吸附用具及玻璃基板的制造方法
【專利摘要】提供一種能夠抑制玻璃基板的吸附引起的損傷的吸附用具及玻璃基板的制造方法。一種吸附用具，在吸附搬運(yùn)玻璃基板中使用，其特征在于，具備：能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板的吸附部；及設(shè)置有所述吸附部的主體部。
【專利說明】吸附用具及玻璃基板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及在吸附搬運(yùn)玻璃基板中使用的吸附用具及玻璃基板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]玻璃基板的制造工序中的玻璃基板的處理(例如，玻璃基板向研磨裝置的安設(shè)作業(yè)、研磨結(jié)束后的玻璃基板的從研磨裝置的取出作業(yè)等)以往通過下述的方法I~方法3那樣的方法實施。
[0003]〔方法I〕:作業(yè)員逐張地利用手工作業(yè)處理玻璃基板。
[0004]〔方法2〕:使用機(jī)械卡盤把持內(nèi)徑或外徑的方法。
[0005]〔方法3〕:使用通過負(fù)壓吸附物品的真空吸附方式的玻璃基板吸附用具，處理玻璃基板(例如，參照專利文獻(xiàn)1、2、3 )。
[0006]【在先技術(shù)文獻(xiàn)】
[0007]【專利文獻(xiàn)】
[0008]【專利文獻(xiàn)I】日本特開2007-216311號公報
[0009]【專利文獻(xiàn)2】國際公開第2012/001912號
[0010]【專利文獻(xiàn)3】國際公開第2012/001913號
[0011]然而，在〔方法I〕中，當(dāng)錯誤地使作業(yè)員的指尖與玻璃基板的主平面接觸時，指尖的痕跡會殘留于玻璃基板的主平面，因此玻璃基板可能成為不良品。而且，例如，研磨結(jié)束后的玻璃基板強(qiáng)烈地粘貼于研磨墊的研磨面，用人手剝離非常困難。因此，例如，在將強(qiáng)烈地粘貼于研磨面的玻璃基板強(qiáng)行剝下時，可能發(fā)生指尖打滑而指甲損傷基板表面，或沒有抓住而使基板與其他的物品接觸。而且，作業(yè)員逐張地利用手工作業(yè)剝下的作業(yè)需要時間，因此可能使設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)率下降。
[0012]另外，在〔方法2〕中，通過機(jī)械卡盤，玻璃基板可能受到傷痕、缺口等的損傷。而且，在將玻璃基板向研磨裝置安設(shè)或?qū)⒉ＡЩ鍙难心パb置取出時，機(jī)械卡盤可能會給研磨墊(研磨面)帶來傷痕或剝落等損傷。而且，此時，需要高精度地控制機(jī)械卡盤的位置，裝置變得大規(guī)模/復(fù)雜，成本也容易上升。而且，也考慮來自機(jī)械卡盤的塵埃。
[0013]另外，在〔方法3〕中，在對玻璃基板進(jìn)行真空吸附時，吸引附著于玻璃基板的表面的水分而使玻璃基板干燥，磨粒等雜質(zhì)容易牢固地附著于玻璃基板的表面。其結(jié)果是，例如，在之后的清洗工序中難以除去雜質(zhì)，可能成為玻璃基板產(chǎn)品的缺陷的原因。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]本發(fā)明的目的在于提供一種能夠抑制玻璃基板的吸附引起的損傷的吸附用具及玻璃基板的制造方法。
[0015]【用于解決課題的手段】
[0016]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種吸附用具，在吸附搬運(yùn)玻璃基板中使用，其特征在于，具備:[0017]能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板的吸附部；及
[0018]設(shè)置有所述吸附部的主體部。
[0019]另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板的制造方法，具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、及檢查玻璃基板的工序，其特征在于，
[0020]使用本發(fā)明第一至第十三方面中任一方面所述的吸附用具來搬運(yùn)玻璃基板。
[0021]另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板的制造方法，具有通過研磨裝置研磨玻璃基板的工序，其特征在于，
[0022]使用該吸附用具,從所述研磨裝置取出玻璃基板。
[0023]【發(fā)明效果】
[0024]根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制玻璃基板的吸附引起的損傷。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1是示意性地表示使用吸附用具從研磨裝置取出玻璃基板的作業(yè)的一例的圖。
[0026]圖2是表示吸附用具的結(jié)構(gòu)的圖。
[0027]圖3是表示利用吸附用具吸附并提升玻璃基板的情況的圖。
[0028]圖4是表示將玻璃基板從吸附用具剝離的情況的圖。
[0029]圖5是表示吸附用具的結(jié)構(gòu)的圖。
[0030]圖6是表示吸附用具的結(jié)構(gòu)的圖。
[0031]圖7是表示吸附用具的壓力產(chǎn)生部的組裝例的圖。
[0032]圖8是表示吸附用具的結(jié)構(gòu)的圖。
[0033]【標(biāo)號說明】
[0034]10、11、12、13、14 吸附用具
[0035]20研磨裝置
[0036]30 上平臺
[0037]40 下平臺
[0038]42研磨墊
[0039]50收納容器
[0040]60、90、100、110 吸附部
[0041]61、91、101、111 吸附面
[0042]62 內(nèi)壁
[0043]63 外壁
[0044]70主體部
[0045]71把持部
[0046]72上表面
[0047]73 側(cè)面
[0048]74下表面
[0049]80剝離機(jī)構(gòu)
[0050]81 流路
[0051]82下側(cè)開口部[0052]83壓力產(chǎn)生部
[0053]84按壓部
[0054]85上側(cè)開口部
[0055]86凸緣部
[0056]87流體積存部
[0057]Cl外周端面
[0058]C2內(nèi)周端面
[0059]C圓孔
[0060]S主平面
[0061]W玻璃基板
【具體實施方式】
[0062]以下，按照附圖，說明本發(fā)明的實施方式。
[0063]〔吸附用具的使用方法〕
[0064]圖1是示意性地表示使用本發(fā)明的一實施方式的吸附用具10而從研磨裝置20取出玻璃基板W的作業(yè)的一例的圖。當(dāng)基于研磨裝置20的研磨工序結(jié)束時，上平臺30向上方移動，研磨后的玻璃基板W (被研磨體)殘留在下平臺40的研磨墊42上。作業(yè)員P使用在吸附搬運(yùn)玻璃基板W中所使用的吸附用具10，逐張地吸附而取出研磨結(jié)束后的各玻璃基板W，一邊注意使手不接觸玻璃基板W的表面，一邊將取出的玻璃基板W向收納容器50搬入。
[0065]收納容器50能夠收容一個或多個玻璃基板W。收容容器50可以將玻璃基板W如圖示那樣以立起的狀態(tài)收容，也可以將玻璃基板W以橫放的狀態(tài)收容。
[0066]向設(shè)于由樹脂片形成的載體上的各保持孔內(nèi)插入保持玻璃基板而進(jìn)行玻璃基板W的研磨。使用吸附用具10取出玻璃基板W的作業(yè)可以在去除載體之后進(jìn)行，也可以在殘留有載體的狀態(tài)下進(jìn)行。
[0067]作業(yè)員P把持吸附用具10，使設(shè)置在吸附用具10的主體下部的后述的吸附部與玻璃基板W的主平面密接，通過提升吸附用具10而將玻璃基板W從下平臺40提起。
[0068]需要說明的是，吸附用具10可以被使用作為用于向設(shè)于研磨墊42上的載體的各保持孔安設(shè)玻璃基板W的工具。
[0069]另外，吸附用具10也可以是，在檢查玻璃基板時，作為用于向檢查裝置安設(shè)玻璃基板的工具被使用。
[0070]〔吸附用具的結(jié)構(gòu)〕
[0071]圖2是表示吸附用具10的結(jié)構(gòu)的圖。圖2 (a)表示上方立體圖，圖2 (b)表示下方立體圖，圖2 (c)表不吸附部10的下部的首I]視圖，圖2 (d)表不底面圖。吸附用具10例如是具備吸附部60和設(shè)有吸附部60的主體部70的處理工具。吸附部60是能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板的吸附構(gòu)件。
[0072]吸附用具10由于利用范德瓦爾斯力來吸附玻璃基板，因此能夠容易地抑制由玻璃基板的吸附造成的損傷。而且，即使沒有真空產(chǎn)生裝置、電源等也能夠吸附玻璃基板，因此作業(yè)性、生產(chǎn)性提高，也能夠抑制成本。而且，能夠不用使由研磨劑或水等浸潤的玻璃基板干燥而吸附玻璃基板，因此能夠防止磨粒等雜質(zhì)牢固地附著于玻璃基板的表面的情況，也能夠減少干燥引起的玻璃基板的損傷。
[0073]吸附部60為了利用吸附用具10容易地搬運(yùn)玻璃基板而設(shè)置在主體部70的下部。在圖2的情況下，吸附部60設(shè)置在構(gòu)成主體部70的把持部71的下部。把持部71是作業(yè)者握持的柱狀部分，為了使作業(yè)者容易握持而形成為例如圓柱狀。但是，把持部71的形狀并不局限于本形狀，只要是作業(yè)者容易握持的形狀即可，也可以是例如棱柱等其他的柱形狀。
[0074]吸附部60是以比把持部71的下表面74向下方突出的方式安裝在下表面74上的吸附構(gòu)件。作為吸附部60的材料，可列舉例如硅酮樹脂、聚酰胺、丁苯橡膠、氯磺化聚乙烯橡膠、丁腈橡膠、乙丙橡膠、氯丁橡膠、丁二烯橡膠、氟橡膠、異丁橡膠、聚氨酯橡膠等。
[0075]另外，吸附部60也可以具有在吸附玻璃基板的面(吸附面61)上植毛多個細(xì)毛那樣的微小毛結(jié)構(gòu)。吸附面61的微小毛結(jié)構(gòu)可以使用例如硅酮樹脂、聚酰胺、聚酰亞胺、丁苯橡膠、氯磺化聚乙烯橡膠、丁腈橡膠、乙丙橡膠、氯丁橡膠、丁二烯橡膠、氟橡膠、異丁橡膠、聚氨酯橡膠等高分子、碳納米管、金屬中的至少一個來形成。
[0076]如此，通過形成在吸附面61上植毛多個細(xì)毛那樣的微小毛結(jié)構(gòu)，而在使吸附部60與玻璃基板接觸時，玻璃基板的被吸附的部分與吸附面61的分子間距尚減小(例如，分子間距離成為I?51)，發(fā)現(xiàn)了能夠吸附玻璃基板的大小的范德瓦爾斯力。需要說明的是，該吸附力通過吸附部60及吸附面61的材質(zhì)、形成于吸附面61的微小毛結(jié)構(gòu)的形狀(例如，構(gòu)成微小毛結(jié)構(gòu)的多個細(xì)毛的截面積、長度及密度等)、吸附面61的接觸面積等而能夠管理/調(diào)難
iF.0
[0077]例如，為了減小玻璃基板的被吸附的部分與吸附面61的分子間距離并有效地發(fā)現(xiàn)范德瓦爾斯力，而吸附面61的微小毛結(jié)構(gòu)的細(xì)毛的長度優(yōu)選為0.1nm?2000nm，更優(yōu)選為Inm?300nm,進(jìn)一步優(yōu)選為IOnm?200nm。吸附面61的細(xì)毛的直徑優(yōu)選為400nm以下，更優(yōu)選為2nm?50nm,進(jìn)一步優(yōu)選為2nm?30nm,特別優(yōu)選為3nm?20nm。并且，吸附面61的細(xì)毛的縱橫尺寸比(細(xì)毛的直徑與長度之比)優(yōu)選為2.5以上，更優(yōu)選為5?50，進(jìn)一步優(yōu)選為10?30。
[0078]另外，主體部70在把持部71具有使玻璃基板從形成在吸附部60的下表面的吸附面61剝離的剝離機(jī)構(gòu)80。通過將剝離機(jī)構(gòu)80設(shè)于主體部70，作業(yè)者能夠在把持了吸附用具10的狀態(tài)下，將玻璃基板從吸附用具10容易地剝離。剝離機(jī)構(gòu)80具有:將利用流體壓(例如，氣壓或液壓)從吸附部60剝離玻璃基板的流體(氣體或液體)排放的下側(cè)開口部82 ；及與開口部82連通的流路81。
[0079]例如，在利用氣壓從吸附部60剝離玻璃基板時，該氣體可以是空氣，也可以是氮、氬等其他的氣體介質(zhì)。在該氣體為空氣時，剝離機(jī)構(gòu)80利用空氣壓使由吸附部60吸附的玻璃基板剝離。在利用液壓從吸附部60將玻璃基板剝離時，該液體可以是水，也可以是水溶液等其他的液體介質(zhì)。
[0080]開口部82為了能夠?qū)牧髀?1壓出的流體朝向玻璃基板的主平面排放并在排放后向流路81導(dǎo)入大氣，而向把持部71的下表面74露出形成。流路81是傳送將玻璃基板從吸附部60剝離的流體壓的通流部。流路81以上下貫通把持部71的內(nèi)部的方式形成，與形成在把持部71的下表面74的開口部82連通。
[0081]開口部82形成在通過由吸附部60的吸附面61吸附玻璃基板而閉塞的位置即可。由此，形成由吸附于吸附面61的玻璃基板的主平面和吸附部60的內(nèi)周壁62圍成的閉空間，將流路81密閉。并且，通過將從吸附面61剝離玻璃基板的流體從開口部82排放，而使玻璃基板從吸附面61分離。由此，解除由玻璃基板閉塞開口部82的狀態(tài)，同時也解除流路81的密閉狀態(tài)。如此，由于開口部82由玻璃基板閉塞，因此能夠不使從流路81向開口部82壓出的流體逃散地與玻璃基板的主平面接觸，因此能夠不會損傷玻璃基板地從吸附部60容易地剝離玻璃基板。
[0082]在圖2的情況下，吸附部60將開口部82閉塞而可靠地密閉流路81，因此以包圍開口部82的周圍的方式在下表面74呈圓環(huán)狀地設(shè)置。通過形成為圓環(huán)狀，而能夠防止玻璃基板上的研磨劑積存而固定于吸附部60的情況。吸附面61的形狀并不局限于圖示那樣的圓環(huán)狀，也可以是多邊形、橢圓形等其他的環(huán)形狀。
[0083]另夕卜，剝尚機(jī)構(gòu)80具有將從吸附部60剝尚玻璃基板的流體從開口部82排放的壓力產(chǎn)生部83。在通過壓力產(chǎn)生部83產(chǎn)生的流體的壓力的作用下，流路81內(nèi)的流體從開口部82壓出。壓力產(chǎn)生部83設(shè)置在與設(shè)有吸附部60及開口部82的下表面74相反的一側(cè)的主體部70的上表面72，并與流路81連接，該流路81與形成于上表面72的上側(cè)開口部85連通。開口部85由壓力產(chǎn)生部83閉塞。
[0084]壓力產(chǎn)生部83例如圖2所示，具有形成為圓頂狀的彈性的按壓部84，通過利用作業(yè)者的手指等從上方對按壓部84進(jìn)行按壓操作，而將從吸附部60剝離玻璃基板的流體從開口部82排放。按壓部84以在閉塞開口部85的狀態(tài)下從上表面72朝向上方突出的方式具有凸緣部86。凸緣部86例如以在閉塞開口部85的狀態(tài)下從上表面72朝向上方突出的方式安裝在上表面72的內(nèi)側(cè)的里面。
[0085]另外，凸緣部86也可以例如圖7所示，由上罩72c夾入而固定。利用上罩72c將安裝在開口部85的周圍的環(huán)狀面72a的凸緣部86夾入，由此將按壓部84固定。例如在按壓部84插通形成于上罩72c的孔72e的狀態(tài)下，將上罩72c的連接部72d與環(huán)狀面72a的連接部72b連接，由此將上罩72c固定于上表面72a。需要說明的是，上罩72c與上表面72a的固定單元并不局限于特定的單元，作為具體例子，可列舉螺釘、扣合、粘結(jié)劑等。
[0086]在圖2中，按壓部84在其內(nèi)側(cè)的空間具有流體積存部87。通過對按壓部84進(jìn)行按壓而產(chǎn)生將積存于流體積存部87的流體向流路81壓出的流體壓。通過該流體壓也將流路81內(nèi)的流體從開口部82壓出，因此能夠利用從開口部82壓出的流體的力從吸附部60剝離玻璃基板。
[0087]另外，按壓部84優(yōu)選為當(dāng)放開從外部施加的按壓力時返回原來的形狀那樣的彈性體。由此，在從吸附部60剝離玻璃基板之后，能夠迅速地恢復(fù)成可產(chǎn)生將流體積存部87及流路81內(nèi)的流體壓出的流體壓的初始狀態(tài)。而且，在流體積存部87是積存空氣的空氣積存部時，能夠使大氣從開口部82經(jīng)由流路81容易地向流體積存部87流入。
[0088]〔吸附用具的操作方法〕
[0089]圖3是表示利用吸附用具10吸附提升玻璃基板W的情況的圖。玻璃基板W是在中央部形成有圓孔C的環(huán)狀的圓盤狀基板。作為玻璃基板W的一例,可列舉出磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。主平面S是由玻璃基板W的外周端面C2和圓孔C的內(nèi)周端面Cl夾持的平面狀的環(huán)狀面。當(dāng)使吸附部60與主平面S密接時，在吸附面61與主平面S之間產(chǎn)生范德瓦爾斯力，因此利用該范德瓦爾斯力能夠提升玻璃基板W。[0090]吸附部60的吸附面61優(yōu)選為對玻璃基板W的主平面S中的中心角Θ為180°以下(優(yōu)選為120°以下，更優(yōu)選為90°以下)的區(qū)域SI能夠進(jìn)行吸附的尺寸。由此，確保吸附而提升玻璃基板W的充分的范德瓦爾斯力，并將玻璃基板W從吸附部60容易地剝離。而且，當(dāng)把持部71向玻璃基板W的投影面積如圖示那樣為區(qū)域SI的面積以下時，能夠使吸附用具10緊湊，容易處理，作業(yè)性優(yōu)異。需要說明的是，中心角Θ是分別通過點O和形成外周端面Cl的外周圓上的點P1、P2的兩條半徑線所夾持的角。點O只要是形成外周端面Cl的外周圓的中心即可。
[0091]圖4是表示從吸附用具10剝離玻璃基板W的情況的圖。通過進(jìn)行按壓按壓部84的接觸操作，而按壓部84從其頂點朝向下方被壓扁。在按壓部84被壓扁而產(chǎn)生的流體的壓力的作用下，將流路81內(nèi)的流體從開口部82排放。由此，能夠簡單地使玻璃基板W從吸附部60的吸附面61脫離。
[0092]〔玻璃基板的制造方法〕
[0093]接下來，列舉磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序為例來說明玻璃基板制造方法中的吸附用具10的使用方法。
[0094]通常，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序包括以下的工序。
[0095]〔工序I〕將利用浮法、熔化法、再曳引法或沖壓成形法而成形的玻璃原基板加工成在中央部具有圓孔的圓盤形狀之后，對內(nèi)周側(cè)面和外周側(cè)面進(jìn)行倒角加工。
[0096]〔工序2〕對玻璃基板的側(cè)面部和倒角部進(jìn)行端面研磨。
[0097]〔工序3〕對玻璃基板的主平面進(jìn)行研磨。研磨工序可以僅進(jìn)行I次研磨，也可以進(jìn)行I次研磨和2次研磨，還可以在2次研磨之后進(jìn)行3次研磨。
[0098]〔工序4〕對玻璃基板進(jìn)行清洗，得到磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0099]〔工序5〕在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等薄膜,來制造磁盤(磁記錄介質(zhì))。
[0100]在上述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序中，可以在〔工序I〕或〔工序2〕的工序的前后之中的至少一方實施主平面的拋光(例如，游離磨粒拋光、固定磨粒拋光等)，也可以在各工序間實施玻璃基板的清洗(工序間清洗)、玻璃基板表面的蝕刻(工序間蝕刻)。需要說明的是，主平面的拋光(例如，游離磨粒拋光、固定磨粒拋光等)是廣義的主平面的研磨。
[0101]而且，在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板要求高機(jī)械強(qiáng)度時，也可以在研磨工序前、或研磨工序后、或研磨工序期間實施在玻璃基板的表層形成強(qiáng)化層的強(qiáng)化工序(例如，化學(xué)強(qiáng)化工序)。
[0102]另外，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板可以是非結(jié)晶玻璃，也可以是結(jié)晶化玻璃，還可以是在玻璃基板的表層具有強(qiáng)化層的強(qiáng)化玻璃(例如，化學(xué)強(qiáng)化玻璃)。而且，玻璃基板的玻璃原基板可以由浮法制造，或者由熔化法制造，或者由再曳引法制造，或者由沖壓成形法制造。
[0103]在此，參照圖1、圖3、圖4，說明將〔工序3〕的研磨工序結(jié)束后的玻璃基板W從研磨裝置20取出時的操作步驟。
[0104](步驟I)首先,作業(yè)員P把持吸附用具10而使吸附部60的吸附面61與玻璃基板W的上表面(主平面S)密接。吸附面61通過范德瓦爾斯力而吸附于主平面S，由此能夠?qū)⒃诓ＡЩ錡的主平面S產(chǎn)生的傷痕、局部的粗糙度缺陷等抑制成最小限度。[0105](步驟2)在該密接狀態(tài)下，作業(yè)員P握持把持部71而提升吸附用具10，由此將研磨結(jié)束后的玻璃基板W從研磨裝置20的下平臺40的研磨墊42提升。
[0106](步驟3)作業(yè)者P將吸附于吸附用具10的玻璃基板W抬起至收納容器50的上方之后，利用手指對按壓部84進(jìn)行按壓。由此，玻璃基板W由流體壓按壓，由此，從吸附部60分離而以鉛垂?fàn)顟B(tài)收容于收納容器50。需要說明的是，玻璃基板W也可以以水平狀態(tài)收容于收納容器50。
[0107]如此，作業(yè)者P通過使用吸附用具10，而能夠手法良好地進(jìn)行玻璃基板W的吸附與分離的反復(fù)作業(yè)。即，作業(yè)者P僅通過使吸附部60與玻璃基板W接觸就能夠使玻璃基板W吸附于吸附部60，僅通過對按壓部84進(jìn)行按壓就能夠使玻璃基板W從吸附部60分離。尤其是如圖3、圖4所示，將按壓部84設(shè)置在把持部71的上部。因此，作業(yè)者P在以小指成為玻璃基板W側(cè)的方式握住把持部71的狀態(tài)下，能夠利用拇指簡單地對按壓部84進(jìn)行按壓，因此能夠高效地進(jìn)行玻璃基板W的吸附與分離的反復(fù)作業(yè)。
[0108]以上，通過實施方式例說明了吸附用具及玻璃基板的制造方法，但本發(fā)明并未限定為上述的實施方式例。與其他的實施方式例的一部分或全部的組合或置換等各種變形及改良也能夠包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0109]例如，在圖2中，示出了壓力產(chǎn)生部83設(shè)置在主體部70的上部的例子，但也可以設(shè)置在主體部70的側(cè)部(例如，把持部71的側(cè)面73)。這種情況下，壓力產(chǎn)生部83的按壓部84可以以將與流路81連通且形成于側(cè)面73的開口部閉塞的方式設(shè)置在側(cè)面73。
[0110]另外，例如，在圖2 (d)中，示出了吸附部60的外周壁63的直徑D2比圓柱狀的把持部71的直徑DI小的例子，但直徑D2也可以與直徑DI相等。而且，示出了吸附部60的內(nèi)周壁62的直徑D3比開口部82的直徑D4大的例子，但直徑D3也可以與直徑D4相等。需要說明的是，在設(shè)有開口部82的情況下，只要開口部82沒有被閉塞，則直徑D3也可以比直徑D4小。
[0111]圖5是示出了另一實施方式例的吸附用具11的下部的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。省略與上述的吸附用具10同樣的結(jié)構(gòu)的說明。如圖5所示，吸附部90也可以以覆蓋把持部71的側(cè)面73的下部的周圍的方式安裝于側(cè)面73。吸附部90具有圓環(huán)狀的吸附面91。吸附面91比把持部71的下表面74向下方突出，由此能夠防止玻璃基板與下表面74直接相碰的情況。
[0112]圖6是表示另一實施方式例的吸附用具12、13的結(jié)構(gòu)的圖。省略與上述的吸附用具10同樣的結(jié)構(gòu)的說明。圖6 (a)表示吸附用具12的下方立體圖，圖6 (b)表示吸附用具12的底面圖。圖6 (c)表不吸附用具13的下方立體圖，圖6 (d)表不吸附用具13的底面圖。如圖6例示那樣，吸附部的吸附面的形狀、面積也可以根據(jù)吸附對象的玻璃基板的大
小、重量而任意變更。
[0113]在圖6(a)(b)的吸附用具12的情況下，具有圓弧形狀的吸附面101的吸附部100配置在把持部71的下表面74。圓柱狀的把持部71的直徑D21也可以是比玻璃基板W的內(nèi)周直徑D12大且比外周直徑Dll小，以使吸附面101與圖3的玻璃基板W的主平面S相接。但是，這種情況下，吸附面101優(yōu)選為能夠?qū)ΣＡЩ錡的主平面S中的中心角Θ為180°以下(優(yōu)選為120°以下，更優(yōu)選為90°以下)的區(qū)域SI進(jìn)行吸附的尺寸。由此，會確保吸附而提升玻璃基板W的充分的范德瓦爾斯力，并容易將玻璃基板W從吸附部100剝離。[0114]在圖6 (c) (d)的吸附用具13的情況下，具有圓形的吸附面111的吸附部110配置在把持部71的下表面74。這種情況下，也可以是，圓柱狀的把持部71的直徑D21也可以是比玻璃基板W的內(nèi)周直徑D12大且比外周直徑Dll小，以使吸附面111與圖3的玻璃基板W的主平面S相接。吸附部110具有將玻璃基板W的主平面S整體地均勻吸附的吸附面
111。在圖示的情況下，吸附部110設(shè)置4個，但也可以是4個以外的個數(shù)。而且，也可以是圓形以外的其他的形狀(例如，橢圓形或多邊形等)。
[0115]另外，也可以使用多個吸附用具來吸附玻璃基板。例如,在圖1中，也可以使吸附用具10分別吸附于由下平臺40上的載體的保持孔保持的多個玻璃基板W，并將這些玻璃基板W—起提升。各吸附用具例如也可以經(jīng)由傳送空氣或水等流體的配管而與共通的壓力產(chǎn)生裝置連接。通過從該壓力產(chǎn)生裝置向各吸附用具供給的流體壓，能夠使玻璃基板從各吸附用具的吸附部一起分離。
[0116]圖8是示意性地表示具有壓力產(chǎn)生部的其他的方式例的吸附用具14的結(jié)構(gòu)的剖視圖。吸附用具14的壓力產(chǎn)生部具有壓力產(chǎn)生裝置83a、配管83b、開閉裝置83c。壓力產(chǎn)生裝置83a經(jīng)由配管83b及開閉裝置83c而與流路81連結(jié)。從壓力產(chǎn)生裝置83a供給的壓縮流體(壓縮流體為氣體或液體)向配管83b流動，開閉裝置83c將流路81與配管83b之間打開或切斷。
[0117]在通過開閉裝置83b將流路81與配管83b之間切斷的狀態(tài)下，能夠利用吸附用具14的吸附部產(chǎn)生的范德瓦爾斯力吸附玻璃基板。另一方面，在通過開閉裝置83c將流路81與配管83b之間打開的狀態(tài)下，使玻璃基板從吸附用具14的吸附部剝離的流體(即，從配管83b供給的流體)在流路81中傳遞。
[0118]對壓縮流體進(jìn)行打開或切斷而進(jìn)行玻璃基板的吸附或剝離的這種吸附用具在同時處理多個玻璃基板時(例如，在自動地進(jìn)行將多個玻璃基板同時設(shè)置于研磨裝置或同時從研磨裝置提升的情況時)，能特別優(yōu)選地使用。例如，吸附用具的流路81及開閉裝置83c分別相對于多個玻璃基板設(shè)置，與共通的壓力產(chǎn)生裝置83a連接即可。
[0119]需要說明的是，作為控制壓縮流體的打開或切斷的開閉裝置83c的具體例子，列舉出手動閥或電磁閥等，但開閉裝置83c也可以是除此以外的單元。而且，壓縮流體從包圍流路81的側(cè)面73供給，但也可以從上表面71供給。作為氣體的壓縮流體，可列舉例如空氣、氮、氬等。作為液體的壓縮流體，可列舉例如水等。
[0120]另外，也可以將吸附用具所吸附的玻璃基板W卡掛于收納容器50的緣部或分隔件等物體，由此使玻璃基板W從吸附用具分離。這種情況下，也可以不將上述的剝離機(jī)構(gòu)80那樣的結(jié)構(gòu)設(shè)于吸附用具。
[0121]另外，玻璃基板的種類并不局限于磁記錄介質(zhì)用，也可以是光掩模用、液晶或有機(jī)EL等的顯示器用、光拾取元件或光學(xué)濾波器、光學(xué)透鏡等光學(xué)部件用等。
[0122]另外，吸附用具也可以在處理玻璃基板以外的基板時使用。作為玻璃基板以外的基板，可列舉例如磁記錄介質(zhì)用鋁基板、半導(dǎo)體用硅基板等。
【權(quán)利要求】
1.一種吸附用具，在吸附搬運(yùn)玻璃基板中使用，其特征在于，具備: 能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板的吸附部；及 設(shè)置有所述吸附部的主體部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附用具，其中， 用于在玻璃基板的研磨工序中吸附搬運(yùn)玻璃基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的吸附用具，其中， 所述玻璃基板是磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸附用具，其中， 所述吸附部僅對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的主平面中的中心角為180°以下的區(qū)域進(jìn)行吸附。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項所述的吸附用具，其中， 所述主體部具有從所述吸附部將玻璃基板剝離的剝離機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的吸附用具，其中， 所述剝離機(jī)構(gòu)具有將從所述吸附部剝離玻璃基板的流體排出的開口部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的吸附用具，其中， 所述開口部通過在所述吸附部吸附玻璃基板而被閉塞，并通過所述流體來解除閉塞狀態(tài)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的吸附用具，其中， 所述吸附部以包圍所述開口部的方式設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求6?8中任一項所述的吸附用具，其中， 所述剝離機(jī)構(gòu)具有將所述流體從所述開口部排出的壓力產(chǎn)生部。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的吸附用具，其中， 所述壓力產(chǎn)生部設(shè)置于所述主體部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的吸附用具，其中， 所述壓力產(chǎn)生部設(shè)置在與所述吸附部相反一側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9?11中任一項所述的吸附用具，其中， 所述壓力產(chǎn)生部具有彈性的按壓部，通過按壓所述按壓部而將所述流體從所述開口部排出。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的吸附用具，其中， 所述按壓部具有流體積存部。
14.一種玻璃基板的制造方法，具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、及檢查玻璃基板的工序，其特征在于， 使用權(quán)利要求1?13中任一項所述的吸附用具來搬運(yùn)玻璃基板。
15.一種玻璃基板的制造方法，具有通過研磨裝置研磨玻璃基板的工序，其特征在于， 使用權(quán)利要求1?13中任一項所述的吸附用具，從所述研磨裝置取出玻璃基板。
【文檔編號】B65G7/12GK103662836SQ201310414941
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月13日
【發(fā)明者】土屋誠 申請人:旭硝子株式會社