本實(shí)用新型涉及印刷設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種激光鐳射膜電暈處理裝置。

背景技術(shù)：

電暈處理是一種電擊處理，它使塑料薄膜的表面具有更高的附著性，從而方便在塑料薄膜上印刷色彩、圖案。電暈處理的原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料薄膜表面電暈放電，而產(chǎn)生低溫等離子體，使塑料薄膜表面產(chǎn)生游離基反應(yīng)而使聚合物發(fā)生交聯(lián)，表面變粗糙并增加其對極性溶劑的潤濕性。

目前主要是采用電暈機(jī)高壓放電，使材料表面極化的方式，改變薄膜表面的附著性能。目前工業(yè)上的電暈機(jī)往往由于放電所產(chǎn)生的低溫等離子濃度不夠高和均勻，導(dǎo)致無法達(dá)到預(yù)期的效果。并且薄膜表面經(jīng)過電暈處理之后及其不穩(wěn)定，與空氣接觸容易出現(xiàn)氧化等現(xiàn)象，從而影響后續(xù)的加工處理。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)提供一種激光鐳射膜電暈處理裝置，不僅能提高電暈處理的效果，而且可以避免電暈后薄膜與空氣接觸產(chǎn)生氧化現(xiàn)象，提高薄膜的生產(chǎn)質(zhì)量。

本實(shí)用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案為：一種激光鐳射膜電暈處理裝置，它包括用于對激光鐳射膜進(jìn)行輸送導(dǎo)向的輥軸、用于對激光鐳射膜進(jìn)行電暈處理的電暈發(fā)生器和真空保護(hù)箱，所述真空保護(hù)箱位于電暈發(fā)生器和后道處理機(jī)構(gòu)之間，所述真空保護(hù)箱外接真空泵，所述電暈發(fā)生器包括底部有缺口的真空輻射管，在所述真空輻射管的中心為設(shè)置有底部有開口的電子光學(xué)管，在所述電子光學(xué)管的中心線上設(shè)置有陰極管，在所述真空輻射管的底部缺口兩側(cè)安裝有陽極板，所述真空輻射管的底部通過密封罩將缺口封住，且在密封罩上開設(shè)有電子束孔。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：

1、電暈發(fā)生器在真空狀態(tài)下產(chǎn)生大量的加速電子束，其離子濃度大大提高，電暈效果得到明顯改善；

2、電暈處理后的鐳射膜經(jīng)過真空保護(hù)箱后進(jìn)入到后道處理結(jié)構(gòu)進(jìn)行印刷或涂布處理，減少了與空氣接觸的時(shí)間，避免電暈?zāi)け砻娉霈F(xiàn)不穩(wěn)定的現(xiàn)象，大大提高了印刷或涂布的效果。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型中電暈發(fā)生器的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

如圖1，2所示，本實(shí)用新型涉及一種激光鐳射膜電暈處理裝置，包括用于對激光鐳射膜進(jìn)行輸送導(dǎo)向的輥軸1、用于對激光鐳射膜進(jìn)行電暈處理的電暈發(fā)生器2和真空保護(hù)箱3，所述真空保護(hù)箱3位于電暈發(fā)生器2和后道處理機(jī)構(gòu)之間，激光鐳射膜從真空保護(hù)箱3穿過后直接進(jìn)入后道處理機(jī)構(gòu)進(jìn)行印刷或涂布處理，所述真空保護(hù)箱3外接真空泵4，確保箱體內(nèi)的真空度，防止電暈后鐳射膜與空氣接觸，所述電暈發(fā)生器2包括底部有缺口的真空輻射管2.1，在所述真空輻射管2.1的中心為設(shè)置有底部有開口的電子光學(xué)管2.2，在所述電子光學(xué)管2.2的中心線上設(shè)置有陰極管2.3，在所述真空輻射管2.1的底部缺口兩側(cè)安裝有陽極板2.4，在電子光學(xué)管的作用下在陰極管和陽極板之間形成大量的加速電子，所述真空輻射管2.1的底部通過密封罩5將缺口封住，且在密封罩5上開設(shè)有電子束孔5.1，大量的加速電子由電子束孔5.1射出后到達(dá)膜表面進(jìn)行電暈處理，由于用于電暈處理的電子是在真空狀態(tài)下產(chǎn)生，因此其含量高，對于提高電暈處理有明顯的效果。

除上述實(shí)施例外，本實(shí)用新型還包括有其他實(shí)施方式，凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術(shù)方案，均應(yīng)落入本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。