一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備及曝光機(jī)組系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示裝置制作技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備及曝光機(jī)組系統(tǒng)，以提高掩模板的搬運(yùn)效率，減少掩模板在搬運(yùn)過程中的損壞或污染。掩模板搬運(yùn)設(shè)備包括：掩模板存儲裝置、運(yùn)輸裝置、第一取放裝置和第二取放裝置；運(yùn)輸裝置包括軌道和滑動裝配在軌道上的掩模板運(yùn)載裝置；第一取放裝置用于在掩模板存儲裝置與掩模板運(yùn)載裝置之間取放掩模板；對應(yīng)掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)每一個曝光機(jī)所分別設(shè)置的第二取放裝置用于在掩模板運(yùn)載裝置與曝光機(jī)的掩模板緩存裝置之間取放掩模板。
【專利說明】
一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備及曝光機(jī)組系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置制作技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備及曝光機(jī)組系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯示器及有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造過程中，使用掩模板進(jìn)行掩模曝光是非常重要的核心工藝，它既是決定產(chǎn)品品質(zhì)的重要環(huán)節(jié)，也是影響產(chǎn)品良率的關(guān)鍵部分。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，掩模板存放于掩模板存儲區(qū)，當(dāng)需要使用掩模板時，人工將掩模板搬運(yùn)至曝光機(jī)的掩模板緩存區(qū)。目前，曝光機(jī)的掩模板緩存區(qū)只能緩存五張掩模板。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于，當(dāng)生產(chǎn)量較大、產(chǎn)品型號較多，或者需要進(jìn)行生產(chǎn)管理調(diào)控時，需要耗費(fèi)大量的人力來搬運(yùn)掩模板，勞動力成本較高;此外，人工搬運(yùn)掩模板也難以保障掩模板的完整度和清潔度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供了一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備及曝光機(jī)組系統(tǒng)，以提高掩模板的搬運(yùn)效率，減少掩模板在搬運(yùn)過程中的損壞或污染。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0007]—種掩模板搬運(yùn)設(shè)備，包括:
[0008]掩模板存儲裝置；
[0009]運(yùn)輸裝置，包括軌道和滑動裝配在所述軌道上的掩模板運(yùn)載裝置；
[0010]第一取放裝置，用于在掩模板存儲裝置與掩模板運(yùn)載裝置之間取放掩模板；
[0011 ]對應(yīng)掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)每一個曝光機(jī)所分別設(shè)置的第二取放裝置，用于在掩模板運(yùn)載裝置與曝光機(jī)的掩模板緩存裝置之間取放掩模板。
[0012]本發(fā)明提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備中，第一取放裝置從掩模板存儲裝置中取出所需的掩模板，放置在掩模板運(yùn)載裝置上并沿軌道運(yùn)載到目標(biāo)曝光機(jī)對應(yīng)的第二取放裝置處，該第二取放裝置從掩模板運(yùn)載裝置中取出所需掩模板并放置到所述目標(biāo)曝光機(jī)中，完成整個掩模板的搬運(yùn)過程。本發(fā)明提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備有效地節(jié)約了人力成本，提高掩模板的搬運(yùn)效率，并且減少掩模板在搬運(yùn)過程中的損壞或污染。
[0013]優(yōu)選地，該掩模板搬運(yùn)設(shè)備還包括與掩模板運(yùn)載裝置、第一取放裝置和第二取放裝置分別連接的控制器，用于控制掩模板運(yùn)載裝置在所述軌道上滑動，及控制第一取放裝置和第二取放裝置的取放工作狀態(tài)。
[0014]優(yōu)選地，所述掩模板存儲裝置包括多個掩模板存儲腔以及用于檢測所述多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息的第一檢測裝置;每個曝光機(jī)的掩模板緩存裝置包括至少一個掩模板緩存腔以及用于檢測所述至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息的第二檢測裝置;所述控制器，還與第一檢測裝置和第二檢測裝置連接，用于根據(jù)所述多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息和所述至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息，控制第一取放裝置和第二取放裝置取放掩模板;其中，所述掩模板存儲信息包括掩模板型號信號和/或存儲位置?目息O
[0015]優(yōu)選地，所述第一檢測裝置包括與所述多個掩模板存儲腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單元，所述第二檢測裝置包括與所述至少一個掩模板緩存腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單
J L ο
[0016]優(yōu)選地，所述第一檢測單元包括紅外攝像頭、掃描儀或壓力傳感器;所述第二檢測單元包括紅外攝像頭、掃描儀或壓力傳感器。
[0017]優(yōu)選地，所述軌道為磁懸浮軌道。
[0018]優(yōu)選地，所述軌道包括上層軌道和下層軌道，所述上層軌道和下層軌道上分別滑動裝配有掩模板運(yùn)載裝置。
[0019]優(yōu)選地，所述第一取放裝置為機(jī)械手臂，所述第二取放裝置為機(jī)械手臂。
[0020]優(yōu)選地，該掩模板搬運(yùn)設(shè)備還包括包覆于所述運(yùn)輸裝置外的殼體，所述殼體在所述第一取放裝置和所述第二取放裝置處對應(yīng)設(shè)置有活動門。
[0021]本發(fā)明還提供了一種掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)，該掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)包括至少一臺曝光機(jī)，以及如上所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備。
[0022]本發(fā)明提供的掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)包括至少一臺曝光機(jī)，以及如上所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，該曝光機(jī)組系統(tǒng)可以在顯示裝置制作的光刻工藝中，不依賴人工實時自動完成掩模板的搬運(yùn)、調(diào)度和更換，保證顯示裝置的制作過程方便快捷地進(jìn)行。
【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明一種實施例提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2為本發(fā)明設(shè)置有殼體的運(yùn)輸裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明一種優(yōu)選實施例提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明一種實施例提供的掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]附圖標(biāo)記:
[0028]1-掩模板存儲裝置
[0029]2-運(yùn)輸裝置
[0030]201-軌道
[0031]2011-上層軌道
[0032]2012-下層軌道
[0033]202-掩模板運(yùn)載裝置
[0034]203-殼體
[0035]301-第一取放裝置
[0036]302-第二取放裝置
[0037]4-控制器
[0038]5-掩模板緩存裝置
[0039]601-第一檢測裝置
[0040]602-第二檢測裝置[0041 ] 7-曝光機(jī)
【具體實施方式】
[0042]為提高掩模板的搬運(yùn)效率，減少掩模板在搬運(yùn)過程中的損壞或污染。本發(fā)明實施例提供了一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備和曝光機(jī)組系統(tǒng)。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，以下舉實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0043]參考圖1，本發(fā)明一種實施例提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，包括:
[0044]掩模板存儲裝置I；
[0045]運(yùn)輸裝置2，包括軌道201和滑動裝配在軌道201上的掩模板運(yùn)載裝置202;
[0046]第一取放裝置301，用于在掩模板存儲裝置I與掩模板運(yùn)載裝置202之間取放掩模板；
[0047]對應(yīng)掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)每一個曝光機(jī)所分別設(shè)置的第二取放裝置302，用于在掩模板運(yùn)載裝置202與曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5之間取放掩模板。
[0048]本發(fā)明提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備中，第一取放裝置301從掩模板存儲裝置I中取出所需的掩模板，放置在掩模板運(yùn)載裝置202上并沿軌道201運(yùn)載到目標(biāo)曝光機(jī)對應(yīng)的第二取放裝置302，該第二取放裝置302從掩模板運(yùn)載裝置202中取出所需掩模板并放置到目標(biāo)曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5中，完成整個掩模板的搬運(yùn)過程。本發(fā)明提供的掩模板搬運(yùn)設(shè)備有效地節(jié)約了人力成本，提高掩模板的搬運(yùn)效率，并且減少掩模板在搬運(yùn)過程中的損壞或污染。
[0049]優(yōu)選地，軌道201采用磁懸浮軌道，磁懸浮軌道可以減少摩擦，同時運(yùn)輸掩模板也更為平穩(wěn)。如圖2所示，軌道201優(yōu)選包括上層軌道2011和下層軌道2012。上下雙層的軌道設(shè)置可以同時進(jìn)行多塊掩模板的搬運(yùn)，并且可以實現(xiàn)掩膜板的交換運(yùn)輸。掩模板運(yùn)載裝置202的寬度與軌道201寬度相匹配，且在掩模板運(yùn)載裝置202的邊緣設(shè)置用于放置掩模板滑動的銷柱或擋件。更優(yōu)選地該掩模板搬運(yùn)設(shè)備還包括包覆于運(yùn)輸裝置2外的殼體203，殼體203在第一取放裝置301和第二取放裝置302處對應(yīng)設(shè)置有活動門。包覆式設(shè)置的殼體203可以有效避免外界灰塵等污染掩模板，活動門在第一取放裝置301或第二取放裝置302工作時打開，平時處于關(guān)閉狀態(tài)。
[0050]取放裝置包括機(jī)械手臂、活動托盤和貨叉等，本發(fā)明對第一取放裝置301和第二取放裝置302不做具體限定，只要能夠?qū)崿F(xiàn)取放和移動掩模板即可，本發(fā)明的第一取放裝置301和第二取放裝置302優(yōu)選采用機(jī)械手臂，目前的機(jī)械手臂功能十分完善，可以很好地勝任掩模板的取放工作。
[0051]在本發(fā)明掩模板搬運(yùn)設(shè)備的一個優(yōu)選地實施例中，如圖3所示，該掩模板搬運(yùn)設(shè)備還包括與掩模板運(yùn)載裝置202、第一取放裝置301和第二取放裝置302分別連接的控制器4，該控制器4用于控制掩模板運(yùn)載裝置202在軌道201上滑動，及控制第一取放裝置301和第二取放裝置302的取放工作狀態(tài)?？刂破?的設(shè)置用于實現(xiàn)掩膜板搬運(yùn)過程中的自動化控制，當(dāng)掩模板搬運(yùn)開始時，控制器4控制第一取放裝置301將掩模板從掩模板存儲裝置I中搬運(yùn)到掩模板運(yùn)載裝置202中，然后控制器4再控制掩模板運(yùn)載裝置202在軌道201上滑動到目標(biāo)曝光機(jī)的位置，最后控制器4控制目標(biāo)曝光機(jī)對應(yīng)的第二取放裝置302將掩模板從掩模板運(yùn)載裝置202中搬運(yùn)至目標(biāo)曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5中。當(dāng)然，控制器4也可以控制實現(xiàn)以下過程:將掩模板從曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5中搬運(yùn)至掩模板運(yùn)載裝置202中，然后運(yùn)載放置至掩模板存儲裝置I或另一曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5中。
[0052]進(jìn)一步地，如圖4所示，掩模板存儲裝置I包括多個掩模板存儲腔以及用于檢測所述多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息的第一檢測裝置601;每個曝光機(jī)的掩模板緩存裝置5包括至少一個掩模板緩存腔以及用于檢測至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息的第二檢測裝置602;控制器4還與第一檢測裝置601和第二檢測裝置602連接，用于根據(jù)多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息和至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息，控制第一取放裝置和第二取放裝置取放掩模板;其中，掩模板存儲信息包括掩模板型號信號和存儲位置信息中的一種或多種，優(yōu)選掩模板存儲信息包括掩模板型號信號和存儲位置信息。即第一檢測裝置601可以檢測搜集掩模板存儲裝置I中每一個掩模板存儲腔中是否放置有掩模板以及所放置的掩模板型號信息，并將這些信息發(fā)送給控制器4;第二檢測裝置602可以檢測搜集對應(yīng)的掩模板緩存裝置5中每一個掩模板存儲腔中是否放置有掩模板以及所放置的掩模板型號信息，并將這些信息發(fā)送給控制器4;第一檢測裝置601和第二檢測裝置602的設(shè)置用于實現(xiàn)控制器4對掩模板的精確搬運(yùn)。優(yōu)選地第一檢測裝置601包括與多個掩模板存儲腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單元，第二檢測裝置602包括與至少一個掩模板緩存腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單元。檢測單元與掩模板存儲腔或掩模板緩存腔的一一對應(yīng)設(shè)置能夠更精確地實現(xiàn)所需掩模板的搬運(yùn)。能夠?qū)崿F(xiàn)對掩模板的位置和型號信息監(jiān)測的檢測單元包括紅外攝像頭、掃描儀或壓力傳感器等;本發(fā)明的第一檢測單元和第二檢測單元優(yōu)選采用掃描儀。
[0053]本發(fā)明還公開了如圖4所示的一種掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)的實施例，該掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)包括至少一臺曝光機(jī)7，以及如上所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備。曝光機(jī)7取用與的掩模板緩存裝置5中的掩模板進(jìn)行曝光工藝，當(dāng)所需型號的掩模板在掩模板緩存裝置5沒有時，掩模板搬運(yùn)設(shè)備開始運(yùn)作從另外的掩模板緩存裝置5或掩模板存儲裝置I中搬運(yùn)所需型號的掩模板。該曝光機(jī)組系統(tǒng)可以在顯示裝置制作的光刻工藝中，不依賴人工實時自動完成掩模板的搬運(yùn)、調(diào)度和更換，保證顯示裝置的制作過程方便快捷地進(jìn)行。
[0054]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，包括: 掩模板存儲裝置； 運(yùn)輸裝置，包括軌道和滑動裝配在所述軌道上的掩模板運(yùn)載裝置； 第一取放裝置，用于在掩模板存儲裝置與掩模板運(yùn)載裝置之間取放掩模板； 對應(yīng)掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)每一個曝光機(jī)所分別設(shè)置的第二取放裝置，用于在掩模板運(yùn)載裝置與曝光機(jī)的掩模板緩存裝置之間取放掩模板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，還包括與掩模板運(yùn)載裝置、第一取放裝置和第二取放裝置分別連接的控制器，用于控制掩模板運(yùn)載裝置在所述軌道上滑動，及控制第一取放裝置和第二取放裝置的取放工作狀態(tài)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于， 所述掩模板存儲裝置包括多個掩模板存儲腔以及用于檢測所述多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息的第一檢測裝置； 每個曝光機(jī)的掩模板緩存裝置包括至少一個掩模板緩存腔以及用于檢測所述至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息的第二檢測裝置； 所述控制器，還與第一檢測裝置和第二檢測裝置連接，用于根據(jù)所述多個掩模板存儲腔的掩模板存儲信息和所述至少一個掩模板緩存腔的掩模板存儲信息，控制第一取放裝置和第二取放裝置取放掩模板； 其中，所述掩模板存儲信息包括掩模板型號信號和/或存儲位置信息。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，所述第一檢測裝置包括與所述多個掩模板存儲腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單元，所述第二檢測裝置包括與所述至少一個掩模板緩存腔對應(yīng)設(shè)置的多個第一檢測單元。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，所述第一檢測單元包括紅外攝像頭、掃描儀或壓力傳感器;所述第二檢測單元包括紅外攝像頭、掃描儀或壓力傳感器。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，所述軌道為磁懸浮軌道。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，所述軌道包括上層軌道和下層軌道，所述上層軌道和下層軌道上分別滑動裝配有掩模板運(yùn)載裝置。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，所述第一取放裝置為機(jī)械手臂，所述第二取放裝置為機(jī)械手臂。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備，其特征在于，還包括包覆于所述運(yùn)輸裝置外的殼體，所述殼體在所述第一取放裝置和所述第二取放裝置處對應(yīng)設(shè)置有活動門。10.—種掩模板曝光機(jī)組系統(tǒng)，其特征在于，包括至少一臺曝光機(jī)，以及如權(quán)利要求1?9中任一項所述的掩模板搬運(yùn)設(shè)備。
【文檔編號】B65G47/90GK106044229SQ201610587069
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年7月22日 公開號201610587069.8, CN 106044229 A, CN 106044229A, CN 201610587069, CN-A-106044229, CN106044229 A, CN106044229A, CN201610587069, CN201610587069.8
【發(fā)明人】錢宏偉, 孫增標(biāo), 王雷, 趙杰, 馮娜, 張昭強(qiáng)
【申請人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司