本發(fā)明涉及一種被膜剝離機(jī)構(gòu)與包括所述被膜剝離機(jī)構(gòu)的被膜剝離裝置。
背景技術(shù):
1、塑料用于各種領(lǐng)域,另一方面,被認(rèn)為是微塑料等海洋污染的原因物,降低由塑料引起的環(huán)境負(fù)荷成為當(dāng)務(wù)之急。
2、另外,近年來,由于物聯(lián)網(wǎng)(internet?of?things,iot)的進(jìn)化,搭載于計(jì)算機(jī)或智能手機(jī)的中央處理器(central?processing?unit,cpu)等電子設(shè)備增加,與此相伴,用于驅(qū)動(dòng)電子設(shè)備所需的層疊陶瓷電容器(多層陶瓷電容器(multi-layer?ceramic?capacitors,mlcc))的數(shù)量也急劇地增加。所述mlcc的一般制造方法存在如下工序:將在塑料的基材膜上形成了脫模層的脫模膜用作載片,在所述脫模膜上形成陶瓷生片(ceramics?greensheet)層的工序、以及將所述陶瓷生片層剝離而制成陶瓷生片的工序。
3、在所述工序中,將陶瓷生片剝離后的脫模膜作為無(wú)用物被廢棄。即,與近年來的mlcc數(shù)量的急劇的增加相伴的脫模膜的廢棄物增大成為環(huán)境問題,面向塑料的基材膜再利用的措施越發(fā)活躍。
4、為了對(duì)被廢棄的脫模膜進(jìn)行再利用,只要通過進(jìn)行回收/粉碎/制成樹脂片后,再熔融以進(jìn)行制膜而獲得再生膜即可。
5、但是,就脫模性的觀點(diǎn)而言,脫模膜中所含的脫模層的成分為與通常構(gòu)成基材膜的成分不同的組成,因此若在對(duì)附著有脫模層的脫模膜進(jìn)行粉碎而制成樹脂片后,再熔融以進(jìn)行制膜,則脫模層的成分以異物的形式存在,因此難以進(jìn)行穩(wěn)定制膜。
6、另外,即便可進(jìn)行制膜,由于脫模層以異物的形式存在于所獲得的膜上,因此因膜的著色或表面組成的變化而無(wú)法避免品質(zhì)劣化,無(wú)法再生為與原本的基材膜同等水平的品質(zhì)的膜。
7、因此,為了將脫模膜作為再生膜再循環(huán),需要將脫模膜中所含的脫模層的成分去除直至作為再生膜的品質(zhì)為無(wú)問題的水平的極微量的殘?jiān)?/p>
8、作為從帶被膜的膜表面將被膜去除的方法,在專利文獻(xiàn)1中公開了如下方法:通過在使作為剝離構(gòu)件的具有金屬纖維制的毛的旋轉(zhuǎn)刷旋轉(zhuǎn)的同時(shí),使其與膜表面的被膜直接接觸,從而將被膜剝離,并且為了將附著于旋轉(zhuǎn)刷的被膜片(以下,為剝離物)去除,在旋轉(zhuǎn)刷的圓周方向設(shè)置多個(gè)抽吸噴嘴。
9、在專利文獻(xiàn)2中,作為將膜表面的異物去除的方法,公開了如下方法:利用溶劑使旋轉(zhuǎn)的桿構(gòu)件濕潤(rùn)后,使其與膜表面接觸,使異物附著于桿構(gòu)件的外周面,由此對(duì)異物進(jìn)行回收、去除。進(jìn)而公開了一種抽吸噴嘴,其為了防止附著于桿構(gòu)件的外周面的異物從桿再附著于膜,而設(shè)置用于從桿構(gòu)件的外周面將異物去除的、能夠減壓的狹縫部分。
10、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
11、專利文獻(xiàn)
12、專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2012-171276號(hào)公報(bào)
13、專利文獻(xiàn)2:日本專利特開昭62-60749號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、發(fā)明所要解決的問題
2、在專利文獻(xiàn)1的方法中,使旋轉(zhuǎn)刷以按壓于帶被膜的膜的方式與其直接接觸,因此與帶被膜的膜接觸后的旋轉(zhuǎn)刷的毛的撓曲得到釋放,附著于毛上的剝離物容易向周圍飛散,有時(shí)會(huì)再附著于膜上。為了提高被膜的剝離性能,需要將所述旋轉(zhuǎn)刷相對(duì)于帶被膜的膜強(qiáng)力地按壓,并且以高速進(jìn)行旋轉(zhuǎn),因此容易假設(shè)剝離物的飛散變得顯著。為了對(duì)剝離物進(jìn)行回收而在刷的前后設(shè)置抽吸噴嘴,但關(guān)于抽吸噴嘴與剝離部的位置關(guān)系的詳細(xì)情況并無(wú)記述。另外,也并未提及抽吸噴嘴本身。在假設(shè)要使抽吸噴嘴接近的情況下,需要設(shè)置于旋轉(zhuǎn)刷與被搬送的膜之間,但由于均在移動(dòng),因此必須從任一者空開一定間隔地設(shè)置,使其無(wú)法接近。即,無(wú)法充分回收去除被剝離的被膜片,無(wú)法防止剝離物再附著于膜,因此再生膜的品質(zhì)惡化。
3、另外,在專利文獻(xiàn)2的方法中,剝離物被桿構(gòu)件剝離一次后,通過轉(zhuǎn)移至外周面而去除剝離物,但若桿以高速旋轉(zhuǎn),則剝離物會(huì)向周圍飛散而存在再附著于膜的可能性。另外,所轉(zhuǎn)移的剝離物在桿構(gòu)件的保持構(gòu)件上脫落,其脫落的位置為狹縫狀的開口部的正側(cè)面、即開口部的邊緣的位置。在開口部的邊緣與開口部的正上方進(jìn)行比較的情況下,在抽吸氣流直線前進(jìn)的開口部的正上方處可提高抽吸風(fēng)速,但在開口部的邊緣,不存在直線前進(jìn)的抽吸氣流而作用有從周圍引入的氣流,因此抽吸風(fēng)速顯著變低。即,在開口部的邊緣,剝離物的抽吸去除性能變低,無(wú)法充分回收去除剝離物,結(jié)果,剝離物殘存于桿構(gòu)件,再生膜的品質(zhì)惡化。進(jìn)而,狹縫的內(nèi)部形狀由一定間隙構(gòu)成至底部,因此在抽吸噴嘴內(nèi)部無(wú)法充分形成向膜寬度方向的流動(dòng)。即,對(duì)于寬幅的膜無(wú)法,獲得相對(duì)于膜寬度方向均勻的抽吸風(fēng)速。即,在連接有鼓風(fēng)機(jī)或真空泵等抽吸設(shè)備的部位,特別是抽吸風(fēng)速提高,在膜寬度方向上,在遠(yuǎn)離連接有所述抽吸設(shè)備的部位的部位,抽吸風(fēng)速變低,從而產(chǎn)生剝離物的抽吸去除性能不足等問題。
4、因此,本發(fā)明作為從具有被膜的基材膜將被膜剝離的機(jī)構(gòu),提供一種被膜剝離機(jī)構(gòu),所述被膜剝離機(jī)構(gòu)在抑制剝離物的飛散或堆積的同時(shí),可靠地抽吸去除剝離物,由此防止剝離物再附著于膜而造成污染,可在連續(xù)且長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地進(jìn)行被膜的剝離。
5、解決問題的技術(shù)手段
6、[1]解決所述課題的本發(fā)明的被膜剝離機(jī)構(gòu)是用于從在基材膜的至少單面具有被膜并被搬送的帶被膜的膜將被膜剝離的機(jī)構(gòu),且具有:剝離構(gòu)件,具有沿膜寬度方向延伸的前端部,且用于使所述前端部與所述帶被膜的膜接觸以將所述被膜剝離;以及噴嘴構(gòu)件,配置于比所述剝離構(gòu)件更靠膜搬送方向上游側(cè)處,通過所述剝離構(gòu)件與所述噴嘴構(gòu)件構(gòu)成抽吸由所述前端部剝離的所述被膜的抽吸噴嘴,所述剝離構(gòu)件的膜搬送方向下游側(cè)的側(cè)面與所述噴嘴構(gòu)件的膜搬送方向上游側(cè)的側(cè)面以隨著朝向所述前端部而彼此接近的形態(tài)傾斜。
7、另外,本發(fā)明的被膜剝離機(jī)構(gòu)優(yōu)選為下述[2]至[5]中任一項(xiàng)的形態(tài)。
8、[2]根據(jù)所述[1]的被膜剝離機(jī)構(gòu),其中,所述抽吸噴嘴具有:開口部,沿膜寬度方向延伸,在所述前端部的附近開口;狹縫部,沿膜寬度方向延伸,且為與所述開口部連通的流路;以及減壓室,與所述狹縫部連通,且為與抽吸方向垂直的剖面面積較所述狹縫部而言大的空間。
9、[3]根據(jù)所述[2]的被膜剝離機(jī)構(gòu),其中,所述抽吸噴嘴在所述噴嘴構(gòu)件與所述剝離構(gòu)件的膜搬送方向上游側(cè)的側(cè)面形成有所述開口部、所述狹縫部及所述減壓室。
10、[4]根據(jù)所述[2]的被膜剝離機(jī)構(gòu),其中,在所述剝離構(gòu)件與所述噴嘴構(gòu)件之間包括間隔構(gòu)件,且在所述噴嘴構(gòu)件、所述間隔構(gòu)件及所述剝離構(gòu)件的膜搬送方向上游側(cè)的側(cè)面形成有所述開口部、所述狹縫部及所述減壓室。
11、[5]根據(jù)所述[2]至[4]中任一項(xiàng)所述的被膜剝離機(jī)構(gòu),其中,相對(duì)于作為要?jiǎng)冸x的對(duì)象的所述帶被膜的膜的膜寬度,所述開口部的膜寬度方向的開口寬度為4%~150%。
12、[6]根據(jù)所述[3]至[5]中任一項(xiàng)的被膜剝離機(jī)構(gòu),其中,所述帶被膜的膜與所述剝離構(gòu)件的膜搬送方向上游側(cè)的側(cè)面所成的角度為30°~120°。
13、[7]本發(fā)明的被膜剝離裝置包括:卷出裝置,用于卷出卷成卷狀的所述帶被膜的膜;卷繞裝置,用于卷繞將所述被膜剝離后的所述基材膜;以及根據(jù)所述[1]至[6]中任一項(xiàng)的被膜剝離機(jī)構(gòu),設(shè)置于所述卷出裝置與所述卷繞裝置之間,且用于從被搬送的所述帶被膜的膜將所述被膜剝離。
14、發(fā)明的效果
15、若使用本發(fā)明的被膜剝離機(jī)構(gòu),則在將具有被膜的基材膜的被膜剝離時(shí),所剝離的被膜不會(huì)再附著于基材膜而可穩(wěn)定且連續(xù)地進(jìn)行被膜的剝離。