專利名稱：模制品、硬模、光學(xué)元件以及光學(xué)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種模制品，其具有包含精細(xì)圖案的傾斜表面、彎曲表面和/
或雕刻表面。此外，本發(fā)明還涉及一種用于形成該制品的硬模； 一種使用該模 制品的光學(xué)元件；以及一種使用該光學(xué)元件的光學(xué)裝置(例如光學(xué)掃描裝置、 圖像顯示裝置和光學(xué)攝像管裝置等)。
背景技術(shù)：
通常，控制光學(xué)元件表面的光反射很重要。已使用在光學(xué)元件的表面涂上 多層絕緣層的技術(shù)以試圖防止在該表面上的反射。具體來說，通過執(zhí)行多個過 程制備這種光學(xué)元件，例如通過制模方法(例如噴射模塑法)制備制品以及使 用涂層裝置在制品的表面形成這種多層絕緣層。由于這些過程花費時間長，所 以光學(xué)元件成品制造成本高。
最近，已使用在光學(xué)元件的表面上形成精細(xì)圖案以防止光學(xué)元件表面光反 射的技術(shù)來試圖解決成本問題。由包括半導(dǎo)體加工工藝的機(jī)械方法在硬模表面 上形成精細(xì)圖案，通過使用硬模，這種精細(xì)圖案形成在光學(xué)元件上。也就是說， 與形成在硬模表面上的精細(xì)圖案相應(yīng)的精細(xì)圖案形成在由例如樹脂和玻璃材 料制成的模型光學(xué)元件的表面上。在下文中，這種方法有時稱為模型轉(zhuǎn)換方法。
尚未審查的日本公開專利(以下稱為JP-A) 2003，270569公開了一種掃 描光學(xué)系統(tǒng)和一種使用該系統(tǒng)的成像設(shè)備。其中描述了通過根據(jù)入射光通量的 偏振平面適當(dāng)?shù)卦O(shè)置精細(xì)結(jié)構(gòu)光柵的陣列方向，從而減少精細(xì)光柵結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu) 性雙反射的影響，來獲得優(yōu)良的光學(xué)特性。具體來說，在如圖1B所示的掃描 光學(xué)系統(tǒng)中，激光光源1發(fā)出的光通量被偏轉(zhuǎn)裝置5偏轉(zhuǎn)，并偏轉(zhuǎn)的光通量聚 焦于表面7，同時由掃描光學(xué)裝置6掃描。掃描光學(xué)裝置6包括第一掃描透鏡 6a,該第一掃描透鏡6a具有一個或多個光學(xué)表面，該光學(xué)表面具有精細(xì)結(jié)構(gòu) 光柵8 (包括光柵部分81和非光柵部分82 )。精細(xì)結(jié)構(gòu)光柵的柵距比光通量的 波長短，并且精細(xì)結(jié)構(gòu)光柵平行排列在掃描透鏡6a的整個表面上。
此外，最近，例如為多個精細(xì)凹槽的精細(xì)圖案形成在模制品的表面上，以 控制該表面的可濕性和/或摩擦系數(shù)。這種精細(xì)圖案通常由模型轉(zhuǎn)換方法形成。
當(dāng)由模型轉(zhuǎn)換方法形成這種精細(xì)圖案時，問題在于使用的硬模不能很好的 從模制品上脫模，因此產(chǎn)生了形成的精細(xì)圖案的質(zhì)量降低的情況(即，模制品 不能具有所需功能)。
此外，當(dāng)模制品的斜面相對于脫模方向陡峭時(即，如圖3所示，當(dāng)由斜 面和脫模方向形成的夾角大時)，產(chǎn)生了例如矩形凹槽的精細(xì)圖案不能形成在 模制品上的問題。
參考圖1A， JP-A2003-270569公開的背景技術(shù)中使用了光學(xué)透鏡6a，該 光學(xué)透鏡6a具有一個或多個光學(xué)表面，該光學(xué)表面具有包括相互平行設(shè)置的 光柵部分81 (即凹槽)和非光柵部分82的精細(xì)結(jié)構(gòu)光柵8。這樣，掃描透鏡 6a具有相對于透鏡的彎曲表面傾斜的精細(xì)圖案。當(dāng)由模型轉(zhuǎn)換方法形成這種 精細(xì)圖案時，問題在于使用的硬模不能很好的從模制品上脫模，因此發(fā)生了形 成的精細(xì)圖案的質(zhì)量降低的情況。具體來說，如圖1B所示，光束傾斜進(jìn)入掃 描透鏡6a的表面。因此，凹槽81優(yōu)選面對光束(即，凹槽也是傾斜的)以提 高透鏡6a的光學(xué)性能。當(dāng)由模型轉(zhuǎn)換方法形成這種凹槽時，由于硬模的脫模 方向與凹槽的方向不同，所以硬模難以從模制品(透鏡)上脫模。因此，問題 在于使用的硬模不能很好的從模制品上脫模，因而發(fā)生了形成的精細(xì)圖案的質(zhì) 量降低的情況。
特別是，當(dāng)由模型轉(zhuǎn)換方法制備具有彎曲表面且該彎曲表面上具有矩形凹 槽的制品時，由于硬模的突起不能從形成在制品表面上的凹槽上脫模，所以使 用的硬模的脫模非常困難。具體來說，當(dāng)硬模的脫模方向與圖2所示的矩形凹 槽的方向相同時，能夠很好的完成硬模脫模。但是，當(dāng)硬模的脫模方向與圖3 所示的矩形凹槽的方向相差很大時，硬模的脫模就非常困難。在這種情況下， 不能形成好的凹槽(即，凹槽被破壞了)。換句話說，只有表面上具有臺階的 制品(如圖4所示)能夠由模型轉(zhuǎn)換方法模制。
由于這些原因，存在能夠通過沖莫型轉(zhuǎn)換方法在傾斜表面、彎曲表面和雕刻 表面上良好地形成精細(xì)圖案以提高表面的例如防反射性、可濕性和摩擦系數(shù)的 性能的需要。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種由模型轉(zhuǎn)換方法形成的模制品，并且 在它的傾斜或者彎曲表面(此后有時稱為斜面)上具有圖案，其中，斜面的法 線方向不同于硬模的脫模方向。由硬模在模制品表面上形成的圖案包括在斜面 的傾斜方向上沿著斜面延伸的凹槽，并且在兩個相鄰的凹槽之間的間距不大于 預(yù)定的長度。
凹槽優(yōu)選為是放射狀凹槽，該放射狀凹槽放射狀延伸并且具有中心點，在 該中心點上，法線方向與硬才莫脫模方向相同。
根據(jù)本發(fā)明的另 一方面，提供了 一種光學(xué)元件，其包括上面所述的模制品， 其中，該模制品基本上是透明的并且接收光線，其中，在兩個相鄰凹槽之間的 間距不大于用于光學(xué)元件光的波長。
也還根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種光學(xué)裝置，其包括光源以及調(diào)制 從所述光源發(fā)出的光的上面所述的光學(xué)元件。例如，提供了一種光學(xué)掃描裝置 作為光學(xué)裝置的例子，其包括光源、構(gòu)成為校準(zhǔn)由光源發(fā)出的光通量的校準(zhǔn)裝 置、構(gòu)成為偏轉(zhuǎn)校準(zhǔn)的光通量的偏轉(zhuǎn)裝置和構(gòu)成為當(dāng)掃描時將反射光通量聚焦 在材料表面上的掃描和聚焦裝置，其中校準(zhǔn)裝置和掃描和聚焦裝置中的至少一 個包括上面所述的光學(xué)元件。
光學(xué)裝置的另一個例子是圖像顯示裝置，其包括光源、構(gòu)成為引導(dǎo)光線的 校準(zhǔn)裝置、圖像顯示元件以及投影透鏡，其中校準(zhǔn)裝置和投影透鏡中的至少一 個包括上面提到的光學(xué)元件。
光學(xué)裝置的還有另一個例子是光學(xué)攝像管裝置，其包括光源、構(gòu)成為校準(zhǔn) 由光源發(fā)出的光通量的校準(zhǔn)裝置、構(gòu)成為將校準(zhǔn)的光通量聚焦在光學(xué)記錄介質(zhì) 上的物鏡、構(gòu)成為聚集從光學(xué)記錄介質(zhì)上反射的光通量的聚光器以及光感光 器，其中光學(xué)系統(tǒng)、物鏡和聚光器中的至少一個包括上面提到的光學(xué)元件。
還根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了形成模制品的硬模，其包括在它的內(nèi)表 面上的圖案，其中該圖案包括用來在模制品的表面上的斜面的至少部分上形成 凹槽的圖案，其中斜面的法線的方向不同于硬模的脫模方向。
還根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種用于成型在制品的表面上具有斜面
的制品的方法，其包括下列步驟
提供一個硬模，在硬模的內(nèi)表面上具有至少凹槽圖案，用來在制品表面的
4牛面上的至少部分上形成凹槽； 利用硬模對樹脂進(jìn)行模制；
從模制品脫出硬模，從而使硬模的脫模方向不同于制品斜面的法線的方向。
從詳細(xì)說明書以及附圖中，可以更加充分地明白同時可以更好地理解本發(fā) 明的各種其它目的、特征和伴隨的優(yōu)勢，其中，相同的參考數(shù)字始終代表相同 的相應(yīng)的部件，其中
圖1A和1B為顯示背景技術(shù)的光學(xué)掃描裝置和在它的掃描透鏡上形成的 凹槽的示意圖2和3是用于解釋硬模脫模方向和凹槽的方向的示意圖4是具有凹槽的光學(xué)元件的表面，該凹槽具有與脫模方向相同的方向，
但是該凹槽不再是凹槽，而是臺階；
圖5是在本發(fā)明的模制品上使用的一組凹槽的例子的示意圖6是在本發(fā)明的模制品上使用的一組凹槽的另一個例子的示意圖，其中
該凹槽具有與脫模方向相同的方向；
圖7A、 7B和7C是用來解釋用于本發(fā)明的凹槽和背景技術(shù)中的凹槽之間
的差別的示意圖8是與硬模脫模方向具有相同方向的凹櫓的示意圖9是與硬模脫模方向具有一定范圍的方向差的凹槽的示意圖，從而凹槽
可以從使用的硬模中脫模；
圖IO是本發(fā)明的光學(xué)元件的一個例子的表面的示意圖11是本發(fā)明的光學(xué)元件的另 一個例子的表面的示意圖12是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的表面的示意圖13是凹槽的示意圖，其方向使得凹槽不能從使用的硬模中脫模；
圖14是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的表面的示意圖15A和15B為本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的表面的示意圖和該表
面的中心部分的放大透視圖16是用于解釋凹槽的方向和光線的偏振方向(TE波和TM波)的示意
圖17是凹槽深度和凹槽相對于TE波的反射比之間的關(guān)系的曲線圖； 圖18是凹槽深度和凹槽相對于TM波的反射比之間的關(guān)系的曲線圖； 圖19A和19B為本發(fā)明的一個例子的衍射光學(xué)元件的表面的截面示意圖 和平面視圖20A、20B和20C為本發(fā)明的光學(xué)元件的一個例子的示意圖和表示在柱
面光學(xué)元件上形成的凹槽的截面3見圖21A和21B為本發(fā)明的的光學(xué)元件另一個例子的示意性透視圖，和光
學(xué)元件的表面的平面視圖22是本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的一個例子的示意圖23是本發(fā)明的圖像顯示裝置的一個例子(放映機(jī))的示意圖；以及
圖24是本發(fā)明的光學(xué)攝像管裝置的一個例子的示意圖。
具體實施例方式
此處使用的術(shù)語僅僅是為了說明特定的實施方式，不是為了限定本發(fā)明。 如此處使用的單數(shù)形式的"一個，，傾向于也包括復(fù)數(shù)形式，除非另外上下文清 楚地指明不是。還可以理解，當(dāng)在本申請中使用術(shù)語"包括"時，其指定具有 所述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件，但是不排除具有或者附帶 有其它特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或它們的組合中的一個或者 多個。
本發(fā)明將參照附圖進(jìn)行詳細(xì)的解釋。
本發(fā)明的一個目的就是要通過模型轉(zhuǎn)換方法提供制品，該制品具有包括精 細(xì)圖案的傾斜表面、彎曲表面(例如球形表面和非球形表面)和/或雕刻表面， 該精細(xì)圖案包括多個凹槽，其中，斜面的法線不同于硬模脫模方向。將凹槽形 成為沿著傾斜的或者彎曲的表面延伸，并且在兩個相鄰的凹槽之間的間隔不大 于預(yù)定的長度(例如照射該制品(光學(xué)元件)的光線的波長)。傾斜表面、彎 曲表面和雕刻表面此后有時稱為斜面。
接下來，將解釋模制品為光學(xué)元件的例子。
當(dāng)精細(xì)圖案形成于具有斜面的光學(xué)元件的表面上時， 一個點作為參考點，
在該點上，硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。即， 一個參考點被設(shè)置
到斜面的部分，該部分垂直于硬模脫模的方向。通常，在斜面具有顛倒的u 形的例子中，該參考點通常地被設(shè)置到該顛倒的u形的頂部。在斜面具有u 形的例子中，該參考點通常被設(shè)置到u形斜面的底部。當(dāng)斜面只有一個頂點
(最高點)或者一個最低點時，該點就作為參考點。即，精細(xì)圖案圍繞該參考 點形成于，該參考點是該圖案的中心。當(dāng)斜面具有多個頂點(最高點)或者多 個最低點時，斜面具有多個參考點。
多個精細(xì)凹槽從參考點(即，中心)放射狀地形成。此外，精細(xì)凹槽(此
后有時稱為居間凹槽)形成于放射狀延伸凹槽之間。在這點上，在兩個相鄰凹
伸的凹槽沒必要具有共同的參考點(中心)，并且可以是從該參考點附近的點 開始的放射狀延伸的凹槽。
參考圖5，居間凹槽hlbl這樣形成，以鄰近放射狀延伸凹槽hl，同時與 凹槽hl間隔不大于預(yù)定距離的距離。類似地，居間凹槽h2b-l這樣形成，以 鄰近放射狀延伸凹槽h2,同時與凹槽h2間隔不大于預(yù)定距離的距離。該居間 凹槽hlbl和h2b-l具有交點，但是居間凹槽不從該交點朝向中心(參考點) 延伸。這時，居間凹槽沒必要具有交點，并且居間凹槽hlbl的起點可以與居 間凹槽h2b-l的起點間隔基本上等于其間的間距的距離。
如圖5所示，另外的居間凹槽hlb2和h2b-2形成于居間凹槽hlbl和h2b-l 的相鄰區(qū)域。類似地，也形成了居間凹槽hlb-l和h2bl。因此，精細(xì)凹槽至少 形成于光學(xué)元件的光學(xué)有效區(qū)域的表面上。因此，精細(xì)凹槽優(yōu)選以這樣的方式 形成于光學(xué)元件的表面上兩個相鄰凹槽之間的間距不大于預(yù)定長度(例如， 用于光學(xué)元件的光的波長)。這時，凹槽深度優(yōu)選大于兩個相鄰凹槽之間的間 距，從而最終形成的光學(xué)元件的表面具有較好的防反射屬性。光學(xué)元件的這種 防反射屬性根據(jù)使用的光的波長、形成的凹槽的形狀(例如寬度和深度)以及 兩個相鄰凹槽的間距發(fā)生改變。
在圖6中示出了這種精細(xì)凹槽的一個例子。參照圖6，凹槽11形成于光 學(xué)元件10的表面上，以在斜面的傾斜方向上延伸。這時，在兩個相鄰凹槽之 間的間距不大于預(yù)定長度。此外，由于凹槽的方向與圖8中所示的硬模的脫模
方向相同，所以用于模制光學(xué)元件的硬模可以容易地從模制的光學(xué)元件上脫 模。
圖7A和7B表示由傳統(tǒng)方法形成的凹槽，圖7C表示由本發(fā)明的方法形成 的凹槽。具體來說，圖7A表示具有矩形凹槽的光學(xué)元件，該矩形凹槽具有不 同于硬模M^莫方向的方向，類似于圖3中所示的凹槽。由于在圖7A中所示的 這種光學(xué)元件的矩形凹槽的方向與光束移動方向相同，所以光學(xué)元件具有好的 防反射屬性。但是，矩形凹槽的方向不同于硬模脫模方向，因而當(dāng)硬模從模制 品中脫模時，易發(fā)生凹槽被損壞的問題。圖7B表示具有矩形凹槽的光學(xué)元件， 該矩形凹槽具有不同于光束移動方向的方向。由于這種光學(xué)元件的矩形凹槽的 方向與硬模脫模方向相同，所以該光學(xué)元件具有好的硬?？擅撃Ｐ浴５?，該 矩形凹槽的方向不同于光束移動方向，因此該光學(xué)元件具有很差的防反射屬 性。因此，當(dāng)凹槽形成于光學(xué)元件的斜面上時，尤其是當(dāng)斜面的傾斜角度大時， 很難使光學(xué)元件具有硬?？擅撃Ｐ院头婪瓷鋵傩缘暮玫慕M合(即硬?？擅撃Ｐ?和防反射屬性是矛盾的)。通常，凹槽深度相對于它的間距越大，光學(xué)元件表 面的反射比越低。即縱橫比(即深度/寬度比)越高，凹槽具有越好的防反 射屬性。從圖7A和7B中可以容易地理解，很難從具有高縱橫比的精細(xì)凹槽 中脫出硬模。
相比之下，如圖7C所示，由本發(fā)明的方法形成的凹槽11在斜面的傾斜 方向上延伸，并且在兩個相鄰凹槽之間的間隔不大于預(yù)定間隔。如圖7C所示， 凹槽的方向與硬模脫模方向和光束移動方向相同，因此光學(xué)元件可以具有硬模 可脫模性和防反射屬性的很好組合。
在本發(fā)明的光學(xué)元件(模制品)中，硬模脫模方向和光學(xué)元件表面的法線 之間的角度在參考點(中心)的附近是小的。因此，使詢的硬?？梢匀菀椎貜?模制的光學(xué)元件上脫模，類似于凹槽形成于平的表面上的例子。換句話說，在 中心部分形成傳統(tǒng)的精細(xì)圖案(例如圓錐圖案和角錐圖案)是可能的，該中心 部分鄰近參考點(中心)并且其具有傾斜角，從而凹槽可以很好地從硬模脫模， 即凹槽具有不高于圖9中所示的預(yù)定角度a的脫模角度。此外，不具有共同的 中心的多個放射狀延伸的凹槽51可以圍繞這個中心部分形成，如圖15A所示。 在這個例子中，形成了居間凹槽，從而兩個相鄰凹槽之間的間距不大于預(yù)定間距。
不特別限制凹槽的形狀，并且優(yōu)選使用具有下列性質(zhì)的凹槽，即凹槽的頂
部的寬度大于其底部的寬度，例如v形凹槽、u形凹槽和梯形凹槽。如果凹 槽的頂部的寬度大于其底部的寬度，那么可以使用矩形凹槽。
因此，通過使用上面提到的方法，通過不會引起硬模脫模問題的成型方法， 可以容易地制備模制品(光學(xué)元件)，在該模制品的斜面上具有精細(xì)凹槽，并 且該模制品具有防反射特性、可濕性和摩擦系數(shù)的很好組合。因而制備的光學(xué) 元件可以優(yōu)選用于各種光學(xué)裝置。
已經(jīng)一般性地描述了本發(fā)明，參照某些特定的例子，可以進(jìn)一步理解本發(fā) 明，此處提供的這些特定的例子僅是為了解釋說明，不是為了限制本發(fā)明。在 下面的例子中的說明中，數(shù)字部分地代表重量，除非有特定說明的除外。
例子
例子1
圖IO是本發(fā)明的光學(xué)元件的一個例子的示意圖。該光學(xué)元件例如被用作 在激光打印機(jī)中使用的光掃描裝置的掃描透鏡。在圖10中所示的光學(xué)元件20 的表面在主掃描方向上(即，圖IO中的水平方向)具有200mm的曲率半徑， 并且在副掃描方向上(即，圖10中的垂直方向)具有從40mm到100mm范 圍內(nèi)的曲率半徑。
光學(xué)元件20具有參考點22(在這里例子中是表面的中心)，在該參考點， 硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。如圖IO所示，凹槽21從中心22 朝向光學(xué)元件的邊緣放射狀延伸。這時，硬模脫模方向是垂直于在圖10所示 的紙片的表面的方向。在這個例子中，20個放射狀凹槽在中心22相交。但是， 凹槽并不局限于那里，并且為此也可以使用沒有在中心22相交的凹槽。其它 精細(xì)凹槽(居間凹槽)存在于該20個凹槽之間。在這個例子中，在兩個相鄰 凹槽之間的間距被設(shè)置為不大于240nm。從圖IO中可以清楚地看出，兩個相 鄰凹槽不互相平行，因此其間的間距根據(jù)凹槽的位置發(fā)生改變。
凹槽具有V形，并且它的寬度和深度分別是200nm和400nm。這時，凹 槽的深度可以是通過從硬模脫模方向上截取的光學(xué)元件的整個表面的剖面(截 面)上測量凹槽深度，或者通過從該部分的法線上截取的表面部分的截面上測
量凹槽深度從而確定的凹槽深度。但是，優(yōu)選通過從該部分的光束移動方向上 截取的表面部分的截面上測量凹槽的深度來確定深度。即，優(yōu)選凹槽面向光束
移動方向，并且每個凹槽在光束移動方向上的深度為400nm。
用來成型具有如圖10所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件的硬模 (未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種精細(xì)凹槽圖案預(yù)先形成于 硬模的表面上。使用硬模和例如注模和壓模的樹脂成型方法來制備光學(xué)元件 20。
》反長為650nm的鴻 束具有不大于0.3 %的反射比。 例子2
圖11是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖。這種光學(xué)元件被例如 用作圖像顯示裝置(放映機(jī))的透鏡或者光學(xué)裝置(例如照相機(jī)和攝像機(jī))的 透鏡。
參照圖11，光學(xué)元件(透鏡)30具有參考點32 (在這個例子中是該表面 的中心)，在該參考點，硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。如圖11中 所示，凹槽31從該中心32放射狀延伸。這時，硬模脫模方向是垂直于圖11 所示的紙片的表面的方向。在這個例子中，8個凹槽在中心32相交。其它精 細(xì)凹槽(居間凹槽)存在于這8個凹槽之間。在這個例子中，在兩個相鄰凹槽 之間的間距被設(shè)置為不大于300nm。因此，精細(xì)凹槽31形成于光學(xué)元件30 的表面的至少光學(xué)有效區(qū)域上。
凹槽是V形，并且它的寬度和深度分別是300nm和450nm。類似于在例 子1中的光學(xué)元件20,每個凹槽在光束移動方向上具有450nm的深度。
用于成型具有如圖11所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件的硬模 (未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種反向的凹槽圖案預(yù)先形成 于硬模的表面上。使用硬模和例如注模和壓模的樹脂成型方法制備光學(xué)元件 30。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件30的表面相對于從大約400nm到大 約800nm的光譜區(qū)的光具有不大于0.4%的反射比。 例子3
圖12是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖。該光學(xué)元件被例如用 作在激光束打印機(jī)中使用的光學(xué)裝置的準(zhǔn)直儀透鏡，或者光學(xué)裝置(例如準(zhǔn)直 儀透鏡、物鏡或者聚光透鏡)的透鏡。
參考圖12,光學(xué)元件(透鏡)30，具有參考點32，(在這個例子中是該表 面的中心)，在該參考點，硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。類似于 在圖11中所示的凹槽31,凹槽31，沿著該光學(xué)元件的斜面放射狀延伸。這時， 硬模脫模方向是垂直于在圖12中所示的紙片的表面的方向。其它精細(xì)凹槽(居 間凹槽)存在于該8個凹槽之間。在這里例子中，兩個相鄰凹槽之間的間距被 設(shè)置為不大于300nm。因此，精細(xì)凹槽31，形成于光學(xué)元件30，的表面的至少 光學(xué)有效區(qū)域上，類似于在圖11中所示的光學(xué)元件30。但是，光學(xué)元件30' 具有鄰近中心32，的多個同心凹槽33。在同心凹槽33的兩個相鄰凹槽之間的 間距是300nm。
為了使這種光學(xué)元件30，具有好的防反射性質(zhì)，凹槽的方向優(yōu)選與光束移 動方向相同。在這個例子中，鄰近中心32，的同心凹槽33的方向易于從圖8 中所示的硬模上脫模。如果同心凹槽33遠(yuǎn)離中心32，，那么同心凹槽相對于圖 13中所示的硬模脫模方向具有較大的傾斜，因此光學(xué)元件不能從硬模上脫模。 因此，在這個例子中，同心凹槽33形成于該表面的中心部分上，該中心部分 具有較低的傾斜角度。此外，放射狀延伸同時中心32，作為其參考點的放射狀 凹槽31，形成于該表面的具有大的傾斜角的其它部分上，以防止硬模脫模問題。
形成于光學(xué)元件的中心部分上的精細(xì)圖案的形狀并不局限于同心凹槽，例 如圓錐圖案和角錐圖案的其它圖案也是可以的。
在圖12中所示的凹槽3l，和33是V形，并且它的寬度和深度分別是300nm 和500nm。每個凹槽在光束移動方向上優(yōu)選具有500nm的深度。
用來成型具有如圖12所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件30，的硬 模(未示出)在它的表面上具有相反的凹槽圖案。這種相反的凹槽圖案預(yù)先形 成于該硬模的表面上。使用硬模和例如注模和壓模的樹脂成型方法可以制備光 學(xué)元件30'。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件30，的表面相對于波長為600nm的激 光束具有不大于0.3 %的反射比。
例子4
圖14是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖。該光學(xué)元件例如被用 作圖像顯示裝置(放映機(jī))的離心投影透鏡。
參照圖14，光學(xué)元件(透鏡)40具有光軸，該光軸位于光學(xué)元件的下部， 即該光軸不是光學(xué)元件的表面的中心。在這個例子中，16個凹槽41從參考點 42開始放射狀延伸，在該參考點硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。 這時，硬模脫模方向是垂直于圖14所示的紙片的表面的方向。其它精細(xì)凹槽 (居間凹槽)存在于該16個凹槽之間。在這個例子中，兩個相鄰凹槽之間的 間距被設(shè)置為不大于250nm。因此，精細(xì)凹槽41形成于光學(xué)元件40的表面的 至少光學(xué)有效區(qū)域上。
凹槽41具有V形，并且它的寬度和深度分別是250nm和350nm。類似于 在例子1中的光學(xué)元件20，每個凹槽在光束移動方向上優(yōu)選具有350nm的深 度。
用于成型具有如圖14所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件40的硬模 (未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種反向的凹槽圖案預(yù)先形成 于該硬模的表面上。使用硬模和例如注模和壓模的樹脂成型方法來制備光學(xué)元 件40。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件40的表面相對于在從大約400nm到 大約800nm的可見光譜區(qū)中的光具有不大于0.2 %的反射比。 例子5
圖15是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖。該光學(xué)元件例如被用 作在激光束打印機(jī)中使用的光學(xué)裝置的準(zhǔn)直儀透鏡。
參照圖15A,具有圓錐形狀(如圖15B中所示)的突起53形成于光學(xué)元 件50的表面的橢圓形的中心部分54上，以使得該光學(xué)元件具有好的防反射性 質(zhì)。圖15B是突起53的放大視圖。此外，凹槽51從中心部分54的外部部分 開始沿著光學(xué)元件的斜面放射狀延伸。即，凹槽51沒有共同的中心(參考點)。 此外，其它精細(xì)凹槽(居間凹槽)存在于這些凹槽之間。在這個例子中，在兩 個相鄰凹槽之間的間距被設(shè)置為不大于250nm。因此，精細(xì)凹槽51形成于光 學(xué)元件50的表面的至少光學(xué)有效區(qū)域上。
凹槽51是U形，并且它的寬度和深度分別是250nm和350nm。類似于在 例子1中的光學(xué)元件20,每個凹槽在光束移動方向上優(yōu)選具有350nm的深度。
用于成型具有如圖15A所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件50的硬 模(未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種反向的凹槽圖案預(yù)先形 成于該硬模的表面上。通過例如注模和壓模的樹脂成型方法來制備光學(xué)元件 50。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件50的表面相對于波長為633nm的激 光束具有不大于0.3 %的反射比。
因此在光學(xué)元件的表面上形成的凹槽看上去是放射狀排列的。但是，凹槽 以不大于用于光學(xué)元件的光的波長的間距排列，因而光學(xué)元件可以具有4艮好的 防反射特性。
圖17和18是在光學(xué)元件的表面上形成的凹槽深度和相對于TM波和TE 波的表面的反射比之間的關(guān)系的曲線圖。這時，如圖16所示，TM波被定義 為被偏振以具有平行于凹槽的方向的光，TE波被定義為被偏振以具有垂直于 凹槽的方向的光。此外，使用的光的波長是650mn并且光學(xué)元件的折射率是 1.525。凹槽的間距還被改變?yōu)?00nm、 300nm和500nm。從圖17和18中可 以理解，當(dāng)凹槽深度不小于400nm并且間距是200nm時，光學(xué)元件的表面相 對于TM波和TE波具有不大于0.2。/。的反射比。因此，通過形成具有這種特 性的凹槽，光學(xué)元件可以具有好的防反射特性。
本發(fā)明的模制品可以被用于衍射光學(xué)元件、菲涅耳透鏡、僅在一個方向上 具有曲率的光學(xué)元件、具有復(fù)雜彎曲表面的光學(xué)元件等以及上面提到的光學(xué)元 件。下面將解釋這種光學(xué)元件的一些例子。
例子6
圖19A和19B是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子(衍射光柵)的截面示 意圖和平面視圖。
參照圖19A和19B，光學(xué)元件60包括衍射光柵63、參考點62和從參考 點62開始放射狀延伸的8個凹槽61,其中在參考點62,硬模脫模方向與該表 面的法線的方向相同。這時，硬模脫模方向是垂直于圖19B所示的紙片的表 面的方向。其它精細(xì)凹槽(居間凹槽)存在于這8個凹槽之間。在這個例子中， 在兩個相鄰凹槽之間的間距被設(shè)置為不大于280nm。因此，精細(xì)凹槽61至少 形成于光學(xué)元件60的表面的光學(xué)有效區(qū)域上。
凹槽61為V形，并且它的寬度和深度分別是280nm和430nm。類似于在 例子1中的光學(xué)元件20，每個凹槽在光束移動方向上優(yōu)選具有430nm的深度。
用于成型具有如圖19B所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件60的硬 模(未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種反向的凹槽圖案預(yù)先形 成于該硬模的表面上。使用硬模和樹脂成型方法來制備光學(xué)元件60。這種光 學(xué)元件具有好的可脫模性并且所需的V形凹槽可以形成于其上。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件60的表面相對于波長為650nm的激 光束具有不大于0.3 %的反射比。這種光學(xué)元件60可以例如被用作用來校準(zhǔn)激 光束的衍射透鏡，該激光束可以被用于光學(xué)掃描裝置和光學(xué)攝像管裝置。
在圖19B中，顯示出在強(qiáng)光區(qū)(其是具有環(huán)形的區(qū)域)的凹槽與在相鄰 強(qiáng)光區(qū)中的凹槽相連。但是，在兩個相鄰強(qiáng)光區(qū)之間的邊界上，凹槽沒必要是 連續(xù)的。即，每個強(qiáng)光區(qū)可以包括獨立的凹槽。在這個例子中使用的凹槽也可 以被用于菲涅耳透鏡的表面。
例子7
圖20A-20C是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖，其具有僅在一 個方向上具有曲率的光學(xué)表面。
參照圖20A，光學(xué)元件70具有僅在一個方向上具有曲率的表面和形成于 該表面上以在相同的方向上具有曲率的凹槽71。這時，硬模脫模方向由箭頭 表示。在兩個相鄰凹槽之間的間距是300nm。因此，精細(xì)凹槽71至少形成于 光學(xué)元件70的表面的光學(xué)有效區(qū)域上。
凹槽71的寬度和深度分別是300nm和400nm。類似于在例子1中的光學(xué) 元件20,每個凹槽在光束移動方向上優(yōu)選具有400nm的深度。
用于成型具有如圖20A所示的這種精細(xì)凹槽圖案的樹脂光學(xué)元件70的硬 模(未示出)在它的表面上具有反向的凹槽圖案。這種反向的凹槽圖案預(yù)先形 成于該硬模的表面上。使用硬模和樹脂成型方法來制備光學(xué)元件70。這種光 學(xué)元件具有好的可脫模性并且所需的凹槽可以形成于其上。
可以確定的是，因而制備的光學(xué)元件70的表面相對于波長為600nm的激
光束具有不大于0.4%的反射比。這種光學(xué)元件70可以例如被用作用來校準(zhǔn)激 光束的柱面透鏡，該激光束可以被用于光學(xué)掃描裝置。
在具有僅在一個方向上具有曲率的表面或者僅在一個方向上傾斜的表面 的光學(xué)元件中，形成于該表面上的凹槽不是放射狀延伸的凹槽，而是沿著斜面 延伸并且以規(guī)則間距排列的凹槽。在圖20B所示的光學(xué)裝置中，凹槽的整個 部分具有預(yù)定的深度(a)。此外，外表面的方向與硬模脫模方向相同，因此硬 模脫模問題不會發(fā)生。
也可以使用圖20C中所示的凹槽。該凹槽至少在光學(xué)元件的表面的光學(xué) 有效區(qū)域上具有預(yù)定深度(a)。凹槽的深度從光學(xué)有效區(qū)域的端部到凹槽的端 部的方向上減少。在這個例子中，光學(xué)元件具有較好的硬?？擅撃Ｐ?，因為凹 槽的端部分可以容易地從硬模脫模。
類似于在圖12和15中所示的光學(xué)元件，在圖20A中所示的光學(xué)元件的 表面的中心部分(即，在這個例子中是脊部)具有不同于上面提到的凹槽的圖 案(例如突起和環(huán)形凹槽)。在這個例子中，類似于在圖20A中所示的凹槽71 的凹槽由中心部分的棱邊構(gòu)成。
例子8
圖21A和21B是本發(fā)明的光學(xué)元件的另一個例子的示意圖，其是在激光 束打印機(jī)的光學(xué)裝置中使用的f-6透鏡，并且具有復(fù)雜的彎曲表面。
參照圖21A和21B,光學(xué)表面80在其光學(xué)表面上具有三個參考點82，在 該參考點硬模脫模方向與該表面的法線的方向相同。如圖21B所示，類似于 在圖10中所示的光學(xué)元件20的表面上形成的凹槽21的放射狀延伸的凹槽81 形成于光學(xué)元件80的表面上。凹槽81可以以例子1中所述的方式形成。
例子1-8的光學(xué)元件優(yōu)選可以被用于透鏡等、還用于例如照相機(jī)、攝像 機(jī)、光學(xué)顯微鏡和望遠(yuǎn)鏡等的光學(xué)裝置中。此外，該光學(xué)元件也可以被用于光 學(xué)掃描裝置、圖像顯示裝置、光學(xué)攝像裝置等的光學(xué)系統(tǒng)中。
例子9
圖22是本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的一個例子的示意圖，該光學(xué)掃描裝置使 用了本發(fā)明的光學(xué)元件。
在圖22中所示的光學(xué)掃描裝置100中，從激光二極管101發(fā)出的光束104
穿過準(zhǔn)直儀透鏡102和孔103以被調(diào)制。當(dāng)穿過柱面透鏡105時，光束104 由透鏡105聚焦在作為偏轉(zhuǎn)裝置的多邊形鏡106的表面上。這時，光束104 在副掃描方向上(即，多邊形鏡的垂直方向)被聚焦，并且具有在主掃描方向 上(即，多邊形鏡的水平方向)延伸的線的形式。由多邊形鏡106的表面反射 的光束104作為聚束點，被允許通過包括第一掃描透鏡107-1和第二掃描透鏡 107-2的掃描和聚焦光學(xué)系統(tǒng)107來掃描作為圖^f象產(chǎn)生元件的感光鼓108的 表面。光束^r測傳感器109被設(shè)置在一個位置，其光學(xué)地等同于感光鼓108 的表面，用來確定在主掃描方向上光束的起始位置。
上述光學(xué)元件優(yōu)選被用于準(zhǔn)直儀透鏡102、第一掃描透鏡107-1和第二 掃描透鏡107-2。在這個例子中，可以防止強(qiáng)光的產(chǎn)生，因為透鏡具有好的 防反射特性。因此，清楚的光圖像可以形成于感光鼓108的表面上。
例子10
圖23是本發(fā)明的圖像顯示裝置的一個例子(放映機(jī))的示意圖，其使用 了本發(fā)明的光學(xué)元件。
參照圖23,圖像顯示裝置200包括光源(燈)201、構(gòu)成為形成象素的空 間光調(diào)節(jié)器(例如液晶光閥)203、構(gòu)成為將由光源201發(fā)出的光均一地引導(dǎo) 到空間光調(diào)節(jié)器203上的照明系統(tǒng)202、構(gòu)成為放出從空間光調(diào)節(jié)器203輸出 到屏幕206上的成像光的投影透鏡205和光路徑偏轉(zhuǎn)元件204,該光路徑偏轉(zhuǎn) 元件設(shè)置在空間光調(diào)節(jié)器203和投影透鏡205之間以偏轉(zhuǎn)成像光的路徑。
圖像顯示裝置200包括空間光調(diào)節(jié)器203和光路徑偏轉(zhuǎn)元件204 (其也被 稱為象素轉(zhuǎn)換元件、擺動元件或者光路徑轉(zhuǎn)換元件)的組合。通過使用能夠偏 轉(zhuǎn)來自空間光調(diào)節(jié)器的成像光的路徑的光路徑偏轉(zhuǎn)元件，分辨率是空間光調(diào)節(jié) 器203的分辨率的復(fù)數(shù)倍的圖像可以顯示在屏幕206上。
空間光調(diào)節(jié)器203的特定例子包括紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)的三色象 素被設(shè)置在單一的液晶光閥上的單片型空間光調(diào)節(jié)辟和R、 G和B象素的三個 液晶光閥被疊放的三片型空間光調(diào)節(jié)器。因此，空間光調(diào)節(jié)器203可以顯示彩 色圖像。
上述光學(xué)元件優(yōu)選可以用于投影透鏡205和照明系統(tǒng)202的透鏡和衍射光 學(xué)元件。在這個例子中，可以防止產(chǎn)生強(qiáng)光區(qū)，因為該透鏡具有好的防反射特
性。因此，清楚的光圖像可以形成于屏幕206上。 例子11
圖24是本發(fā)明的光學(xué)攝像管裝置的一個例子的示意圖，其使用了本發(fā)明 的光學(xué)元件。
在圖24所示的光學(xué)攝像管裝置300中，光源(例如激光二極管)301發(fā) 出的光由準(zhǔn)直儀透鏡302校準(zhǔn)。在通過了偏振光束分光器303和四分之一波片 304之后，校準(zhǔn)的光由物鏡305被聚焦在記錄介質(zhì)(例如一種光學(xué)記錄介質(zhì)) 306上。從記錄介質(zhì)306上反射回的光穿過物鏡305和四分之一波片304。然 后光由偏振光束分光器303反射，并且反射的光由聚光器307被聚焦在光探測 器(光接收器)308。
在圖24所示的光學(xué)攝像裝置307中，物鏡305包括光點控制機(jī)構(gòu)，其構(gòu) 成為在其光軸的方向上和垂直于光軸的方向上移動物鏡305。因而，可以調(diào)整 光點相對于光學(xué)記錄介質(zhì)306的位置。因此，由光源301發(fā)出的光在被調(diào)整之 后照射光學(xué)記錄介質(zhì)306的記錄層以記錄在記錄層上的信息。此外，通過用從 光源301發(fā)出的光來照射記錄層并且由光探測器308檢測從記錄層反射的光， 可以讀取在記錄層上儲存的信息。
上述光學(xué)元件優(yōu)選被用于瞄準(zhǔn)儀透鏡302、物鏡305和聚光器307。在這 個例子中，可以防止強(qiáng)光區(qū)的產(chǎn)生，因為透鏡具有好的防反射特性。因此，可 以高精度地完成信息的記錄和再現(xiàn)。
在上文中，已經(jīng)解釋了本發(fā)明的模制品被應(yīng)用到光學(xué)元件的例子。但是， 本發(fā)明的模制品有其它應(yīng)用(例如在可濕性和摩擦系數(shù)上的改進(jìn))以及光學(xué)元 件的應(yīng)用。特定例子的應(yīng)用如下。
例子12
可濕性的控制
通過使用硬模形成模制品，在硬模的表面上形成用于形成類似于在上述例 子中形成的凹槽的凹槽的圖案(反向的圖案)，模制品上具有矩形凹槽，該矩 形凹槽間距是4 um,寬度是2 um m并且深度是3 um?？紤]到硬模的可脫模性， 該凹槽形成有2度的脫模角。因此，模制品的表面具有好的防水性質(zhì)，因此該 表面對液體的可濕性可以被控制?？梢源_定的是，模制品的表面相對于液體具
有170度的接觸角。這種模制品可以被用于汽車的前燈、尾燈和側(cè)標(biāo)識的蓋。 摩擦系數(shù)的控制
通過使用硬模形成模制品，在硬模的表面上形成用于形成類似于在上述例 子中形成的凹槽的凹槽的圖案(反向的圖案)，模制品上具有V形凹槽，該V 形凹槽間距是5jam，寬度是3 ju m并且深度是2 ju m?？梢源_定的是，模制品 的表面的摩擦系數(shù)根據(jù)摩擦方向(下文中稱作隨方向而定的摩擦系數(shù))發(fā)生改 變。具體來說，平行于V形凹槽的方向上的表面的摩擦系數(shù)低于垂直于V形 凹槽方向上的摩擦系數(shù)。這種模制品優(yōu)選可以用于在特殊方向上振蕩的制品。
本文要求2006年7月3日提交的、No.2006-183320日本專利申請的優(yōu)先 權(quán)并且包含其主旨，此處被引入作為參考。
現(xiàn)在已經(jīng)充分地描述了本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，在不脫 離此處陳述的本發(fā)明的精神實質(zhì)和范圍的前提下，可以做許多改變和改進(jìn)，這 是顯而易見的。
權(quán)利要求
1.一種模制品，該模制品由使用硬模的模型轉(zhuǎn)換方法制備，包括表面，包括斜面，其中，所述斜面的法線方向與硬模的脫模方向不同；以及圖案，所述圖案形成在所述表面上并包括位于所述斜面的至少部分上以在所述斜面的傾斜方向上沿著所述斜面延伸的凹槽。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品，其中，所述表面包括參考點，在該參 考點，法線方向基本與硬模的脫模方向相同，并且，其中所述凹槽在斜面的傾 斜方向上從參考點或從參考點附近放射狀延伸。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的模制品，其中，所述圖案還包括不同于放射狀 延伸的凹槽的第二圖案，并且所述第二圖案位于參考點的附近。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品，其中，每個所述凹槽具有不大于兩個 相鄰凹槽之間的間距的寬度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品，其中，每個所述凹槽具有基本等于兩 個相鄰凹槽之間的間距的寬度。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品，其中，該模制品是具有防反射功能的 光學(xué)元件，并且兩個相鄰凹槽之間的間距不大于照射該光學(xué)元件的光的波長。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品，其中，在可脫模性、可濕性和摩擦系 數(shù)中的至少一個方面上，其上形成凹槽的斜面的部分不同于其上沒有形成凹槽 的表面的其它部分。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的模制品，其中，所述斜面的部分的摩擦系數(shù)與 其它部分的摩擦系數(shù)不同，并且所述斜面的部分具有隨方向而定的摩擦系數(shù)。
9. 一種用于形成模制品的硬模，包括在內(nèi)表面上的圖案，其中，該圖案 包括凹槽圖案，用于在模制品表面上的斜面的至少部分上形成凹槽，并且，該 斜面的法線方向與硬模的脫模方向不同。
10. —種光學(xué)元件，該光學(xué)元件基本是透明的并具有防反射功能，包括 根據(jù)權(quán)利要求1所述的模制品， 學(xué)元件上的光的波長。
11. 一種光學(xué)裝置，包括 光源，構(gòu)成為發(fā)出光；以及根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)元件，構(gòu)成為調(diào)制所述光，其中所述光從其 上形成凹槽的表面進(jìn)入所述光學(xué)元件，以及
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)裝置，其中，所述光學(xué)裝置是光學(xué)掃描 裝置，包括光源；校準(zhǔn)裝置，構(gòu)成為校準(zhǔn)由所述光源發(fā)出的光； 偏轉(zhuǎn)裝置，構(gòu)成為偏轉(zhuǎn)校準(zhǔn)的光；以及掃描和聚焦裝置，構(gòu)成為利用校準(zhǔn)的光掃描表面，同時將所述光聚焦在要 被掃描的表面上，以及其中，校準(zhǔn)裝置以及掃描和聚焦裝置中的至少一個包括所述光學(xué)元件。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)裝置，其中，所述校準(zhǔn)裝置包括準(zhǔn)直儀 透鏡，并且準(zhǔn)直儀透鏡包括所述光學(xué)元件。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)裝置，其中，所述校準(zhǔn)裝置包括柱面透 鏡，并且所述柱面透鏡包括所述光學(xué)元件。
15. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)裝置，其中，所述掃描和聚焦裝置包括 掃描透鏡，并且所述掃描透鏡包括所述光學(xué)元件。
16. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)裝置，其中，所述光學(xué)裝置是圖像顯示 裝置，包括光源；照明裝置，構(gòu)成為引導(dǎo)由所述光源發(fā)出的光；圖像顯示元件，構(gòu)成為將來自所述照明裝置的所述光轉(zhuǎn)變?yōu)槌上窆?；以及投影透鏡，構(gòu)成為將所述成像光投射到屏幕上，其中所述照明裝置和所述投影透鏡中的至少 一個包括所述光學(xué)元件。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)裝置，其中所述光學(xué)裝置是光學(xué)攝像裝 置，包括光源；校準(zhǔn)裝置，構(gòu)成為校準(zhǔn)由所述光源發(fā)出的光； 物鏡，構(gòu)成為將校準(zhǔn)的光聚焦在光學(xué)記錄介質(zhì)上； 聚光器，構(gòu)成為聚集從所述光學(xué)記錄介質(zhì)反射的光；以及 感光器，構(gòu)成為接收所述聚集的光，其中，所述校準(zhǔn)裝置、物鏡和聚光器中的至少一個包括所述光學(xué)元件。
18. —種方法，用于成型在其表面上具有斜面的制品，包括 提供硬模，在其內(nèi)表面上具有至少凹槽圖案，用來在所述制品的表面的斜面的至少部分上形成凹槽； 利用硬模對樹脂進(jìn)行模制；從所述模制品脫出所述硬模，從而使硬模的脫模方向不同于制品斜面的法 線方向。 '
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，所述凹槽圖案是這樣形成于 模制品的表面上的凹槽在所述斜面的傾斜方向上從所述模制品表面上的參考 點放射狀延伸，在該參考點或者參考點的附近，法線方向與硬模脫模方向相同。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述硬模還具有另一種圖案， 用來在所述模制品的表面上形成不同于放射狀延伸凹槽的第二圖案，并且所述 第二圖案位于所述模制品的至少 一個參考點的附近。
全文摘要
一種由使用硬模的模型轉(zhuǎn)換方法制備的模制品，包括表面，該表面包括斜面，其中，所述斜面的法線方向與硬模的脫模方向不同；以及圖案，所述圖案形成在所述表面上并包括位于所述斜面的部分上以在所述斜面的傾斜方向上沿著所述斜面延伸的凹槽。一種光學(xué)元件，該光學(xué)元件具有防反射功能，包括上面所述的模制品，其中，相鄰兩個的凹槽之間的間距不大于照射在光學(xué)元件上的光的波長。一種光學(xué)裝置，包括構(gòu)成為發(fā)出光的光源；和上面提到的光學(xué)元件，該光學(xué)元件調(diào)制由所述光源發(fā)出的光。
文檔編號B29C33/42GK101101372SQ20071012694
公開日2008年1月9日 申請日期2007年7月2日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月3日
發(fā)明者遠(yuǎn)藤弘之 申請人:株式會社理光