玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠抑制玻璃基板的處理造成的損傷的玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法。一種玻璃基板吸附用具，其具備：流路（81）；吸附部（60），其能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板；壓力控制部（80a），其使所述流路（81）內(nèi)的流體壓力變化；片材（100），其在所述流路（81）與所述吸附部（60）之間通過所述流體壓力的變化而變形，以使在所述吸附部（60）和與所述吸附部（60）接觸的玻璃基板之間產(chǎn)生的吸附力變化。一種玻璃基板的制造方法，具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、檢查玻璃基板的工序，其特征在于，使用所述玻璃基板吸附用具來搬運玻璃基板。
【專利說明】玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及對玻璃基板進行吸附的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]玻璃基板的制造工序中的玻璃基板的處理(例如，玻璃基板向研磨裝置的安設(shè)作業(yè)、研磨結(jié)束后的玻璃基板的從研磨裝置的取出作業(yè)等)以往通過下述的手法I~手法3那樣的方法來實施。
[0003]〔手法I〕:作業(yè)員逐張地以手工作業(yè)處理玻璃基板。
[0004]〔手法2〕:使用機械夾盤來把持內(nèi)徑或外徑的方法(例如，參照專利文獻1、2)。
[0005]〔手法3〕:使用真空吸附方式的玻璃基板吸附用具，對玻璃基板進行處理(例如，參照專利文獻3、4、5)。
[0006]【在先技術(shù)文獻】
[0007]【專利文獻】
[0008]【專利文獻I】日本特開2010-238291號公報
[0009]【專利文獻2】 日本特開平11-267964號公報
[0010]【專利文獻3】日本特開2007-216311號公報
[0011]【專利文獻4】國際公開第2012/001912號
[0012]【專利文獻5】國際公開第2012/001913號
[0013]然而，在〔手法I〕中，當(dāng)出現(xiàn)錯誤而作業(yè)員的指尖觸碰到玻璃基板的主平面時，由于在玻璃基板的主平面上殘留有指尖的痕跡，因此玻璃基板可能會成為不合格品。而且，例如，研磨結(jié)束后的玻璃基板強烈地粘貼在研磨墊的研磨面上，利用人手非常難以剝離。因此，例如，在將強烈地粘貼在研磨面上的玻璃基板強行剝離時，存在指尖打滑而利用指甲抓住基板表面，或沒有抓住而使基板與其他的物體接觸的可能性。而且，作業(yè)員逐張地以手工作業(yè)剝離的作業(yè)需要時間，因此也可能會使設(shè)備運轉(zhuǎn)率下降。
[0014]另外，在〔手法2〕中，由于機械夾盤，玻璃基板可能會受到傷痕或缺損等損傷。而且，在將玻璃基板向研磨裝置安設(shè)或?qū)⒉ＡЩ鍙难心パb置取出時，機械夾盤可能會給研磨墊(研磨面)帶來傷痕或剝離等損傷。而且，此時，需要高精度地控制機械夾盤的位置，因此裝置變得大規(guī)模/復(fù)雜，成本也容易上升。而且，也考慮來自機械夾盤的起塵。
[0015]另外，在〔手法3〕中，在對玻璃基板進行真空吸附時，對附著在玻璃基板的表面上的水分進行吸引而使玻璃基板干燥，磨粒等雜質(zhì)容易牢固地附著在玻璃基板的表面。其結(jié)果是，例如，在之后的清洗工序中難以除去雜質(zhì)，可能成為玻璃基板產(chǎn)品的缺陷的原因。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0016]本發(fā)明的目的在于提供一種能夠抑制玻璃基板的吸附造成的損傷的玻璃基板吸附用具及玻璃基板的制造方法。
[0017]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板吸附用具，其具備:[0018]流路；
[0019]吸附部，其能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板；
[0020]壓力控制部，其使所述流路內(nèi)的流體壓力變化；
[0021]片材，其在所述流路與所述吸附部之間通過所述流體壓力的變化而發(fā)生變形，以使在所述吸附部和與所述吸附部接觸的玻璃基板之間產(chǎn)生的吸附力變化。
[0022]另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板的制造方法，其具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、及檢查玻璃基板的工序，其特征在于，使用所述玻璃基板吸附用具來搬運玻璃基板。
[0023]另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板的制造方法，其具有使用研磨裝置對玻璃基板進行研磨的工序，其特征在于，在從研磨裝置取出玻璃基板時，使用所述玻璃基板吸附用具。
[0024] 根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制玻璃基板的處理造成的損傷。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1是示意性地表示使用玻璃基板吸附用具從研磨裝置取出玻璃基板的作業(yè)的一例的圖。
[0026]圖2是表示玻璃基板吸附用具的一例的圖。
[0027]圖3是表示玻璃基板吸附用具的一例的圖。
[0028]圖4是表示玻璃基板吸附用具的一例的吸附力的變化的示意圖。
[0029]圖5是表示玻璃基板吸附用具的一例的吸附力的變化的示意圖。
[0030]圖6是表示玻璃基板吸附用具的一例的吸附力的變化的示意圖。
[0031]圖7是表示玻璃基板吸附用具的一例的吸附力的變化的示意圖。
[0032]圖8是表示利用玻璃基板吸附用具的一例吸附提升玻璃基板的情況的圖。
[0033]圖9是表示從玻璃基板吸附用具的一例剝離玻璃基板的情況的圖。
[0034]圖10是表示玻璃基板吸附用具的動作的流程的圖。
[0035]圖11是表示玻璃基板吸附用具的動作的流程的圖。
[0036]圖12是表示中性線開關(guān)關(guān)閉的狀態(tài)的圖。
[0037]圖13是表示中性線開關(guān)打開的狀態(tài)的圖。
[0038]【標號說明】
[0039]10、11、12、13、14、15 吸附用具
[0040]20研磨裝置
[0041]30上平臺
[0042]40下平臺
[0043]42研磨墊
[0044]50收納容器
[0045]60、90、120、140、160 吸附部
[0046]61、91、121、141、161 吸附面
[0047]62內(nèi)周壁
[0048]63外周壁[0049]70主體部
[0050]71導(dǎo)管部
[0051]72上表面
[0052]73 側(cè)面
[0053]74下表面
[0054]80a,80b,80c,80d,80e,80f 壓力控制部
[0055]81 流路
[0056]82 開口部
[0057]84按壓操作部(容積控制部的一例)
[0058]100、130、150、170 片材
[0059]110閉空間
[0060]162 孔
[0061]200吸附用具
[0062]210控制開關(guān)(容積控制部的一例)
[0063]220中性線開關(guān)(壓力返回部的一例)
[0064]221 活塞
[0065]222 彈簧
[0066]223密封材料
[0067]224開放通路
[0068]225 膜片
[0069]226 凸輪
[0070]227 頂面
[0071]Cl外周端面
[0072]C2內(nèi)周端面
[0073]C 圓孔
[0074]S主平面
[0075]W玻璃基板
【具體實施方式】
[0076]〔吸附用具的使用方法〕
[0077]圖1是示意性地表示使用本發(fā)明的一實施方式的玻璃基板吸附用具10來從研磨裝置20取出玻璃基板W的作業(yè)的一例的圖。以下，將“玻璃基板吸附用具”也稱為“吸附用具”。
[0078]當(dāng)研磨裝置20進行的研磨工序結(jié)束時，上平臺30向上方移動，在下平臺40的研磨墊42上殘留有研磨后的玻璃基板W (被研磨體)。作業(yè)員P使用吸附搬運玻璃基板W所使用的吸附用具10，將研磨結(jié)束后的各玻璃基板W逐張地吸附而取出，一邊注意手不觸碰玻璃基板W的表面，一邊將取出的玻璃基板W向收納容器50搬入。
[0079]收納容器50能夠收容一個或多個玻璃基板W。收納容器50既可以將玻璃基板W如圖示那樣以立起的狀態(tài)收容，也可以將玻璃基板W以橫躺的狀態(tài)收容。[0080]玻璃基板W的研磨是向設(shè)置在由樹脂片材形成的載體上的各保持孔插入保持玻璃基板來進行。使用吸附用具10取出玻璃基板W的作業(yè)既可以在除去載體之后進行，也可以在保留載體的狀態(tài)下進行。
[0081]作業(yè)員P把持吸附用具10，使在吸附用具10的主體下部設(shè)置的后述的吸附部與玻璃基板W的主平面密接，將吸附用具10提升，由此將玻璃基板W從下平臺40提起。
[0082]此外，吸附用具10也可以作為用于向設(shè)置在研磨墊42上的載體的各保持孔安設(shè)玻璃基板W的工具而使用。而且，吸附用具10在檢查玻璃基板W時，也可以作為用于向檢查裝置安設(shè)玻璃基板W的工具而使用。
[0083]另外，既可以使用多個吸附用具10來同時吸附多個玻璃基板W，也可以不使用人手而使用安裝在規(guī)定的裝置上的吸附用具10來吸附并搬運玻璃基板W。例如，也可以使吸附用具10分別吸附于由下平臺40上的載體的保持孔保持的多個玻璃基板W，將這些玻璃基板W—次提升。一張玻璃基板W的吸附所使用的吸附用具10的個數(shù)既可以是一個，也可以是多個。
[0084]〔吸附用具的結(jié)構(gòu)〕
[0085]圖2是表示吸附用具10的結(jié)構(gòu)的圖。圖2 (a)表示上方立體圖，圖2 (b)表示下方立體圖，圖2 (c)表不吸附用具10的下部的首I]視圖，圖2 (d)表不底面圖。吸附用具10是例如具備吸附部60和設(shè)有吸附部60的主體部70的處理工具。吸附部60是能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板的吸附構(gòu)件。
[0086]吸附用具10利用范德瓦爾斯力來吸附玻璃基板，因此能夠容易抑制玻璃基板的處理引起的損傷。而且，即使沒有真空產(chǎn)生裝置或電源等也能夠吸附玻璃基板，因此作業(yè)性、生產(chǎn)性提高，也能夠抑制成本。而且，能夠不使由研磨劑、水等浸潤的玻璃基板干燥而吸附玻璃基板，因此能夠防止磨粒等雜質(zhì)牢固地附著在玻璃基板的表面的情況，也能夠減少干燥造成的玻璃基板的損傷。
[0087]吸附部60設(shè)置在主體部70的下部，以便于利用吸附用具10容易地搬運玻璃基板。在圖2的情況下，吸附部60設(shè)置在構(gòu)成于主體部70的導(dǎo)管部71的下部。在吸附用具10是由作業(yè)者把持的工具時，導(dǎo)管部71例如是相當(dāng)于作業(yè)者握持的部分的柱狀部，為了使作業(yè)者容易握持，而形成為例如圓柱狀。但是，導(dǎo)管部71的形狀并不局限于本形狀，也可以是例如棱柱等其他的柱形狀。
[0088]吸附部60是以比導(dǎo)管部71的下表面74向下方突出的方式安裝在下表面74上的吸附構(gòu)件。作為吸附部60的材料，可列舉例如硅酮樹脂、聚酰胺、丁苯橡膠、氯磺化聚乙烯橡膠、丁腈橡膠、乙丙橡膠、氯丁橡膠、丁二烯橡膠、氟橡膠、異丁橡膠、聚氨酯橡膠等。
[0089]另外，吸附部60也可以具有在對玻璃基板進行吸附的面(吸附面61)上植毛有多個細毛的微小毛結(jié)構(gòu)。吸附面61的微小毛結(jié)構(gòu)可以使用例如硅酮樹脂、聚酰胺、聚酰亞胺、丁苯橡膠、氯磺化聚乙烯橡膠、丁腈橡膠、乙丙橡膠、氯丁橡膠、丁二烯橡膠、氟橡膠、異丁橡膠、聚氨酯橡膠等的高分子、碳納米管、金屬中的至少一個而形成。
[0090]如此，通過形成了在吸附面61上植毛有多個細毛那樣的微小毛結(jié)構(gòu)，在使吸附部60與玻璃基板接觸時，玻璃基板的被吸附的部分與吸附面61的分子間距尚減小(例如，分子間距離成為I?5A)能夠發(fā)現(xiàn)可吸附玻璃基板的大小的范德瓦爾斯力。需要說明的是，該吸附力通過吸附部60及吸附面61的材質(zhì)、形成在吸附面61上的微小毛結(jié)構(gòu)的形狀(例如，構(gòu)成微小毛結(jié)構(gòu)的多個細毛的截面積、長度及密度等)、吸附面61的接觸面積等，能夠進行
管理/調(diào)整。
[0091]例如，為了減小玻璃基板的被吸附的部分與吸附面61的分子間距離，有效地發(fā)現(xiàn)范德瓦爾斯力，吸附面61的微小毛結(jié)構(gòu)的細毛的長度優(yōu)選為0.1nm?2000nm,更優(yōu)選為Inm?300nm,進一步優(yōu)選為IOnm?200nm。吸附面61的細毛的直徑優(yōu)選為400nm以下，更優(yōu)選為2nm?50nm,進一步優(yōu)選為2nm?30nm,特別優(yōu)選為3nm?20nm。并且，吸附面61的細毛的縱橫比(細毛的直徑與長度之比)優(yōu)選為2.5以上，更優(yōu)選為5?50，進一步優(yōu)選為10?30。
[0092]另外，主體部70具備導(dǎo)管部71，該導(dǎo)管部71具有流路81。流路81是供用于使吸附部60與玻璃基板的吸附力F變化的流體(氣體或液體)所流通的通路，傳遞該流體的流體壓力P (氣體壓力或流體壓力)。作為向流路81封入的氣體的具體例，可列舉空氣、氮、氬、其他的氣體介質(zhì)，作為向流路81封入的液體的具體例，可列舉水、水溶液、油、其他的液體介質(zhì)。流路81以沿著導(dǎo)管部71的長度方向上的軸線方向延伸的方式形成在導(dǎo)管部71的內(nèi)部，延伸至在導(dǎo)管部71的下表面74形成的開口部82。
[0093]另外，主體部70具備壓力控制部80a及片材100。壓力控制部80a是使流路81內(nèi)的流體的流體壓力P變化的壓力控制單元。片材100是在流路81與吸附部60之間因流體壓力P的變化而變形的膜，以使在吸附部60和與吸附部60接觸的玻璃基板之間產(chǎn)生的吸附力F變化。因此，壓力控制部80a通過控制液體壓力P而能夠控制片材100的變形，因此能夠控制因片材100的變形而變化的吸附力F的大小。
[0094]由此，能夠抑制利用了范德瓦爾斯力的在吸附部60和與吸附部60接觸的玻璃基板之間產(chǎn)生的吸附力F在每當(dāng)利用吸附部60吸附玻璃基板時發(fā)生變動，或在形成于吸附部60的下表面的吸附面61內(nèi)發(fā)生變動，或在各個吸附用具10之間發(fā)生變動的情況。并且，能夠抑制吸附部60與玻璃基板之間的吸附不良、剝離不良。
[0095]片材100為了使其變形容易，優(yōu)選具有因流體壓力P的變化而撓曲變形的撓性。而且，片材100為了使其變形容易，優(yōu)選為因流體壓力P的變化而進行彈性變形的橡膠等彈性體。由于片材100具有撓性或彈性，而根據(jù)流體壓力P的大小能夠容易地調(diào)整其撓曲量，因此也能夠容易地調(diào)整吸附力F的大小。
[0096]片材100是以位于流路81與吸附部60之間的方式設(shè)置的膜，在圖2 (c)的情況下，以堵塞流路81的方式安裝在導(dǎo)管部71的下表面74，以位于流路81與吸附面61之間的方式設(shè)置。片材100也可以以堵塞流路81的方式設(shè)置在導(dǎo)管部71的內(nèi)部。
[0097]片材100位于流路81的端部，流路81通過片材100而與流路81的外部分隔。片材100阻擋流路81內(nèi)的流體向流路81的外部流出的情況。而且，流路81由片材100堵塞，由此能夠防止雜質(zhì)(例如，研磨劑、碎玻璃等)進入到流路81內(nèi)。由此，不需要流路81內(nèi)部的清掃作業(yè)，吸附部60周邊的清掃作業(yè)變得簡單。而且，能夠防止進入到流路81內(nèi)的雜質(zhì)附著于玻璃基板而損傷玻璃基板的情況。
[0098]片材100例如以在堵塞流路81的狀態(tài)下能夠變形的方式固定在開口部82的周邊。片材100的直徑D5比流路81或開口部82的直徑D4還大。需要說明的是，片材100的形狀并不局限于圓形，也可以是四邊形等其他的形狀。
[0099]片材100通過使玻璃基板與吸附部60的吸附面61接觸，從而因流體壓力P的變化而發(fā)生變形，以使在片材100和與吸附面61接觸的玻璃基板之間形成的閉空間110的容積變化。在圖2 (c)中，在玻璃基板與吸附面61接觸時，閉空間110是由吸附面61所吸附的玻璃基板的主平面、吸附部60的內(nèi)周壁62、片材100、下表面74圍成的密閉空間。
[0100]壓力控制部80a例如以片材100朝向流路81側(cè)突出而變形的方式使流體壓力P比大氣壓降低，由此能夠使閉空間110的容積增加。由于閉空間110被密閉，因此，由于閉空間110的容積的增加而閉空間110內(nèi)的壓力下降(成為負壓)。這樣的話，在玻璃基板與吸附面61之間產(chǎn)生的吸附力F由于在吸附面61原本具有的范德瓦爾斯力上增加了由負壓產(chǎn)生的吸附力，因此進一步增加。
[0101]反之，壓力控制部80a例如以片材100朝向流路81的相反側(cè)突出而變形的方式使流體壓力P比負壓高，由此能夠減少閉空間110的容積。由此，在閉空間110內(nèi)被壓縮的空氣對與吸附面61接觸的玻璃基板的主平面進行按壓，因此吸附力F減少。并且，該按壓力超過范德瓦爾斯力，由此能夠使玻璃基板從吸附面61剝離。由于玻璃基板從吸附面61分離，而閉空間110的密閉狀態(tài)被解除。
[0102]在圖2的情況下，吸附部60以將片材100的外緣的周圍包圍的方式呈圓環(huán)狀地設(shè)置在下表面74，以將閉空間110可靠地密閉。通過形成為圓環(huán)狀，而能夠防止玻璃基板上的研磨劑積存而固定于吸附部60的情況。吸附面61的形狀并不局限于圖示那樣的圓環(huán)狀，也可以是多邊形或橢圓形等其他的環(huán)形狀。吸附面61比導(dǎo)管部71的下表面74向下方突出，由此能夠防止玻璃基板直接碰撞到下表面74的情況。
[0103]另外，壓力控制部80a例如設(shè)置在與吸附部60及開口部82所設(shè)置的下表面74相反側(cè)的上部(例如，主體部70的上表面72或側(cè)面73)，且與流路81連接。
[0104]壓力控制部80a也可以具有以使流體壓力P變化的方式利用活塞等使流路81的容積變化的容積控制部。通過使密閉后的流路81的容積增加能夠減少流體壓力P，通過使密閉的流路81的容積減少能夠使流體壓力P增加。
[0105]壓力控制部80a也可以具有使因流路81的容積變化而產(chǎn)生變化的流體壓力P返回的壓力返回部。壓力返回部是使變化的流體壓力P返回至規(guī)定的初始壓力的單元，例如，通過使流路81向大氣開放的開放閥，能夠使負壓的流體壓力P恢復(fù)成大氣壓。
[0106]壓力控制部80a也可以具有例如通過按壓操作而能夠使流體壓力P的大小逐級變化的按壓操作部84。按壓操作部84也可以是以使流體壓力P變化的方式使流路81的容積變化的容積控制部。通過將具有按壓操作部84的壓力控制部80a設(shè)置于導(dǎo)管部71，作業(yè)者在把持了吸附用具10的狀態(tài)下，對按壓操作部84進行按壓操作，由此能夠逐級調(diào)整吸附力F的增減。
[0107]按壓操作部84可以是瞬時動作型(自動復(fù)位型)，也可以是交變動作型(位置保持型)，還可以是推拉動作型。作為交變動作型的具體例，可列舉心狀凸輪方式、旋轉(zhuǎn)凸輪方式、棘輪凸輪方式。
[0108]壓力控制部80a也可以是具有流體積存部的結(jié)構(gòu)。例如，流體積存部構(gòu)成于按壓操作部84的內(nèi)側(cè)的空間。通過對按壓操作部84進行按壓而將積存在流體積存部的流體向流路81壓出，因此產(chǎn)生對片材100進行按壓的流體壓力P。通過該流體壓力P而使片材100以朝向玻璃基板突出的方式變形，因此能夠利用閉空間110內(nèi)的空氣的壓出力從吸附部60剝離玻璃基板。這種情況下，按壓操作部84是以流體壓力P發(fā)生變化的方式通過流體積存部使流路81的容積變化的容積控制部。
[0109]另外，按壓操作部84優(yōu)選為將從外部施加的按壓力放開時返回到原來的形狀的彈性體。由此，能夠在從吸附部60剝離玻璃基板之后，迅速地復(fù)位成能夠產(chǎn)生對片材100進行按壓的流體壓力P的初始狀態(tài)。
[0110]圖3是表示另一實施方式例的吸附用具11的下部的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。省略與上述的吸附用具同樣的結(jié)構(gòu)的說明。如圖3那樣，吸附部90也可以以覆蓋導(dǎo)管部71的側(cè)面73的下部的周圍的方式安裝在側(cè)面73。吸附部90具有圓環(huán)狀的吸附面91。吸附面91比導(dǎo)管部71的下表面74向下方突出，由此能夠防止玻璃基板直接碰撞下表面74。
[0111]圖4是示意性地表示另一實施方式例的吸附用具12的吸附力F的變化的剖視圖。省略與上述的吸附用具同樣的結(jié)構(gòu)的說明。圖4的壓力控制部80b具有作為容積控制部的功能，通過在流路81內(nèi)進行滑動移動，而以使流路81內(nèi)的流體壓力P發(fā)生變化的方式使流路81的容積變化。
[0112]吸附用具12具備片材130作為在流路81與吸附部120之間通過流體壓力P的變化而變形的片材，以使吸附部120和與吸附部120接觸的玻璃基板W之間產(chǎn)生的吸附力F變化。片材130位于流路81與吸附部120之間，以堵塞流路81的方式安裝在導(dǎo)管部71的下表面74。
[0113]環(huán)狀的吸附部120的安裝面不是導(dǎo)管部71的下表面74，而是片材130的玻璃基板W側(cè)的表面131。吸附部120通過安裝于片材130，而伴隨著片材130的變形，在吸附部120的下側(cè)形成的吸附面121的朝向從向下改變?yōu)樾毕蛲狻?br> [0114]在玻璃基板W吸附于吸附面121的狀態(tài)下，流體壓力P既可以是正壓也可以是負壓。壓力控制部80b例如以片材130朝向流路81的相反側(cè)突出而變形的方式，使流路81的容積減少而提高流體壓力P，由此能夠使閉空間110的容積及玻璃基板W與吸附面121的接觸面積減少。由此，吸附力F減少，因此能夠使玻璃基板W從吸附面121剝離。
[0115]圖5是示意性地表示另一實施方式例的吸附用具13的吸附力F的變化的剖視圖。省略與上述的吸附用具同樣的結(jié)構(gòu)的說明。圖5的壓力控制部80c也具有作為容積控制部的功能，通過在流路81內(nèi)進行滑動移動，以使流路81內(nèi)的流體壓力P變化的方式使流路81的容積變化。
[0116]吸附用具13具備片材150作為在流路81與吸附部140之間通過流體壓力P的變化而變形的片材，以使吸附部140和與吸附部140接觸的玻璃基板W之間產(chǎn)生的吸附力F變化。片材150位于流路81與吸附部140之間，以堵塞流路81的方式安裝在導(dǎo)管部71的下表面74。
[0117]圓形狀的吸附部140的安裝面不是導(dǎo)管部71的下表面74，而是片材150的玻璃基板W側(cè)的表面152。片材150具有在表面152上呈圓環(huán)狀形成的突起部151，吸附部140由圓環(huán)狀的突起部151包圍。突起部151并不局限于圓環(huán)狀，可以是任意的形狀。吸附部140通過安裝于片材150，伴隨著片材150以朝向流路81側(cè)突出的方式變形的情況，在吸附部140的下側(cè)形成的吸附面141以朝向流路81側(cè)突出的方式變形。而且，當(dāng)片材150以朝向流路81側(cè)突出的方式變形時，突起部151的朝向從向下改變?yōu)樾毕騼?nèi)。
[0118]在玻璃基板W吸附于吸附面141的狀態(tài)下，流體壓力P既可以是正壓也可以是負壓。壓力控制部80c例如以片材150朝向流路81側(cè)突出而變形的方式，使流路81的容積增加而降低流體壓力P，由此能夠減少玻璃基板W與吸附面141的接觸面積。另外，伴隨著片材150以朝向流路81側(cè)突出的方式發(fā)生變形的情況，突起部151將玻璃基板W朝向從吸附面141離開的方向壓出。由此，吸附力F減少，因此能夠使玻璃基板W從吸附面141剝離。
[0119]圖6是示意性地表示另一實施方式例的吸附用具14的吸附力F的變化的剖視圖。省略與上述的吸附用具同樣的結(jié)構(gòu)的說明。圖6的壓力控制部80d也具有作為容積控制部的功能，通過在流路81內(nèi)進行滑動移動，以使流路81內(nèi)的流體壓力P變化的方式使流路81的容積變化。
[0120]吸附部140通過安裝于片材150，伴隨著片材150以朝向流路81的相反側(cè)突出的方式發(fā)生變形的情況，在吸附部140的下側(cè)形成的吸附面141以朝向流路81的相反側(cè)突出的方式變形。而且，當(dāng)片材150以朝向流路81的相反側(cè)突出的方式變形時，突起部151的朝向從向下改變?yōu)樾毕蛲狻?br> [0121]在玻璃基板W吸附于吸附面141的狀態(tài)下，流體壓力P既可以是正壓也可以是負壓。壓力控制部80d例如以片材150朝向流路81的相反側(cè)突出地變形的方式，使流路81的容積減少而提高流體壓P，由此能夠減少玻璃基板W與吸附面141的接觸面積。而且，伴隨著片材150以朝向流路81的相反側(cè)突出的方式發(fā)生變形的情況，突起部151將玻璃基板W朝著從吸附面141離來的方向壓出。由此，吸附力F減少，因此能夠使玻璃基板W從吸附面141剝離。
[0122]圖7是示意性地表示另一實施方式例的吸附用具15的吸附力F的變化的剖視圖。省略與上述的吸附用具同樣的結(jié)構(gòu)的說明。圖7的壓力控制部80e也具有作為容積控制部的功能，通過在流路81內(nèi)進行滑動移動，以使流路81內(nèi)的流體壓力P發(fā)生變化的方式使流路81的容積變化。
[0123]吸附用具15具備片材170作為在流路81與吸附部160之間通過流體壓力P的變化而變形的片材，以使在吸附部160和與吸附部160接觸的玻璃基板W之間產(chǎn)生的吸附力F變化。片材170位于流路81與吸附部160之間，以堵塞流路81的方式安裝在導(dǎo)管部71的下表面74。
[0124]環(huán)狀的吸附部160的安裝面不是導(dǎo)管部71的下表面74，而是片材170的玻璃基板W側(cè)的表面172。吸附部160通過安裝于片材170，伴隨著片材170的變形，在吸附部160的下側(cè)形成的吸附面161的朝向從向下改變?yōu)樾毕蛲?。片?70的玻璃基板W側(cè)的表面172的中央部通過流體壓力P，貫通在吸附部160的中央部形成的孔162而將玻璃基板W壓出。
[0125]在玻璃基板W吸附于吸附面161的狀態(tài)下，流體壓力P既可以是正壓也可以是負壓。壓力控制部80e例如以片材170朝向流路81的相反側(cè)突出地變形的方式，使流路81的容積減少而提高流體壓力P，由此能夠減少玻璃基板W與吸附面161的接觸面積。而且，伴隨著片材170以朝向流路81的相反側(cè)突出的方式發(fā)生變形的情況，片材170的表面172的中央部一邊變形一邊插通孔162，并將玻璃基板W朝向從吸附面161離開的方向壓出。由此，吸附力F減少，因此能夠使玻璃基板W從吸附面161剝離。
[0126]〔吸附用具的操作方法〕
[0127]圖8是表示利用吸附用具10吸附玻璃基板W而提升的情況的圖。玻璃基板W是在中央部形成有圓孔C的環(huán)狀的圓盤狀基板。作為玻璃基板W的一例,可列舉磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。主平面S是由玻璃基板W的外周端面C2與圓孔C的內(nèi)周端面Cl夾持的平面狀的環(huán)狀面。當(dāng)使吸附部60與主平面S密接時，在吸附面61與主平面S之間產(chǎn)生范德瓦爾斯力，因此利用該范德瓦爾斯力能夠提升玻璃基板W。
[0128]通過壓力控制部80a的壓力控制(例如，通過對按壓操作部84進行操作)，將閉空間110內(nèi)的壓力形成為負壓，由此使吸附面61與玻璃基板W的吸附力F增加。
[0129]吸附部60的吸附面61優(yōu)選為能夠?qū)ΣＡЩ錡的主平面S中的中心角Θ為180°以下(優(yōu)選為120°以下，更優(yōu)選為90°以下)的區(qū)域SI內(nèi)進行吸附的尺寸。由此，確保吸附玻璃基板W而提升的充分的范德瓦爾斯力，且容易使玻璃基板W從吸附部60剝離。而且，導(dǎo)管部71的向玻璃基板W的投影面積如圖示那樣為區(qū)域SI的面積以下時，能夠使吸附用具10緊湊且容易操作，作業(yè)性優(yōu)異。需要說明的是，中心角Θ是通過形成外周端面Cl的外周圓上的點PU P2的2個半徑線所夾持的角。點O只要是形成外周端面Cl的外周圓的中心即可。
[0130]圖9是表示使玻璃基板W從吸附用具10剝離的情況的圖。通過壓力控制部80a的壓力控制(例如，通過進行將按壓操作部84按壓的接觸操作)，流路81內(nèi)的流體對片材100進行按壓。在按壓操作部84構(gòu)成流體積存部時，按壓操作部84從其頂點朝向下方被壓扁。由于按壓操作部84壓扁而產(chǎn)生的流體的壓力，流路81內(nèi)的流體對片材100進行按壓。由此，吸附力F減少，能夠使玻璃基板W從吸附部60的吸附面61簡單地脫離。
[0131]需要說明的是，在圖8、圖9中，示出了在一張玻璃基板W的吸附及脫離中使用的吸附用具10的個數(shù)為一個的情況，但吸附用具10的個數(shù)也可以是多個。在使用多個吸附用具10時，各吸附用具10可以設(shè)置于能夠使玻璃基板W提升或下降的裝置。由此，能夠使玻璃基板W以與水平面平行的狀態(tài)提升或下降。
[0132]〔玻璃基板的制造方法〕
[0133]接下來，列舉磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序為例來說明玻璃基板制造方法中的吸附用具10的使用方法。
[0134]通常，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序包括以下的工序。
[0135]〔工序I〕將通過浮法、熔化法、再曳引法或沖壓成形法而成形的玻璃原基板加工成在中央部具有圓孔的圓盤形狀之后，對內(nèi)周側(cè)面和外周側(cè)面進行倒角加工。
[0136]〔工序2〕對玻璃基板的側(cè)面部和倒角部進行端面研磨。
[0137]〔工序3〕對玻璃基板的主平面進行研磨。研磨工序可以僅進行I次研磨，也可以進行I次研磨和2次研磨，還可以在2次研磨之后進行3次研磨。
[0138]〔工序4〕對玻璃基板進行清洗，得到磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0139]〔工序5〕在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等薄膜,制造磁盤(磁記錄介質(zhì))。
[0140]在上述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造工序中，可以在〔工序I〕或〔工序2〕的工序的前后中的至少一方實施主平面的打磨(例如，游離磨粒打磨、固定磨粒打磨等)，也可以在各工序間實施玻璃基板的清洗(工序間清洗)、玻璃基板表面的蝕刻(工序間蝕刻)。需要說明的是，主平面的打磨(例如，游離磨粒打磨、固定磨粒打磨等)是廣義的主平面的研磨。
[0141]而且，也可以是，在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板要求高機械強度時，在研磨工序前、或研磨工序后、或研磨工序期間實施在玻璃基板的表層形成強化層的強化工序(例如，化學(xué)強化工序)。[0142]另外，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板可以是非結(jié)晶玻璃，也可以是結(jié)晶化玻璃，還可以是在玻璃基板的表層具有強化層的強化玻璃(例如，化學(xué)強化玻璃)。而且，玻璃基板的玻璃原基板可以是利用浮法制造的玻璃原基板，可以是利用熔化法制造的玻璃原基板，可以是利用再曳引法制造的玻璃原基板，還可以是利用沖壓成形法制造的玻璃原基板。
[0143]在此，參照圖1、圖8、圖9，說明將〔工序3〕的研磨工序結(jié)束后的玻璃基板W從研磨裝置20取出時的操作步驟。
[0144](步驟I)首先，作業(yè)員P把持吸附用具10或規(guī)定的裝置保持吸附用具10，使吸附部60的吸附面61與玻璃基板W的上表面(主平面S)密接。吸附面61利用范德瓦爾斯力而吸附于主平面S，由此能夠?qū)⒃诓ＡЩ錡的主平面S產(chǎn)生的傷痕、局部的粗糙缺陷等抑制成最小限度。此外，作業(yè)者P或規(guī)定的裝置通過對壓力控制部80a進行操作，而使流路81的流體壓力P減壓，使閉空間110內(nèi)成為負壓。由此，吸附面61與主平面S的密接程度提聞。
[0145](步驟2)在該密接狀態(tài)下，作業(yè)員P或規(guī)定的裝置對導(dǎo)管部71進行把持或保持而提升吸附用具10，由此將研磨結(jié)束后的玻璃基板W從研磨裝置20的下平臺40的研磨墊42提起。
[0146](步驟3)作業(yè)者P或規(guī)定的裝置將由吸附用具10吸附的玻璃基板W抬至收納容器50的上方之后，對按壓操作部84進行按壓操作。由此，玻璃基板W通過由流體壓力P引起的片材100的變形，而從吸附部60分離，以鉛垂狀態(tài)收容在收納容器50內(nèi)。需要說明的是，玻璃基板W也可以以水平狀態(tài)收容在收納容器50內(nèi)。
[0147]如此，作業(yè)者P或規(guī)定的裝置通過使用吸附用具10，能夠高技巧地進行玻璃基板W的吸附與分離的反復(fù)作業(yè)。即，作業(yè)者P或規(guī)定的裝置僅通過使吸附部60與玻璃基板W接觸就能夠使玻璃基板W吸附于吸附部60，僅通過對按壓操作部84進行按壓操作，就能夠使玻璃基板W牢固地吸附于吸附部60，能夠使玻璃基板W從吸附部60分離。尤其是如圖8、圖9所示，按壓操作部84設(shè)置在導(dǎo)管部71的上部。因此，作業(yè)者P在以小指成為玻璃基板V側(cè)的方式握住導(dǎo)管部71的狀態(tài)下，能夠利用拇指簡單地對按壓操作部84進行按壓，因此能夠高效率地進行玻璃基板W的吸附與分離的反復(fù)作業(yè)。
[0148]圖10、圖11是為了說明吸附用具200的詳細的處理流程而示意性地表示的圖，圖10表不流程的如半，圖11表不流程的后半。圖10、圖11不出向流路81封入的流體為空氣(氣體)的情況和為水或油(液體)的情況這兩者。需要說明的是，關(guān)于標號，除了一部分的狀態(tài)圖外進行省略。
[0149]壓力控制部80f具有控制開關(guān)210和中性線開關(guān)220?？刂崎_關(guān)210是以使流路81的流體壓力P變化的方式使流路81的容積變化的容積控制部。中性線開關(guān)220是使因流路81的容積的變化引起變化的流體壓力P返回的壓力返回部。
[0150]控制開關(guān)210具有活塞211、彈簧212、及密封材料213?；钊?11是通過從外部被進行按壓操作而在流路81內(nèi)滑動來使流路81的容積變化的構(gòu)件。彈簧212是對活塞211向流路81的容積增加的方向施力的彈性體。密封材料213是對流路81進行密封的構(gòu)件，以避免流路81內(nèi)的流體向外部漏出。
[0151]中性線開關(guān)220具有活塞221、彈簧222、密封材料223、開放通路224?；钊?21是通過從外部進行按壓操作而使流體壓力P返回規(guī)定的初始狀態(tài)的壓力(例如，流路81內(nèi)的流體為空氣時，為大氣壓)的構(gòu)件。彈簧222是對活塞221朝向?qū)⒘黧w壓力P維持為恒定的方向施力的彈性體。密封材料223是對流路81進行密封的構(gòu)件，以避免流路81內(nèi)的流體向外部泄漏。
[0152]在控制開關(guān)210為斷開狀態(tài)(活塞211未被按壓的狀態(tài))時，流路81的容積為最大的初始狀態(tài)。在控制開關(guān)210為接通狀態(tài)(活塞211被按壓的狀態(tài))時，流路81的容積從初始狀態(tài)開始減少。另一方面，在中性線開關(guān)220為斷開狀態(tài)(活塞221未被按壓的狀態(tài))時，流體壓力P為保持恒定的狀態(tài)。在中性線開關(guān)220為接通狀態(tài)(活塞221被按壓的狀態(tài))時，流體壓力P成為其初始狀態(tài)的壓力(初始壓力)。
[0153]另外，圖示的控制開關(guān)210及中性線開關(guān)220以瞬時動作型表示，但也可以是交變動作型等的其他的動作型的開關(guān)。
[0154]“(O)固定位置”表示吸附用具處于規(guī)定的固定位置的狀態(tài)。在此狀態(tài)下，流體壓力P不恒定。
[0155]在“(I)取出開始”中，通過吸附用具開始玻璃基板W的取出，因此使控制開關(guān)210及中性線開關(guān)220均被接通。由此，流體壓力P成為初始壓力。
[0156]在“(2)取出下降”中，使吸附用具下降到玻璃基板W的主平面上，使吸附部60與玻璃基板W接觸?？刂崎_關(guān)210保持接通的狀態(tài)下中性線開關(guān)220斷開，由此流體壓力P維持為初始壓力。
[0157]在“(3)取出吸附”中，控制開關(guān)210被斷開。由此，流路81的容積增加(返回初始的最大容積)，因此流體壓力P減少(在流體為氣體時，流體壓力P成為負壓)。由此，片材100以朝向流路81側(cè)突出的方式變形，因此閉空間110內(nèi)的壓力成為負壓。由此，吸附力F增加。
[0158]在“(4)取出上升”中，吸附用具與吸附于吸附部60的玻璃基板W—起上升。
[0159]在“(5)取出下降”中，吸附用具移動到收納容器50 (參照圖1)的上方之后，與吸附于吸附部60的玻璃基板W—起下降。
[0160]在“(6)取出下降”中，在控制開關(guān)210保持斷開的狀態(tài)下中性線開關(guān)220被接通。由此，減少的流體壓力P返回至初始壓力。
[0161]在“(7)取出下降”中，中性線開關(guān)220被斷開，由此流體壓力P維持成初始壓力。
[0162]在“(8)取出上升開始”中，在中性線開關(guān)220保持斷開的狀態(tài)下控制開關(guān)210被接通，由此流路81的容積減少，流體壓力P上升為正壓。由此，片材100以向流路81的相反側(cè)突出的方式變形。由此，閉空間110的容積減少，閉空間110內(nèi)的空氣對玻璃基板W進行按壓，因此吸附力F減少。
[0163]在“(9)取出上升”中，使吸附用具上升，由此，玻璃基板W從吸附部60分離，收容在收納容器50內(nèi)。并且，本流程返回“(I)固定位置”。
[0164]圖12、圖13示出中性線開關(guān)220的結(jié)構(gòu)例。圖12表示中性線開關(guān)220關(guān)閉的斷開狀態(tài)(流路81與開放通路224未連通的狀態(tài))，圖13表示中性線開關(guān)220打開的接通狀態(tài)(流路81與開放通路224連通的狀態(tài))。
[0165]流路81與開放通路224之間的連通與非連通的切換由膜片225進行。彈簧222配置在中性線開關(guān)220的內(nèi)部空間內(nèi)，彈簧222的一方的端部與膜片225的一方的表面連接，彈簧222的另一方的端部與所述內(nèi)部空間的頂面227連結(jié)。[0166]在活塞221未被按壓的圖12的狀態(tài)下，由彈簧222的作用力按壓的膜片225將流路81與開放通路224之間的流體的流通隔斷。由于活塞221被按壓(圖13)，與活塞221的按壓操作連動的凸輪226旋轉(zhuǎn)，與凸輪226連接的彈簧222伴隨著凸輪226的旋轉(zhuǎn)，朝著向膜片225施加的作用力減少的方向即頂面227的方向被壓縮。由此，流路81與開放通路224連通，能夠使流路81內(nèi)的流體壓力P與開放通路224的壓力(初始壓力)相等。
[0167]以上，通過實施方式例說明了吸附用具及玻璃基板的制造方法，但本發(fā)明并未限定為上述的實施方式例。與另一實施方式例的一部分或全部的組合、置換等各種變形及改良可包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0168]例如，在圖2 (d)中，示出了吸附部60的外周壁63的直徑D2比圓柱狀的導(dǎo)管部71的直徑DI小的例子，但直徑D2也可以與直徑DI相等。而且，示出了吸附部60的內(nèi)周壁62的直徑D3比開口部82的直徑D4大的例子，但片材100只要發(fā)揮功能即可，直徑D3可以與直徑D4相等，也可以比直徑D4小。
[0169]另外，吸附部的吸附面的形狀、面積、個數(shù)也可以根據(jù)吸附對象的玻璃基板的大
小、重量任意變更。
[0170]另外，也可以通過將吸附于吸附用具的玻璃基板W卡掛于收納容器50的緣、分隔件等物體，從而使玻璃基板W從吸附用具分離。這種情況下，將玻璃基板剝離的機構(gòu)也可以不設(shè)于吸附用具。
[0171]在使用多個吸附用具IO時，各吸附用具IO例如也可以經(jīng)由傳導(dǎo)空氣、水等流體的配管，而與共用的壓力產(chǎn)生裝置連接。通過在該壓力產(chǎn)生裝置與各吸附用具之間流入流出的流體的流體壓力，能夠使玻璃基板從各吸附用具的吸附部暫時分離，或使玻璃基板暫時吸附于各吸附用具的吸附部。
[0172]另外，玻璃基板的種類并不局限于磁記錄介質(zhì)用，也可以是光掩模用、液晶或有機EL等的顯示器用、光拾取元件、光學(xué)濾波器、光學(xué)透鏡等光學(xué)零件用等。
[0173]另外，吸附用具也可以在對玻璃基板以外的基板進行處理時使用。作為玻璃基板以外的基板，例如可列舉例如磁記錄介質(zhì)用鋁基板、半導(dǎo)體用硅基板等。
【權(quán)利要求】
1.一種玻璃基板吸附用具，其具備: 流路； 吸附部，其能夠利用范德瓦爾斯力吸附玻璃基板； 壓力控制部，其使所述流路內(nèi)的流體壓力變化； 片材，其在所述流路與所述吸附部之間通過所述流體壓力的變化而發(fā)生變形，以使在所述吸附部和與所述吸附部接觸的玻璃基板之間產(chǎn)生的吸附力變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述壓力控制部使所述流路的容積變化來使所述流體壓力發(fā)生變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述壓力控制部具有使因所述流路的容積的變化而變化的所述流體壓力返回的壓力返回部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述壓力返回部使所述流體壓力成為大氣壓。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述片材發(fā)生變形以使在所述片材和與所述吸附部接觸的玻璃基板之間形成的空間的容積變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求1?5中任一項所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述壓力控制部通過提高所述流體壓力來使所述吸附力減少。
7.根據(jù)權(quán)利要求1?6中任一項所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述壓力控制部通過降低所述流體壓力來使所述吸附力增加。
8.根據(jù)權(quán)利要求1?7中任一項所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述玻璃基板吸附用具在圓盤狀玻璃基板的吸附中使用。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的玻璃基板吸附用具，其中， 所述吸附部僅對圓盤狀玻璃基板的主平面中的中心角為180°以下的區(qū)域內(nèi)進行吸附。
10.一種玻璃基板的制造方法，其具有研磨玻璃基板的工序、清洗玻璃基板的工序、及檢查玻璃基板的工序，所述玻璃基板的制造方法的特征在于， 使用權(quán)利要求1?9中任一項所述的玻璃基板吸附用具來搬運玻璃基板。
11.一種玻璃基板的制造方法，其具有使用研磨裝置對玻璃基板進行研磨的工序，所述玻璃基板的制造方法的特征在于， 在從研磨裝置取出玻璃基板時，使用權(quán)利要求1?9中任一項所述的玻璃基板吸附用具。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的玻璃基板的制造方法，其中， 所述玻璃基板是磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
【文檔編號】B65G49/06GK103910161SQ201310741157
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月28日
【發(fā)明者】小林雅尚, 伊勢博利, 松田至, 林俊彥, 土屋誠 申請人:旭硝子株式會社