1.一種用于對基底壓花的設(shè)備，所述設(shè)備包括：
a.砧座構(gòu)件(50)；和
b.壓花裝置(30)，所述壓花裝置包括基座表面和從所述基座表面延伸的多個壓花構(gòu)件(34)，所述多個壓花構(gòu)件中的每個壓花構(gòu)件包括：
i.側(cè)壁(64)；
ii.壓花表面(47)，所述壓花表面具有寬度(48)；和
iii.肩部(65)，所述肩部將所述側(cè)壁連接到所述壓花表面；
其中所述肩部包括0.1mm至1mm的半徑；其中所述壓花表面寬度為0.25mm至4mm；并且其中所述側(cè)壁從所述基座表面基本上漸縮。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述半徑為0.3mm至0.5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2所述的設(shè)備，其中所述半徑為0.35mm。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備，其中所述壓花表面寬度為0.5mm至1.5mm。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備，其中所述側(cè)壁具有0至50度的角度。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備，其中每個凸塊包括2mm至12mm的高度。
7.一種用于對基底壓花的方法，所述方法包括以下步驟：
a.提供砧座構(gòu)件(50)；
b.提供壓花裝置(30)，所述壓花裝置包括基座表面和從所述基座表面延伸的多個壓花構(gòu)件(34)，所述多個壓花構(gòu)件中的每個壓花構(gòu)件包括：
i.側(cè)壁(64)；
ii.壓花表面(47)，所述壓花表面具有寬度(48)；和
iii.肩部(65)，所述肩部將所述側(cè)壁連接到所述壓花表面；
其中所述肩部包括0.1mm至1mm的半徑；
其中所述壓花表面寬度為0.25mm至4mm；并且
其中所述側(cè)壁從所述基座表面基本上漸縮；以及
c.在所述砧座構(gòu)件和所述壓花裝置之間推進頂片和吸收芯，使得經(jīng)由所述多個壓花構(gòu)件形成壓花區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述半徑為0.3mm至0.5mm或優(yōu)選地0.35mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述壓花表面寬度為0.5mm至1.5mm，并且所述側(cè)壁具有0至50度的角度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中每個壓花構(gòu)件包括約2mm至約12mm的高度。