專利名稱：用于制作管式標簽的半成品的方法和裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于制作管狀標簽的半成品的方法和一種用于制作管狀標簽的半成品的模塊單元。尤其地，所述模塊單元用于給瓶貼標簽，或者更一般地，給任何大體為圓柱形容器，甚至是具有不規(guī)則形狀(例如，正方形、長方形、橢圓形、多邊形和/或截錐形)的容器貼標簽。
背景技術：
已知的用于制備管狀標簽的機器包括用于退繞優(yōu)選由“熱收縮”材料制成的帶的裝置，在所述裝置中，所述帶被轉化為管且通過用化學密封材料重疊數毫米進行密封，然后所述管圍繞所述紙板環(huán)卷繞并在使用的機器上待用；該步驟通過被稱為“轉化器”型的設備進行。 通過半成品膜(稱為套筒)的制造者操作這些轉化器型的機器，所述制造者提供給客戶圍繞紙板環(huán)卷繞的熱收縮管狀標簽。該管狀標簽隨后通過合適的機器被應用，所述機器將所述標簽放在容器(瓶、罐或類似物)期望的高度上，且隨后通過經過熱源而適配為所述容器的形狀。

發(fā)明內容
本發(fā)明涉及一種模塊，該模塊使平膜轉化成管以直接提供給將管式半成品標簽(即套管)應用在產品上的機器，使得用戶直接進行轉化步驟，即在該機器處標簽被應用至
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廣叩ο無論如何，該模塊還可用于制備硬紙板卷繞的管狀材料的線軸。所述膜為平膜，該模塊可以使用比管式標簽卷更長的非常大的線軸(達5000米)，所述管式標簽卷通常不超過1000米，因此減少了更換線軸的次數且在包裝和運輸成本上
提供大量節(jié)省。在該框架中，本發(fā)明的技術目的是提供一種用于制備管式標簽的半成品的方法以及一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，所述方法和模塊單元克服了上文提到的現(xiàn)有技術的缺點。尤其地，本發(fā)明的目的是提供一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，以及一種管式標簽的半成品的制備方法，該模塊單元的結構比現(xiàn)有技術更簡單，該方法(盡管只是部分地)可以減少貼標簽次數。本發(fā)明的另一目的是提供一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，該模塊單元既小巧又靈活，即當改變標簽樣式時該模塊單元特別容易被處理，以及當在操作中時可以甚至只是做最小程度地調整。本發(fā)明的又一目的是提供一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，該模塊單元可以處理種類繁多的材料以及可以確保選擇最合適的材料的靈活性，同時還涉及低供應成本。最后，本發(fā)明的再一目的是提供一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，該模塊單元可以聯(lián)接至已投入使用的機器。通過包括一個或多個權利要求所列出的技術特征的制備管式標簽的半成品的方法和制備管式標簽的半成品的模塊單元，基本實現(xiàn)了上述技術目的。


通過下文如附圖所示的制備管狀標簽用的塑料膜半成品的模塊單元的優(yōu)選但非排他的實施方式的非限制性和示例性描述，本發(fā)明進一步的特征和優(yōu)點將會更明顯，其中圖I為制備根據本發(fā)明的管式標簽的半成品的模塊單元的示意圖；圖2為包括真空站的圖I中的模塊單元的變型的示意圖； 圖3和圖4示出圖2中的模塊單元的變型的一些細節(jié)；圖5為圖3中的沿直線V-V的截面圖。
具體實施例方式現(xiàn)參考附圖1，附圖標記I是指用于制備管式標簽的整個模塊單元。所述模塊單元包括退繞站2，其用于退繞帶3 ;以及補償盒5，其設置在所述退繞站2的下游,在所述補償盒5內帶3被退繞等待進一步處理。退繞站2包括帶3的至少一個線軸4，但是優(yōu)選地，線軸4可以為兩個或更多，以確保帶3被連續(xù)送至補償盒5。具體地，補償盒5包括用于帶3的中間輥6，所述中間輥6產生彎曲，這提供了線軸更換步驟期間可用的材料的儲備，特別是當正在被處理的所述帶的最后部分必須連接至新線軸的所述帶的起始部分時可用的材料的儲備，或者，在模塊單元I的下游的其它單元的速度被暫時改變時可用的材料的儲備。帶3優(yōu)選由熱收縮或可拉伸的聚合材料制成,更優(yōu)選地,帶3以單層卷繞成線軸4?？梢杂糜谒鰩У囊恍┚酆喜牧蠟槔缇蹖Ρ蕉姿嵋叶减?PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、定向聚苯乙烯(0PS)、聚乳酸(PLA)、聚乙烯(PE)及類似聚合物。優(yōu)選地，所用的材料可以是熱收縮和/或可橫向拉伸的材料，因此當加工帶3時提供了顯著優(yōu)勢。用于將帶3制成管體的制管模塊11位于退繞站2和補償盒5之間。換而言之，在該模塊11中，從線軸4上退繞的帶3由合適的彎曲部件12彎曲成管形且同時由密封部件13閉合成管，所述密封部件13將帶3的兩個側端邊緣3b縱向密封到彼此，所述邊緣平行于所述帶3的縱向軸線3a。在該制管模塊11中，可以調節(jié)管形帶的橫向尺寸，因此，在標簽樣式改變或標簽尺寸調整小的情況下，使得所述模塊單元非常靈活。所述管形帶3隨后從該模塊11中出來并通過補償盒5。圖I的附圖標記7總的指出，上文所述的模塊單元I可以聯(lián)接至適于應用管式標簽的機器。
具體地，這樣的機器7可以設置在補償盒5的下游，且可包括切割管形帶3的站，同時管形帶3可能經過合適的熱處理，以將所述標簽轉變?yōu)榫哂兴韪叨鹊母鱾€標簽，隨后將其裝在容器的周圍。在使用過程中，在退繞站2內單層材料的帶3的線軸4被退繞后供給到制管模塊11。在所述模塊11中，所述單層帶被彎曲成管形并沿所述帶3自身的兩個側邊緣3b的接合線密封。所述制管步驟連續(xù)進行，從而可以獲取管形標簽的連續(xù)帶。在所述制管模塊11的出口處，在補償盒5內由中間輥6支撐的帶3沿著卷繞路徑行進。帶3在所述盒5中暫時停留，以等待在所述盒5的下游由機器7使用，模塊單元I 可以聯(lián)接至機器7。本發(fā)明的目的因此被全部實現(xiàn)。本文描述的模塊單元I可以適用于現(xiàn)有的機器，就樣式的改變來說，使得機器特別靈活，由于標簽是直接在使用現(xiàn)場生產，從而提供了節(jié)約的標簽成本。如上文所述，所述模塊單元可以在改變樣式時容易地處理，并還允許標簽尺寸小的調整。制備和密封管式標簽的步驟在整個帶上連續(xù)進行，由此避免了需要交替進行切割步驟與彎曲、密封步驟。因此，根據本發(fā)明的模塊單元使制作單個標簽必需的時間減少了。此外，由于線軸由單層帶形成，故相同直徑的線軸有更多可用的帶。線軸的直徑相同時，線軸上的長度至少為兩倍。本文描述的模塊單元接受任何類型的材料，并在節(jié)省成本的同時允許選擇最好的材料。當然，上文所描述的本發(fā)明可以經過許多變型，圖2到圖5中示出了其中一個變型，其中的附圖標記指代在結構和功能上等同于結合上文示例已經描述的那些部件的部件。尤其地，在該變型中，制管模塊11包括彎曲部件12下游的真空站20 ;為了該目的，所述站20包括彎曲夾具21，彎曲夾具21由在帶3的供給方向上水平延伸的箱部分22組成，在箱部分22的上壁有使箱部分的內部的與外界連通的孔23。根據該實施方式，孔23的下游有滾花輥25和滑動帶26，其功能將在下文描述；輥32圍繞彎曲夾具21，輥32用于修整管式標簽的邊緣，隨后標簽的邊緣通過輥13在真空站20的下游被密封，在下文將更詳細地對其進行說明。通過柱28從上方懸掛夾具21，柱28在與所述夾具相反的一側支撐彎曲部件12，在這種情況下彎曲部件12由一對水平軸線的導輥構成；靠近柱28處，部分21具有配件29，配件29經過管30將夾具21與例如壓縮機、高壓釜或類似物的吸入源連接，所述吸入源在附圖中沒有示出。根據優(yōu)選的實施方式，所述膜3的彎曲部分圍繞箱部分22保持彎曲狀態(tài)且邊緣3b精確重疊，邊緣3b準備通過一組側導輥32和壓力部件33密封，所述壓力部件33為沿真空站20相對于帶3成橫向延伸的桿形式。在真空站20的下游，沿箱部分22有密封站40，其包括如上文所述的輥13 ;根據本發(fā)明的變型，通過超聲波實現(xiàn)了塑料膜的邊緣3b的密封。這避免了由于塑料材料在中空部分22熔化及沉積帶來的任何問題，這些問題可導致對膜的破壞或任何阻礙膜的供給。因此，在這種情況下密封輥13是由水平樞轉結構42支撐的超聲焊極，水平樞轉結構42還帶有馬達以驅動輥13 :水平樞轉結構42可使所述輥升高和降低以便從空閑狀態(tài)移動至操作狀態(tài)，在空閑狀態(tài)，水平樞轉結構42遠離管形帶3，在操作狀態(tài)，水平樞轉結構42與帶接觸以連續(xù)密封帶的邊緣3b。本發(fā)明的變型操作如下
從兩個線軸中的一個線軸退繞的熱收縮塑料膜的平帶3(參考圖I中的4)通過彎 曲部件12彎曲，使得帶的邊緣圍繞彎曲夾具21的中空部分22彎曲；通過配件29和管30抽吸空氣而在部分22內產生真空(約IOkPa)使得該步驟更容易進行。事實上，在帶3的塑料膜與彎曲夾具21之間存在的空氣通過孔23吸入并由管30排出，使得彎曲的帶部附在所述夾具上且邊緣3b精確地重疊，從而為后續(xù)的密封步驟做準備。密封步驟通過由水平樞轉結構40保持的超聲焊接輥13進行；由于在部分22上管形帶3的滑動確保必要的反作用以保持所述帶3的塑料膜和輥13的密封表面彼此最佳地接觸，故輥13可以進行精確地密封，在正常情況下，真空站20和密封站40連續(xù)地操作，使得由超聲焊接輥13無間斷地密封帶的邊緣。這使得生產出沿由中間輥6所限定的卷繞路徑準備送至補償盒5的管形帶，并隨后送至下一個用于應用管式標簽的機器(參見圖I中的附圖標記7)。如可以容易地理解的，該變型也實現(xiàn)了上文所述的基于本發(fā)明的技術目的。事實上，可以用簡單和精確的方式制備管式標簽用的連續(xù)的半成品，不依賴位于下游的貼標簽機的類型。由于如上文所述設計的制管模塊11包括真空站20和密封站40，即使當操作條件改變時也可以高質量地密封塑料膜。真空導致帶膜的彎曲部分附于所述彎曲夾具上，使得帶的邊緣3b在預先確定的密封位置保持穩(wěn)定；此外，由于部分22用于對抗密封輥13外還用于空氣抽吸和產生真空功能，兩者的操作可以在有限的空間內進行。因而，對比前面的示例，根據本發(fā)明的該變型的模塊單元在尺寸上沒有實質上的增大。還應該指出，當操作條件變化時，模塊單元的性能保持不變。例如，在由于位于根據本發(fā)明的模塊單元I的下游的貼標簽機中產生的問題必須改變帶3的供給速度的情況下，由于下游的補償盒將吸收任何速度差異，故可以調整所述帶的速度和由輥13執(zhí)行的密封操作的速度，而無任何反彈。
權利要求
1.一種用于制備管式標簽的半成品的方法，包括步驟從線軸(4)上退繞帶(3)，并通過補償盒(5)供給所述帶(3)，在所述補償盒內部，所述帶(3)暫時停留，其特征在于該方法包括在退繞所述線軸(4)的步驟和所述帶(3)停留在所述補償盒(5)的步驟之間的使所述帶(3)成為管體的步驟。
2.根據權利要求I所述的方法，其特征在于使所述帶(3)成為管體的步驟包括將所述帶⑶彎曲成管形的步驟。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于使所述帶(3)成為管體的步驟包括沿由所述帶(3)的兩個相應的側端邊緣(3b)所限定的縱向線密封彎曲成管形的所述帶的另ー步驟。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在干彎曲和密封所述帶(3)的步驟在制管模塊(11)內連續(xù)地進行，所述制管模塊(11)設置在所述退繞站(2)和所述補償盒(5)之間，在所述退繞站(2)，所述帶(3)從所述線軸(4)上退繞，在所述補償盒(5)處，所述帶(3)暫時停留。
5.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于還包括以下步驟將所述管式帶(3)切割成多個標簽。
6.一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元，該模塊単元包括退繞站(2)，所述退繞站用于從線軸⑷上退繞帶⑶；以及補償盒(5)，在所述補償盒(5)內，退繞的所述帶(3)暫時停留，其特征在于，所述模塊単元包括使所述帶(3)成為管體的制管模塊(11)，所述制管模塊(11)設置在所述退繞站(2)和所述補償盒(5)之間。
7.根據權利要求6所述的模塊單元，其特征在于所述帶(3)優(yōu)選為熱收縮材料的膜，更優(yōu)選由單層構成。
8.根據權利要求6或7所述的模塊單元，其特征在于所述制管模塊(11)適用于通過沿縱向將所述帶⑶的兩個側端邊緣(3b)密封到彼此，將所述單層帶(3)彎曲成管形并閉合成管，其中所述邊緣平行于所述帶(3)本身的縱向軸線(3a)。
9.根據權利要求6到8中任一項所述的模塊單元，其特征在于所述退繞站(2)包括所述帶(3)的至少ー個線軸(4)。
10.根據權利要求9所述的模塊單元，其特征在干所述退繞站(2)包括所述單層帶(3)的至少兩個線軸(4)，所述至少兩個線軸依次排列以確保所述帶(3)被連續(xù)供給至所述制管模塊(11)。
11.根據權利要求6到10中任一項所述的模塊單元，其特征在于所述制管模塊(11)包括彎曲部件(12)，所述彎曲部件適用于將所述帶(3)彎曲成管形；以及密封部件(13)，所述密封部件適用于通過沿縱向將所述帶(3)的兩個側端邊緣(3b)密封到彼此，而將所述帶(3)閉合成管，其中所述邊緣平行于所述帶(3)的縱向軸線(3a)。
12.根據權利要求10所述的模塊單元，其中，所述制管模塊(11)包括真空站(20)，所述真空站(20)在所述彎曲部件(12)和所述密封部件(13)之間，在所述真空站(20)中，彎曲成管形的所述帶(3)中的空氣被排出。
13.根據權利要求12所述的模塊單元，其中，所述真空站(20)包括彎曲夾具(21)，所述彎曲夾具(21)帶有箱部分(22)，所述帶(3)圍繞所述箱部分彎曲，并且所述箱部分(22)的內部的至少一部分與空氣抽吸部件(29，30)流體連通。
14.根據權利要求13所述的模塊單元，其中，所述箱部分在所述帶(3)被彎曲的區(qū)域中具有孔(23)，并且所述箱部分的內部連接至空氣抽吸源。
15.根據權利要求6到14中任一項所述的模塊單元，其特征在于所述模塊単元能夠聯(lián)接至制標簽機，所述制標簽機適用于將所述帶切割成標簽或將所述帶(3)卷繞到線軸。
全文摘要
一種用于制作管式標簽的半成品的方法，包括步驟從線軸(4)上退繞帶(3)，并通過補償盒(5)供給所述帶(3)，在所述補償盒內部，所述帶(3)暫時停留，在退繞所述線軸(4)的步驟和所述帶(3)停留在所述補償盒(5)的步驟之間的使所述帶(3)彎曲成為管體。一種用于制備管式標簽的半成品的模塊單元(1)，包括退繞站(2)，用于退繞帶(3)；以及補償盒(5)，在所述補償盒內，所述帶(3)被展開以等待進一步處理；和制管模塊(11)，其設置在所述退繞站(2)和所述補償盒(5)之間。
文檔編號B29C53/48GK102802918SQ201080045352
公開日2012年11月28日 申請日期2010年8月5日 優(yōu)先權日2009年8月7日
發(fā)明者莫羅·文森索·博內利, 恩里科·達諾瓦羅 申請人:莫羅·文森索·博內利, 恩里科·達諾瓦羅