案中,所述霧面防靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.88um或者 3.12um。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型輕剝離型增印保護(hù)膜,其有利于油墨圖案與保護(hù)膜粘接,滿足了印刷文字、圖案的需要;其次,其抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面具有若干均勻凹凸結(jié)構(gòu),然后在此抗靜電涂層表面涂布硅離型劑涂層,硅離型劑涂層的底面在液態(tài)下滲入所述抗靜電涂層表面的凹缺處,硅離型劑涂層在凝固后通過凹缺與抗靜電涂層固定相連,因此,結(jié)合力更加牢固、可靠,而且還可以通過調(diào)節(jié)抗靜電涂層的凹槽深寬和密度,來自由調(diào)整硅離型劑涂層與離型紙?jiān)堉g剝離力的大小。

附圖1為本實(shí)用新型輕剝離型增印保護(hù)膜結(jié)構(gòu)示意圖;附圖2為本實(shí)用新型離型膜結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中:1、基材層;2、增印涂層;3、有機(jī)硅壓敏膠;4、離型膜;41、PE膜;42、PET膜;43、原紙層;44、霧面防靜電涂層;45、離型劑涂層;46、凸起部。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:實(shí)施例1:一種輕剝離型增印保護(hù)膜,包括一基材層I,此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2,此基材層I下表面通過有機(jī)硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接;所述離型膜4包括上表面和下表面分別淋膜有PE膜41和PET膜42的原紙層43,原紙層43的PET膜42另一表面涂覆有霧面防靜電涂層44,此霧面防靜電涂層44另一表面涂覆有離型劑涂層45 ;此離型劑涂層45另一表面具有若干個(gè)凸起部46。上述霧面防靜電涂層44與離型劑涂層45接觸的表面的粗糙度為2.88um。實(shí)施例2:—種輕剝離型增印保護(hù)膜,包括一基材層I,此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2,此基材層I下表面通過有機(jī)硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接;所述離型膜4包括上表面和下表面分別淋膜有PE膜41和PET膜42的原紙層43,原紙層43的PET膜42另一表面涂覆有霧面防靜電涂層44,此霧面防靜電涂層44另一表面涂覆有離型劑涂層45 ;此離型劑涂層45另一表面具有若干個(gè)凸起部46。上述霧面防靜電涂層44與離型劑涂層45接觸的表面的粗糙度為者3.12um。采用上述輕剝離型增印保護(hù)膜時(shí),其有利于油墨圖案與保護(hù)膜粘接,滿足了印刷文字、圖案的需要;其次,其抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面具有若干均勻凹凸結(jié)構(gòu),然后在此抗靜電涂層表面涂布硅離型劑涂層,硅離型劑涂層的底面在液態(tài)下滲入所述抗靜電涂層表面的凹缺處,硅離型劑涂層在凝固后通過凹缺與抗靜電涂層固定相連,因此,結(jié)合力更加牢固、可靠,而且還可以通過調(diào)節(jié)抗靜電涂層的凹槽深寬和密度,來自由調(diào)整硅離型劑涂層與離型紙?jiān)堉g剝離力的大小。上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種輕剝離型增印保護(hù)膜,其特征在于:包括一基材層(1),此基材層(I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層(2),此基材層(I)下表面通過有機(jī)硅壓敏膠(3)與一離型膜(4)粘合連接;所述離型膜(4)包括上表面和下表面分別淋膜有PE膜(41)和PET膜(42)的原紙層(43),原紙層(43)的PET膜(42)另一表面涂覆有霧面防靜電涂層(44),此霧面防靜電涂層(44)另一表面涂覆有離型劑涂層(45);所述霧面防靜電涂層(44)與離型劑涂層(45)接觸的表面的粗糙度為2.83um 3.32um,此離型劑涂層(45)另一表面具有若干個(gè)凸起部(46)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增印保護(hù)膜,其特征在于:所述霧面防靜電涂層(44)與離型劑涂層(45)接觸的表面的粗糙度為2.88um或者3.12um。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種輕剝離型增印保護(hù)膜,包括一基材層,此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層,此基材層下表面通過有機(jī)硅壓敏膠與一離型膜粘合連接;所述離型膜包括上表面和下表面分別淋膜有PE膜和PET膜的原紙層,原紙層的PET膜另一表面涂覆有霧面防靜電涂層,此霧面防靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層;所述霧面防靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.83um~3.32um,此離型劑涂層另一表面具有若干個(gè)凸起部。本實(shí)用新型輕剝離型增印保護(hù)膜解決了現(xiàn)有保護(hù)膜不能印刷文字、圖案和離型紙的淋膜層與離型劑涂層結(jié)合力不高的問題。
文檔編號(hào)B65D65/42GK202935745SQ201220527569
公開日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月16日
發(fā)明者金闖, 張慶杰 申請(qǐng)人:蘇州斯迪克新材料科技股份有限公司
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