光學(xué)元件凈化存儲系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于光學(xué)制造與檢測技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種用于存放光學(xué)元件的存儲系統(tǒng)，尤其涉及一種用于存放大口徑光學(xué)元件的凈化存儲系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在先進光學(xué)制造與檢測等技術(shù)領(lǐng)域?qū)Υ罂趶焦鈱W(xué)元件的存放環(huán)境有非常高的要求，空氣中的水汽、塵埃、顆粒物將造成光學(xué)元件表面質(zhì)量的下降，存儲環(huán)境的溫度和濕度也會使光學(xué)元件產(chǎn)生形變，影響表面面形。
[0003]申請?zhí)枮?01110416916.1的發(fā)明專利就公開了一種用于真空紫外光學(xué)元件清潔和存放的紫外臭氧干燥柜，該干燥柜包括紫外臭氧發(fā)生模塊、空調(diào)模塊、氣體管理模塊和智能單元，紫外臭氧發(fā)生模塊對真空紫外光學(xué)元件的清潔處理；空調(diào)模塊實現(xiàn)真空紫外光學(xué)元件清潔/存放過程中干燥柜內(nèi)溫度和濕度的控制；氣體管理模塊完成真空紫外光學(xué)元件清潔和存放過程中干燥柜內(nèi)氣體管理；智能單元控制真空紫外光學(xué)元件清潔/存放的全部過程。該干燥柜雖能快速除去真空紫外光學(xué)元件上的碳氫根污染物，并阻止水汽對真空紫外光學(xué)元件光學(xué)性能的不利影響，有效地避免由于存儲方式不當造成的真空紫外光學(xué)元件性能退化，尤其適用于真空紫外光學(xué)元件的清潔和存放。但是，由于空氣中的水汽、塵埃、顆粒物將造成光學(xué)元件表面質(zhì)量的下降，存儲環(huán)境的溫度和濕度也會使光學(xué)元件產(chǎn)生形變，且將上述干燥柜用于存儲大口徑(300mmX300mm以上)光學(xué)元件具有相當大的難度，因而致使該干燥柜的使用范圍較為局限。
[0004]目前國內(nèi)、外還沒有專門用于存儲大口徑(300mmX300mm以上)光學(xué)元件的標準設(shè)備，光學(xué)元件生產(chǎn)或檢測單位一般根據(jù)自身需要采用相應(yīng)的存放方式，其主要有以下幾種方案:第一種方案是直接將普通桌面改造成元件存放臺，該存放臺的可存儲元件的數(shù)量由桌面的尺寸決定，且由于該存放臺無空氣凈化功能，且沒有物理隔離裝置，所以元件處于開放的環(huán)境容易受到外部環(huán)境的影響。該方案中由于沒有凈化裝置，不能給光學(xué)元件提供靜態(tài)潔凈環(huán)境；光學(xué)元件處在開放的環(huán)境中，沒有物理隔離裝置，在人員走動時或氣流流動時，會對元件表面帶入灰塵等污染物，同時元件裸露在外，容易在意外接觸時受到損傷。第二種方案是采用恒溫恒濕箱進行存放，恒溫恒濕箱是市面上的標準產(chǎn)品，主要的功能是保持箱內(nèi)環(huán)境的溫度和濕度在可控范圍內(nèi)；通過在恒溫恒濕箱內(nèi)增加元件放置平臺，將元件豎立保存在恒溫恒濕箱內(nèi)，該恒溫恒濕箱可以控制元件外部環(huán)境的溫度和濕度，但無空氣凈化功能，且恒溫恒濕箱為標準產(chǎn)品，廠家一般不容許大規(guī)模改造，造成存放元件效率不高。恒溫恒濕箱只能提供用于元件保存的溫度和濕度環(huán)境，但不能凈化箱內(nèi)的空氣，達不到凈化元件的效果；其次，恒溫恒濕箱結(jié)構(gòu)復(fù)雜，內(nèi)部空間和承重能力有限，對可以存放的元件尺寸和數(shù)量有限制，存放利用率較低，不適用于大批量元件存放。因此，對于大口徑(300mmX300mm以上)光學(xué)元件，尤其是鍍膜光學(xué)元件的存放，需要既有空氣凈化功能又可控制溫濕度的高效率、非接觸式存儲設(shè)施。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實用新型的發(fā)明目的在于:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種用于存儲大口徑(300mmX300mm以上)光學(xué)元件的具有凈化功能的光學(xué)元件凈化存儲系統(tǒng)。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案為:
[0007]—種光學(xué)元件凈化存儲系統(tǒng)，包括凈化臺和凈化桌，所述凈化臺包括臺體和頂箱，所述頂箱設(shè)置于臺體上方并與臺體連接，且在臺體和頂箱之間形成封閉的凈化空腔；所述頂箱的箱體上開設(shè)有通風(fēng)孔，所述凈化空腔通過通風(fēng)孔與外部連通，所述頂箱內(nèi)從上往下依次設(shè)置有初效過濾器、離心風(fēng)機、靜電箱和高效過濾器；所述凈化桌設(shè)置于凈化臺的凈化空腔內(nèi)。
[0008]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述凈化桌包括桌架，所述桌架上設(shè)置有桌面，所述桌面上設(shè)置有桌軌，相鄰兩條桌軌之間設(shè)置有用于放置光學(xué)元件的不銹鋼槽體。
[0009]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述桌面包括上層桌面和下層桌面，所述上層桌面和下層桌面層疊設(shè)置。
[0010]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述桌軌上均布有若干通氣孔。
[0011]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述不銹鋼槽體的兩側(cè)面和底面均鋪設(shè)有聚四氟乙烯板。
[0012]作為本實用新型的優(yōu)選方案，所述凈化臺的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有用于測量凈化空腔內(nèi)的溫度和濕度的溫濕度計，所述凈化臺的外側(cè)壁上設(shè)置有操作板，所述操作板與溫濕度計電連接。
[0013]綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型的有益效果是:
[0014]1、本實用新型中，將凈化桌放置于臺體和頂箱組成的凈化空腔內(nèi)，待存儲的光學(xué)元件放置在凈化桌上，空氣經(jīng)頂箱的初效過濾器后由離心風(fēng)機壓入靜電箱內(nèi)，再經(jīng)過高效過濾器過濾后形成靜態(tài)百級的潔凈氣流，潔凈氣流以一定速度吹到光學(xué)元件表面上，流動的氣流將清除附著在光學(xué)元件表面的灰塵等顆粒物，達到凈化光學(xué)元件的效果；且通過頂箱的過濾器可過濾空氣中的水汽、塵埃、顆粒物，有效避免因空氣中的水汽、塵埃、顆粒物造成的光學(xué)元件表面質(zhì)量的下降。
[0015]2、本實用新型中，凈化桌的桌面上設(shè)置有用于放置光學(xué)元件的不銹鋼槽體，待存儲的光學(xué)元件垂直放置于不銹鋼槽體內(nèi)，使絕大部分的光學(xué)元件表面暴露在凈化空腔內(nèi)，便于流動的潔凈氣流清除附著在光學(xué)元件表面的灰塵等顆粒物，使光學(xué)元件的凈化效果較好。
[0016]3、本實用新型中，桌面包括上層桌面和下層桌面，上層桌面和下層桌面層疊設(shè)置，因而可在凈化桌上上下兩層放置光學(xué)元件，提高光學(xué)元件的存儲效率。
[0017]4、本實用新型中，桌軌上均布有若干通氣孔，因而經(jīng)由頂箱進入的潔凈氣流可通過通氣孔進入下層桌面周圍，清除附著在下層桌面上的光學(xué)元件表面的灰塵等顆粒物，提高潔凈氣流對下層桌面上的光學(xué)元件的凈化效果。
[0018]5、本實用新型中，不銹鋼槽體的兩側(cè)面和底面均鋪設(shè)有聚四氟乙烯板，通過該聚四氟乙烯板可大幅降低光學(xué)元件進出不銹鋼槽體時與槽體的摩擦力，從而減少槽體及外部碎肩對光學(xué)元件造成損傷。
[0019]6、本實用新型中，凈化臺的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有用于測量凈化空腔內(nèi)的溫度和濕度的溫濕度計，凈化臺的外側(cè)壁上設(shè)置有操作板，操作板與溫濕度計電連接，通過該溫濕度計可不間斷測量凈化空腔內(nèi)的溫度和濕度，且通過調(diào)節(jié)頂箱的離心風(fēng)機的風(fēng)速，可以間接調(diào)節(jié)凈化桌上、下區(qū)域的溫度差和濕度差，實現(xiàn)因上、下兩層光學(xué)元件的不同提供不同溫度、濕度的存儲環(huán)境，減少因存儲環(huán)境造成的光學(xué)元件的形變。
【附圖說明】
[0020]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2為本實用新型中頂箱的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖3為本實用新型中凈化桌的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖4為本實用新型中凈化桌桌面的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]其中，附圖標記為:1一頂箱、2—臺體、3—溫濕度計、4一操作板、5—凈化桌、6—凈化空腔、11 一初效過濾器、12 一靜電箱、13 —尚效過濾器、14 一通風(fēng)孔、15 一尚心風(fēng)機、51—上層桌面、52—桌架、53 —下層桌面、54 —不銹鋼槽體、55 —聚四氟乙稀板、56—通氣孔、57—桌軌。
【具體實施方式】
[0025]下面結(jié)合附圖，對本實用新型作詳細的說明。
[0026]為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本實用新