專利名稱：一種薄膜真空展平方法、真空展平裝置及其應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于在薄膜的生產(chǎn)過程中或在薄膜的再加工過程中的薄膜真空展平方法、真空展平裝置及其應(yīng)用。
技術(shù)背景本發(fā)明中所指的薄膜泛指厚度在30μ以下的薄膜，它包括塑料薄膜或金屬薄膜(以金屬鉬膜為常見)。
在薄膜的生產(chǎn)過程中，存在拉膜和收卷過程，由于薄膜被拉伸到一定厚度以后，薄膜的兩側(cè)邊很容易起皺，如果不對(duì)薄膜不進(jìn)行展平，收卷時(shí)收卷后薄膜就會(huì)產(chǎn)生褶皺，這是不合符產(chǎn)品要求的，因此，在薄膜的生產(chǎn)過程中，會(huì)在薄膜的移動(dòng)過程中，加裝一些展平輥， 常用的展平輥是螺紋展平輥，在螺紋展平輥的表面自中央向兩側(cè)對(duì)稱分布有分別向兩側(cè)傾斜的螺紋，當(dāng)薄膜接觸其螺紋面時(shí)，與螺紋展平輥面上的螺紋產(chǎn)生摩擦，傾斜的螺紋將基材向螺紋展平輥兩端擴(kuò)展，使薄膜得以展平。這種螺紋展平輥是依靠薄膜與與螺紋展平輥面上的螺紋產(chǎn)生摩擦，而使薄膜展平的，但是，在薄膜的生產(chǎn)過程中，往往薄膜與螺紋展平輥面上的螺紋不能壓的太緊，否則，就會(huì)造成薄膜縱向拉伸過渡。因此，使用螺紋展平輥來對(duì)低于30μ以下的薄膜進(jìn)行展平，其展平效果不是很理想。
在薄膜的再加工過程中，一般都需要經(jīng)過放卷、薄膜表面處理(如涂布、印花或吸塑等)、后加工(如干燥)后，再進(jìn)行收卷，在這幾個(gè)過程中，都需要對(duì)薄膜進(jìn)行有效地展平， 否則，在每一個(gè)階段都會(huì)產(chǎn)生褶皺，一旦薄膜產(chǎn)生褶皺，所生產(chǎn)的產(chǎn)品就會(huì)成為次品或廢品。在薄膜的再加工過程中，最常用的展平方法是使用螺紋展平輥，螺紋展平輥是在螺紋展平輥的表面自中央向兩側(cè)對(duì)稱分布有分別向兩側(cè)傾斜的螺紋，當(dāng)薄膜接觸其螺紋面時(shí)，與螺紋展平輥面上的螺紋產(chǎn)生摩擦，傾斜的螺紋將基材向螺紋展平輥兩端擴(kuò)展，使薄膜得以展平。如前所述，這種螺紋展平輥是依靠薄膜與與螺紋展平輥面上的螺紋產(chǎn)生摩擦，而使薄膜展平的，但是，在薄膜的生產(chǎn)過程中，往往薄膜與螺紋展平輥面上的螺紋不能壓的太緊， 否則，就會(huì)造成薄膜縱向拉伸過渡。因此，使用螺紋展平輥來對(duì)低于30μ以下的薄膜進(jìn)行展平，其展平效果不是很理想。
有人提出了一些方案，欲解決薄膜在運(yùn)行過程中的展平問題，但其方案的展平效果也不是很理想。如中國專利CN102582209公開的薄膜涂敷裝置和涂敷薄膜真空展平方法，其中，所公開的薄膜真空展平方法利用展平箱內(nèi)部設(shè)置的N個(gè)空腔經(jīng)對(duì)應(yīng)電磁閥控制與負(fù)壓風(fēng)機(jī)的進(jìn)氣口連通而形成負(fù)壓，N=I, 2…η ;該展平箱表面吸附氣孔對(duì)貼近其上的沿長度方向移動(dòng)的帶狀涂敷薄膜產(chǎn)生吸附力，使涂敷薄膜貼緊展平箱上的傾斜凸起筋移動(dòng)， 并受到凸起筋的引導(dǎo)而向涂敷薄膜寬度方向兩外側(cè)展平，使涂敷薄膜褶皺展平。這種展平裝置及方法，不僅存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜，其在實(shí)際運(yùn)用中，由于展平箱底面上的傾斜凸起筋的存在，在展平薄膜的過程中還會(huì)使薄膜產(chǎn)生二次褶皺
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述問題，本發(fā)明向社會(huì)提供一種薄膜在移動(dòng)過程中，可使薄膜向垂直于移動(dòng)方向的兩側(cè)展平，展示效果好且對(duì)薄膜無傷害的薄膜真空展平方法、真空展平裝置及其應(yīng)用。
本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種薄膜真空展平方法，在薄膜行進(jìn)的過程中，在所述薄膜的兩側(cè)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)， 從而將薄膜展平。
作為對(duì)本發(fā)明的改進(jìn)，所述薄膜的厚度是大于等于5μ小于等于50μ。
作為對(duì)本發(fā)明的改進(jìn)，所述薄膜是塑料薄膜或金屬薄膜。
作為對(duì)本發(fā)明的改進(jìn)，所述吸附孔的孔徑可以在大于等于O. 5mm小于等于3_之間選擇。
本發(fā)明還提供一種真空展平裝置，包括與負(fù)壓源連接的負(fù)壓源器件和設(shè)有許多吸附孔的吸附件，所述吸附件相對(duì)于所述負(fù)壓源器件運(yùn)動(dòng)，并被負(fù)壓源器件有選擇性控制吸附件上的部分吸附孔與外界相通。
優(yōu)選的，所述負(fù)壓源器件是具有第一端面和第二端面的圓筒，在所述圓筒的第一端面上設(shè)有吸附窗，所述帶有吸附孔的吸附件為一圓盤，所述圓盤設(shè)置在圓筒的第一端面的內(nèi)側(cè)或外側(cè)，所述圓盤相對(duì)于圓筒的第一端面旋轉(zhuǎn)，露出于吸附窗的圓盤上的吸附孔為工作孔。
優(yōu)選的，所述吸附窗的面積占第一端面的面積的十分之一至四分之一。
優(yōu)選的，所述負(fù)壓源器件是具有一開口的矩形腔體，所述吸附件為帶有吸附孔的環(huán)形平面帶，所述環(huán)形·平面帶由主動(dòng)輥和被動(dòng)輥張緊，所述矩形腔體設(shè)在環(huán)形平面帶的內(nèi)側(cè)，并且矩形腔體的開口與環(huán)形平面帶的內(nèi)底面緊貼，所述主動(dòng)輥帶動(dòng)環(huán)形平面帶旋轉(zhuǎn)，處于開口處的吸附孔為工作孔。
優(yōu)選的，所述負(fù)壓源器件是具有第一端面和第二端面的圓筒，在所述負(fù)壓源器件的外表面設(shè)有成排的與負(fù)壓源相通的軟管，旋轉(zhuǎn)負(fù)壓源器件使軟管分別與薄膜接觸，并被所述與薄膜接觸的軟管吸附住。
本發(fā)明還提供所述的真空展平裝置在涂布機(jī)、印刷機(jī)、薄膜制備設(shè)備及吸塑機(jī)上的應(yīng)用。
本發(fā)明由于采用了在所述薄膜的兩側(cè)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)，從而將薄膜展平的方法，使得本發(fā)明具有薄膜在移動(dòng)過程中，可使薄膜向垂直于移動(dòng)方向的兩側(cè)展平，展示效果好且對(duì)薄膜無傷害的優(yōu)點(diǎn)。
圖I是本發(fā)明的真空展平裝置的一種實(shí)施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖I的A向視圖示意圖。
圖3是本發(fā)明的真空展平裝置的第二種實(shí)施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是圖3的B向視圖示意圖。
圖5是本發(fā)明的真空展平裝置的第三種實(shí)施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6是圖5的C向視圖示意圖。
圖7是本發(fā)明的真空展平裝置的第四種實(shí)施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖8是圖7的D向視圖示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種薄膜真空展平方法，薄膜生產(chǎn)或薄膜使用的過程中，往往需要將薄膜展開和展平，以利后道工序作業(yè)，本發(fā)明在薄膜行進(jìn)的過程中，在所述薄膜的兩側(cè)(即薄膜垂直于其行進(jìn)方向的兩側(cè)邊)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置可以對(duì)稱設(shè)置，也可以錯(cuò)位設(shè)置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)，從而將薄膜展平。
本發(fā)明中，所述薄膜的厚度是大于等于5μ小于等于50μ。所述薄膜可以是塑料薄膜或金屬薄膜。所述吸附孔的孔徑可以在大于等于O. 5mm小于等于3mm之間選擇。
為了實(shí)現(xiàn)上述方法，本發(fā)明還提供了一種真空展平裝置，包括與負(fù)壓源連接的負(fù)壓源器件和設(shè)有許多吸附孔的吸附件，所述吸附件相對(duì)于所述負(fù)壓源器件運(yùn)動(dòng)，并被負(fù)壓源器件有選擇性控制吸附件上的部分吸附孔與外界相通。
具體地說，真空吸附裝置可以有下述幾種結(jié)構(gòu)，顯然，本發(fā)明所列舉的結(jié)構(gòu)包含但不限于下述幾種實(shí)施例結(jié)構(gòu)，凡是依本發(fā)明的精神所構(gòu)造出的其它結(jié)構(gòu)，均應(yīng)屬于本發(fā)明的范疇。
請(qǐng)參見圖I和圖2，圖I和圖2所揭示的是一種真空展平裝置，所述負(fù)壓源器件I 是具有第一端面11和第二端面12的圓筒，負(fù)壓源器件I通過真空接口 14與負(fù)壓源連接，在所述圓筒的第一端面11上設(shè)有吸附窗13，所述帶有吸附孔21的吸附件2為一圓盤，所述圓盤2設(shè)置在圓筒的第一端面11的內(nèi)側(cè)，所述圓盤通過馬達(dá)3及齒輪4的帶動(dòng)，可相對(duì)于圓筒的第一端面11旋轉(zhuǎn)，這時(shí)，露出于吸附窗13的圓盤上的吸附孔21為工作孔，把本發(fā)明的真空展平裝置通過安裝側(cè)板5安裝于薄膜6的兩側(cè)下方，圖中只畫出了對(duì)薄膜的一側(cè)展平的情況，薄膜的另一側(cè)展平的情況是同樣的，并使圓盤盡可能的貼近薄膜6的第二端面，由于負(fù)壓源器件I內(nèi)總是處于負(fù)壓狀態(tài)，這樣，當(dāng)圓盤上的吸附孔(孔徑可以在大于等于O. 5mm 小于等于3mm之間選擇)在馬達(dá)3的帶動(dòng)下，旋轉(zhuǎn)到正對(duì)吸附窗13時(shí)，工作孔就會(huì)將薄膜吸住，并向薄膜的外側(cè)展平；本發(fā)明中，所述吸附窗13的面積可以在占第一端面11的面積的十分之一至四分之一之間選擇，圓盤內(nèi)置時(shí)，圓筒的第一端面11要盡可能的薄，且具有一定的軟度，這樣，就不會(huì)因?yàn)榈谝欢嗣?1的厚度，而對(duì)薄膜造成二次褶皺，一般可將第一端面11的厚度設(shè)計(jì)為O. 1-0. 3mm。比較好的方式是將圓盤設(shè)置在圓筒的第一端面11的外側(cè)， 由于圓盤是一平面，就不會(huì)對(duì)存在對(duì)薄膜造成二次褶皺的可能。這種真空展平裝置通過高整旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)3帶動(dòng)圓盤高速旋轉(zhuǎn)，使圓盤上吸附孔21間斷地經(jīng)過第一端面11的吸附窗 13，在吸附窗內(nèi)吸附薄膜6，并將薄膜6的側(cè)邊向薄膜的外側(cè)吸附展平，其展平效果非常好， 適合于薄膜在行進(jìn)過程中的展平。
請(qǐng)參見圖3和圖4，圖3和圖4揭示地第二種真空展平裝置，所述負(fù)壓源器件I是具有一開口的矩形腔體10，所述吸附件2為帶有吸附孔21的環(huán)形平面帶101，所述環(huán)形平面帶101由主動(dòng)輥102和被動(dòng)輥103張緊，所述矩形腔體10設(shè)在環(huán)形平面帶101的內(nèi)側(cè)， 并且矩形腔體10的開口與環(huán)形平面帶101的內(nèi)底面緊貼，由馬達(dá)3驅(qū)動(dòng)的主動(dòng)輥102帶動(dòng)環(huán)形平面101帶旋轉(zhuǎn)，處于開口處的吸附孔21為工作孔。把本發(fā)明的真空展平裝置通過安裝側(cè)板5安裝于薄膜6的兩側(cè)下方，圖中只畫出了對(duì)薄膜的一側(cè)展平的情況，薄膜的另一側(cè)展平的情況是同樣的，并使環(huán)形平面帶101盡可能的貼近薄膜6的第二端面，由于負(fù)壓源器件I內(nèi)總是處于負(fù)壓狀態(tài)，這樣，當(dāng)環(huán)形平面帶101上的吸附孔(孔徑可以在大于等于O. 5mm 小于等于3mm之間選擇)在馬達(dá)3的帶動(dòng)下，旋轉(zhuǎn)到正對(duì)矩形腔體10的開口時(shí)，工作孔就會(huì)將薄膜6吸住，并向薄膜6的外側(cè)展平；本發(fā)明中，所述矩形腔體10的開口的面積可以在占環(huán)形平面帶101的面積的十分之一至四分之一之間選擇。這種真空展平裝置通過高整旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)3帶動(dòng)環(huán)形平面帶101高速旋轉(zhuǎn)，使環(huán)形平面帶101上吸附孔21間斷地經(jīng)過矩形腔體10的開口，在開口處吸附薄膜6，并將薄膜6的側(cè)邊向薄膜的外側(cè)吸附展平，其展平效果非常好，適合于薄膜在行進(jìn)過程中的展平。
請(qǐng)參見圖5和圖6，圖5和圖6揭示的是第三種真空展平裝置，所述負(fù)壓源器件I 是具有第一端面11和第二端面12的圓筒，在所述園筒的筒身上設(shè)有成排的與負(fù)壓源內(nèi)空相通的軟管20，旋轉(zhuǎn)負(fù)壓源器件I使軟管20分別與薄膜6接觸，并被所述與薄膜6接觸的軟管20吸附住，將薄膜6的側(cè)邊向薄膜6的外側(cè)吸附展平。這種真空展平裝置結(jié)構(gòu)簡單， 但是存在的問題是絕大部分軟管20處于漏氣狀態(tài)，需要較強(qiáng)真空度，此真空展平裝置才可以正常工作。
請(qǐng)參見圖7和圖8，圖7和圖8揭示的是第四種真空展平裝置，所述負(fù)壓源器件I 是具有第一端面11和第二端面12的圓筒，在所述園筒的筒身上設(shè)有許多與負(fù)壓源內(nèi)空相通的吸附孔21，將所述設(shè)在所述隔膜6的下底面，并緊貼隔膜6的下底面，與隔膜6的橫線傾斜角度a，角度a可以5-20度之間選擇；旋轉(zhuǎn)負(fù)壓源器件I使吸附孔與薄膜6接觸，并被所述與薄膜6接觸的吸附孔21吸附住，將薄膜6的側(cè)邊向薄膜6的外側(cè)吸附展平。本實(shí)施例中，所述真空展平裝置是通過馬達(dá)3、齒輪4進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的。
本發(fā)明還提供所述的真空展平裝置在涂布機(jī)、印刷機(jī)、薄膜制備設(shè)備及吸塑機(jī)上的應(yīng)用。
權(quán)利要求
1.一種薄膜真空展平方法，其特征在于，在薄膜行進(jìn)的過程中，在所述薄膜的兩側(cè)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)，從而將薄膜展平。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的薄膜真空展平方法，其特征在于所述薄膜的厚度是大于等于5μ小于等于50μ。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的薄膜真空展平方法，其特征在于所述薄膜是塑料薄膜或金屬薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的薄膜真空展平方法，其特征在于所述吸附孔的孔徑在大于等于O. 5mm小于等于3mm之間選擇。
5.一種真空展平裝置，其特征在于包括與負(fù)壓源連接的負(fù)壓源器件和設(shè)有許多吸附孔的吸附件，所述吸附件相對(duì)于所述負(fù)壓源器件運(yùn)動(dòng)，并被負(fù)壓源器件有選擇性控制吸附件上的部分吸附孔與外界相通。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空展平裝置，其特征在于所述負(fù)壓源器件是具有第一端面和第二端面的圓筒，在所述圓筒的第一端面上設(shè)有吸附窗，所述帶有吸附孔的吸附件為一圓盤，所述圓盤設(shè)置在圓筒的第一端面的內(nèi)側(cè)或外側(cè)，所述圓盤相對(duì)于圓筒的第一端面旋轉(zhuǎn)，露出于吸附窗的圓盤上的吸附孔為工作孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空展平裝置，其特征在于所述負(fù)壓源器件是具有第一端面和第二端面的圓筒，在所述園筒的筒身上設(shè)有許多與負(fù)壓源內(nèi)空相通的吸附孔，將所述設(shè)在所述隔膜的下底面，并緊貼隔膜的下底面，與隔膜的橫線傾斜角度a ;旋轉(zhuǎn)負(fù)壓源器件使吸附孔與薄膜接觸，并被所述與薄膜接觸的吸附孔吸附住，將薄膜的側(cè)邊向薄膜的外側(cè)吸附展平。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空展平裝置，其特征在于所述負(fù)壓源器件是具有一開口的矩形腔體，所述吸附件為帶有吸附孔的環(huán)形平面帶，所述環(huán)形平面帶由主動(dòng)輥和被動(dòng)輥張緊，所述矩形腔體設(shè)在環(huán)形平面帶的內(nèi)側(cè)，并且矩形腔體的開口與環(huán)形平面帶的內(nèi)底面緊貼，所述主動(dòng)輥帶動(dòng)環(huán)形平面帶旋轉(zhuǎn)，處于開口處的吸附孔為工作孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空展平裝置，其特征在于所述負(fù)壓源器件是具有第一端面和第二端面的圓筒，在所述負(fù)壓源器件的外表面設(shè)有成排的與負(fù)壓源相通的軟管，旋轉(zhuǎn)負(fù)壓源器件使軟管分別與薄膜接觸，并被所述與薄膜接觸的軟管吸附住。
10.權(quán)利要求5-9中任何一項(xiàng)權(quán)利要求所述的真空展平裝置在涂布機(jī)、印刷機(jī)、薄膜制備設(shè)備及吸塑機(jī)上的應(yīng)用。
全文摘要
一種薄膜真空展平方法、真空展平裝置及其應(yīng)用，其中所述方法為在薄膜行進(jìn)的過程中，在所述薄膜的兩側(cè)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)，從而將薄膜展平。本發(fā)明由于采用了在所述薄膜的兩側(cè)，分別設(shè)有一個(gè)以上的真空展平裝置，真空展平裝置將薄膜平整地吸附在真空展平裝置的設(shè)有吸附孔的吸附件上，并通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將吸附件帶著薄膜向薄膜外側(cè)移動(dòng)，從而將薄膜展平的方法，使得本發(fā)明具有薄膜在移動(dòng)過程中，可使薄膜向垂直于移動(dòng)方向的兩側(cè)展平，展示效果好且對(duì)薄膜無傷害的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)B29C53/18GK102922736SQ20121045473
公開日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2012年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月14日
發(fā)明者楊志明 申請(qǐng)人:深圳市信宇人科技有限公司