專利名稱：一種制造盤狀記錄體的模盤的裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是關于一種用于制造盤狀紀錄體的模盤的裝置，所說的裝置設有一個在基底上涂敷一層光敏層、例如一層感光性樹脂層的工位，一個使所說的光敏層按照被存貯的紀錄數據暴光的工位，一個用于沖洗光敏層并使帶有經顯形的感光性樹脂層的基片的一個面鍍上金屬的工位，一個用來施加一金屬涂層的工位和一個涂加保持層的工位。
記錄體這名詞意指聲音載體和/或圖像載體和/或數據載體及類似的載體，例如所謂的高密軟盤，此外還指那些在以后可經加工以在其上面存儲聲音，圖像或其它數據的載體。
在荷蘭專利申請NO8802211中描述了制造這樣一種模盤的方法，然而其出版物上并沒有提供任何有關用來實施這一方法的一種裝置的結構的指示。
荷蘭專利申請NO8702157描述了一種對這類紀錄體進行某種處理的裝置，該裝置具有一個支放紀錄體的旋轉臺，旋轉臺和它的驅動機械可在幾個工位之間移動。這樣不僅使裝置的結構變得復雜，而且還有一個缺點，即在最后一個工位的處理尚未結束且旋轉臺未返回到第一工位之前，在第一工位內對紀錄體的處理就不能夠開始，顯然采用這種裝置是不經濟的。
此外，還提出一種設計，把上面提及的各個工位設計成獨立的單位，把紀錄載體在各個工位之間轉送。這種獨立的工位的安排需要很大的空間，而且在各個工位之間的傳送會形成一個不利因素，即使得生產過程變慢。
本發(fā)明的目的是獲得一種上述類型的裝置，這種裝置具有高效且緊湊的結構，在該裝置內能按順序進行連續(xù)操作，不需要操作者的動作。
本發(fā)明的目的是這樣來實現的、其中，各個工位容納在一個外殼內，在各種工位內設有一個存放基片裝置，在外殼內置有一傳輸機構，其至少帶有一個傳送器用來抓取一片基片，傳送器能在一個水平面內在互相成一角度的二個方向上移動，也能在外殼內上下移動。
采用本發(fā)明的結構?？梢越柚趥鬏敊C械把基片按照所需要的方式傳送到裝在各個工位內的基片存放裝置上，從而按要求進行作業(yè)，在所說的每一個工位上的基片互相是獨立的。
下面，參考按照本發(fā)明的結構的實施例并結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細的解說。


圖1是按照本發(fā)明的裝置的前視圖;
圖2是按照本發(fā)明的裝置的各個工位的平面視圖;
圖3是圖1和圖2所示的裝置的剖面圖;
圖4是一種能從一堆基片中移去一片基片和把所說的基片移送到傳輸機械的裝置的立面視圖;
圖5是圖4是頂視圖;
圖6用于清潔和涂敷第一涂覆層和感光性樹酯層的機械的平面圖;
圖7是一個干燥工位的部分平面圖;
圖8是圖7的側視圖;
圖9是沖洗和鍍金屬層工位的視圖，其中部分為立面視圖，部分為剖視圖;
圖10是用以把連接環(huán)放在基片上的裝置的立視圖;
圖11是圖10的平面圖;
圖12是把壓緊環(huán)放到基片上的裝置的立視圖;
圖13是圖12的平面圖;
圖14表示了一種執(zhí)行在含有電解液的槽內浸泡工序的機器;
圖15是圖14所示的結構的一部分尺度放大后的視圖;
圖16是一個工位的部分的立視圖，在該工位內，所得到的模盤經過最后一道操作工序。
圖17是圖16的平面圖。
圖1至3所示的裝置包括一個外殼1，在正常的操作過程中，該外殼是封閉的，其內設有2至7個單元。這2至7個單元最好是設計成能夠移去整個一個單元，使得能替換成所需要的單元來完成一種(一些)相應的操作或一些(一種)其它的操作。
靠近裝置上面有一根橫梁8，該橫梁沿著裝置的縱向方向延伸，形成轉輸機械的一部分。有一滑塊9可借助于驅動機構(沒有顯示出)沿著所說的橫梁來回移動，如箭頭A所指，滑塊9吊著一桁架10，桁架10垂直于橫梁8，另一滑塊9′沿著桁架10可按箭頭B所指的方向來回移動，滑塊9′起支持二個傳送器11和12的作用，在傳送器11和12上裝有可徑向移動的鉤狀鉤瓜。傳送器11和12靠驅動裝置(圖中未顯示的)可在垂直方向來回移動。
當鉤瓜13沿徑向向外移動時，則傳送器位于一基片上，當鉤瓜13再向內轉時，鉤瓜的鉤狀端頭嵌入該基片下，這樣該基片被相關的傳輸器舉起并借助于上面所描述的傳輸機械通過外殼移動。
從圖1至3可進一步看到，外殼被分成14至16三層，一層位于另一層的上面，在最上面那層14內裝著傳輸機械。層15位于層14下面，且可以按圖1和2所示的方式再分成2-7個單元，其內裝有所描述的為處理記錄體用的各種裝置，這些單元中至少有一些內要裝有一臺如圖3所示的旋轉臺。
最下一層16也相應分成2至7個單元，其內裝有輔助設備，如電子儀器，液體容器及諸如此類。所說的輔助設備最好設計成可滑動的，使得在要進行維修或類似的工作時可以把它們橫過殼的縱軸方向移進或移出外殼。
在第3單元上有一開孔，在裝置內通過該開孔設有一支架，支架上托著許多基片，這些基片一張疊在另一張上面，通常這些基片是玻璃盤。在所說的出入開孔附近沒有一臺機械，該臺機械進一步的細節(jié)顯示在圖4和圖5中，所說的機械能從一堆基片上移出一片基片，并把所說的基片送到傳輸機械。
如圖4中所示，許多基片18，例如玻璃盤，一片疊一片地堆在外殼內。
在圖4和圖5中所示的機械包括一固定在裝置框架上的支柱19，其內裝有一可轉動的垂直導桿20，該導桿20靠與其相連的驅動馬達21旋轉。
導體20穿過螺套裝置22，螺套繞導桿20的中心軸的轉動可以被鎖柱。一條橫臂23的一端與所說的螺套裝置22相連接，由圖中沒有顯示的驅動裝置的驅動，橫臂23與螺套裝置22相應可繞著導桿20的中心軸旋轉，并能沿著導桿垂直作上下移動。
面朝上的三個吸盤24固定在橫臂23的自由端。
當裝置內放有一堆基片18時，借助于一種合適的控制機構，橫臂23可被移到該堆基片下的一個位置上，然后在該堆基片下旋轉并向上移動，直到吸盤24支撐住基片18的最下面的底部。這一位置由裝在橫臂上的傳感器25來探測。由圖中沒有標出的裝置在吸盤24內產生一負壓，然后，最下面一層基片18從該堆基片下面的位置上旋開，仃留在支放基片的支架旁邊的位置上，在這一位置上，由傳送器11或12中的一個把該基片18從橫臂23上取走。
后面能看到，在一定的處理階段中紀錄體將是濕的。上面已經提到，由于裝有二個傳送器11和12，因此，一個傳送器可以用來傳輸干基片，另一傳送器可用來傳送濕的基片，結果可使基片和裝置避免不希望的污染。
在一片基片，通常由玻璃盤構成，被傳送器11，12夾取后。該基片被向上移，通過位于層15頂壁26上的開口27移入空間14，并被送到第4單元，向下通過位于頂壁26上的開口27移到工位28，以清洗和涂覆第一涂層和一層所謂的漆層或感光性樹酯層。
如圖6所示，該工位28包含一張旋轉臺29，該旋轉臺置于一杯狀的裝置內，其結構至少應基本上與杯狀相適應，進一步細節(jié)參考附圖9的描述。
此外，在該工位內裝有二個供給管33和34，該二個管33和34可分別繞著垂直軸31和32旋轉。還有一清潔裝置，其可以繞一垂直軸旋轉，并能夠作垂直徑返移動，例如刷子裝置36，所說的刷子裝置可繞著一水平轉軸旋轉。
為了清洗基片，當放在旋轉臺29上的基片隨所說的旋轉臺旋轉時，一種沖洗液，在這個例子中是去離子水，將借助于供給管33噴在基片的上表面上，當清洗液施加在基片的上表面上時，刷子36旋轉到基片上方的一個位置上對基片進行洗刷，清洗后，刷子轉回到圖6所示的位置，在這一位置時的刷子正位于一個凹槽37的上方，有一排水管38與凹槽相接，用來排出從刷子上滴下來的水分。清洗之后，由管33涂復上一層涂層，在涂覆上第一層涂層之后，借助于供給管34再涂敷上用來形成最后的漆層或稱之謂感光性樹脂層的物質，將其涂在基片表面上。
此外，有一吸水管39與杯狀凹槽30相連，用于抽干水汽。
這樣，在把漆層或感光性樹酯層涂在基片上之后，所說的基片將通過傳輸機械送到使漆涂層干燥的工位40。
如附圖所示，裝在工位40內的帶有水平管件41的空氣管路用于干燥漆層。旋轉臺42至少有一部分經過設置在管件41底壁內的一個孔而置于管件41的內部。所說的旋轉臺裝有3個吸盤43，在吸盤內的負壓使一基片18固定在該旋轉臺上。旋轉臺能借助于與旋轉臺相連的驅動馬達44旋轉。
基片18可以由傳輸機械使其通過位于管件41頂壁上的一個開口而放在旋轉臺上，該開口可以用蓋子45關閉，蓋子45固定在支承臂45′的一端，支承臂45′固定在一根垂直軸46上，而該垂直軸能靠旋轉馬達47的帶動繞它的中心軸旋轉。
軸46進一步由一支承機械48所支持，而支承機械可通過調節(jié)汽缸49作上下移動。這樣，為了把位于管件41頂壁上的開口打開，蓋44可以被移動向上，然后作水平移動，使其從圖7中實線所示的位置轉到虛線所示的位置。
當把基片放到旋轉臺上之后，反方向移動蓋子，關閉空氣通道，然后用風扇(圖中未示出)在空氣通道中產生一股氣流，加熱線圈50朝垂直于空氣通道縱向的方向延伸，用來對空氣通道中的空氣加熱，圖7中所示的加熱線圈處在與其實際位置轉了90°的位置上。
從附圖7上還可以進一步看到，在空氣通道內的旋轉臺和加熱線圈之間還裝有一擋板51，使空氣通道稍稍變窄，這是為了使流過旋轉臺上基片上面的氣流盡可能平穩(wěn)。
在用熱空氣干燥之后，時而有冷卻基片的冷空氣通過空氣管道。
實踐中已表明，在一種合適的實施例中，熱空氣通過約為3分鐘，冷空氣約7分鐘事實上這表明了為干燥漆層或感光性樹脂層而所需的時間已明顯地縮短，而至今為止所采用的是在一些爐子里干燥的方法，此時干燥時間約為1小時。
在感光性樹脂層按此干燥之后，同時移開蓋45把管件41打開之后，則現已帶有感光性樹脂層的基片可以被送到工位52，用來在紀錄體上紀錄所需的信息。該工位52包括一旋轉臺53，由傳輸機械把已復蓋有漆層或感光性樹脂層的基片送到旋轉臺53上，通常該工位52還包括一激光裝置54，以及一光學器具55，通過它們把光線射到由托架56所支持的透鏡57上。托架56固定在一根軸58上，為了便托架能在導軌60上移動，用驅動機械59使軸58能縱向移動。這樣，托架移動到放在旋轉臺53上的基片上，感光性樹脂層將根據需要紀錄的信息方式被暴光。
在基片用這種方式被暴光以后，再用上面所說的傳輸機械把基片18送到工位61。
如圖9更詳細表示的，工位61包括一臺存放基片的旋轉臺62，旋轉臺62由馬達63帶動可繞一垂直軸旋轉。
旋轉臺62置于一壞狀裝置65內，杯狀裝置的底部連有一排水管66。
在杯狀裝置65內靠近其上面部位有一環(huán)形凹槽67，從圖9明顯看出，所說的凹槽的內壁稍低于外壁，一根排水汽的管子68與所說的凹槽67相通。
在旋轉臺附近裝有一根旋轉軸70，該旋轉軸70由驅動機械69帶動繞一垂直的轉軸旋轉。橫臂71的一端固定在轉軸上，橫臂71的另一端用來托放許多管子72，橫臂71的托有管子的一端位于如圖9所示的杯狀裝置的上方時，管子72能供給各種液體。
橫臂71可以從這一位位置轉到使托架有管子的自由端位于凹槽74(圖2)上方的位置，這樣從管子上滴下的任何液體或用來沖洗管子的清洗液可以經凹槽74排出。
注意，為了便于參考，在附圖2中所示的橫臂71和管子72沒有處在它們在凹槽74上方的位置上，而是把它放在另一位置上。
另有一豎軸76支撐著一橫臂77，豎軸76由驅動裝置75帶動旋轉，在橫臂77上裝著三個鏡片78。鏡片78的作用是接收按箭頭B所指方向來的激光光束，激光可以移動著穿過經上面所述的方式處理過的基片，并接著被鏡片78所接受，鏡片所接受的光線受到感光性樹脂層在處理過程中所得到的信息的影響，這樣就可以檢查是否按照要求的方式進行了處理。
各種液體由各種管子依次供給，首先清洗基片，然后為了把已暴光的物質從感光性樹脂層上除去，用堿性顯影液沖洗感光性樹脂層，當感光性樹脂層按上面所述方式顯影后，用激光和透鏡78進行檢測。
此后，對基片18上留下來的感光性樹脂層和/或其向上的表面用適當的液體鍍上金屬，通常是鍍上一層鎳涂層，這樣就得到了一種產品，這種產品大體上與上面提到的荷蘭專利申請NO8802211中圖2所描述的產品一致。
在基片18和涂在其上面的感光性樹脂層經過在工位61的處理之后，并且橫臂77和71轉到杯狀裝置旁邊的位置上后，用傳輸機械把該基片送到下一個工位80，并放在一支撐板81上(圖15)，該支撐板固定在支撐臂82的上端，當放基片時，該支撐臂處在圖14所示的垂直位置上，由一種調節(jié)汽缸(沒有標出)的帶動下該支撐臂82可從這一垂直位置繞著水平的轉軸B4轉到圖14中由虛線所示的位置上，調節(jié)汽缸通過連桿83與支撐臂82相連。
具體地說，基片18就因此平放在裝設在支承板81內部的幾根壓縮彈簧85的上端頭上。
然后必須在基片上放一個薄的金屬接觸環(huán)，尤其是用不銹鋼或鎳制的環(huán)，環(huán)的尺寸應使其能蓋住基片的窄的外緣，并在外則稍稍凸出到基片外。
圖10和圖11所示的機械裝在工位80內，以便為工位80提供一個金屬接觸環(huán)86。
這一機械包括一支承裝置87，該支承裝置借助于一調節(jié)汽缸88可垂直移動。
所說的支承裝置87支撐了一根豎向的軸89，橫臂90的一端固定在該豎軸89上。
借助于固定在支承裝置上的調節(jié)汽缸91，軸89連同固定在其上面的橫臂90可以繞著軸89的垂直軸旋轉，所說的調節(jié)汽缸的活塞桿91′與軸89相連。
橫臂90的自由端由一平板92構成，在該平板92上裝有一個圓盤93，該圓盤可繞著平板92的軸94旋轉，該平板93與固定在橫臂90上的一臺調節(jié)汽缸96的活塞桿95相連，以便使平板93旋轉。
在平板93上設有三個縫口97，這三個縫口是這樣的即在軸94和各個縫口之間的距離從所說的每個縫口的一端到所說的每個縫口的另一端逐漸增大，垂直銷98位于所說的縫口97內，所說的垂直銷與桿99的一端相連，而桿99沿著軸94的徑向方向延伸。桿99裝在固定在平板92的導塊99′內，以使能作縱向轉動。
顯然，當平板93借助調節(jié)汽缸96繞軸前后轉動時，這些桿99就沿它們的縱向移動。
向下延伸的懸臂100固定在桿99的端部，在所說的懸臂100的未端連著鉤爪101。
有許多環(huán)86安放在工位80附近，例如在圖10所示的位置內，這些環(huán)一個迭一個放在一個臺上或類似的支架上。
現在可以借助于參考圖10和圖11所描述的機械從這堆環(huán)中拾取最上面的一個環(huán)，首先借助于桿99使鉤爪向外移動，然后進一步移動鉤爪，使其位于該堆環(huán)中最上面一個環(huán)的下面的位置上，以一種合適的方式使臂90旋轉和作垂直移動，然后鉤爪互相相對移動，這樣鉤爪101將位于該堆環(huán)的最上面一個環(huán)的下面。然后，可把最上面的環(huán)移到放在支承板81的基片的上方，使橫臂90在垂直方向作適當的移動并旋轉，以能把環(huán)放在所說的基片上。
然后，將該基片和放在基片上的圓環(huán)壓緊在支承板85上以作進一步的處理。
由圖12和圖13所示的機械裝在能提供夾緊環(huán)102的工位80內。
從圖15尤其可看出，壓緊環(huán)102有一個近似L形的截面，其形狀是這樣的在壓緊環(huán)102被安裝的位置內，壓緊環(huán)102的一個腳，連同設在其內的密封環(huán)103，將位于環(huán)86的上面，而另一腳將多多少少沿著支承板81的外圓周延伸，三個沿徑向伸的銷子104互相按一定的間隔置于支承板81的外圓周上，并從支承板81的外圓周上向外凸出，能與位于壓緊環(huán)102內的L形狹槽105相配合，所說的狹槽的短邊在壓緊環(huán)的底側和內側那一點是開放的，長邊沿圓周方向延伸。
圖12和圖13所示的機械用于提供或移去壓緊環(huán)102，它包括一個支承裝置106，支承裝置可借助于一個調節(jié)汽缸107作垂直移動。該支承裝置支承一垂直軸108，橫臂109的自由端固定在該垂直軸上，借助于固定在支承裝置106上的調節(jié)汽缸110，軸108連同橫臂109能繞軸108的中心軸旋轉，所說的調節(jié)汽缸的活塞桿與軸108相連。
橫臂109的自由端通過一豎軸112支持了一個圓盤113，所說的圓盤借助于裝在橫臂109上的一臺調節(jié)汽缸可繞豎直軸112的中心軸旋轉。另一塊平板115通過螺旋116固定在平板113的底面上，為了能正確調整113和115兩塊板之間的位置，所說的螺栓116穿過狹槽117。
伸到板115下面的一些銷軸117以一定的間隔固定在平板115上，在所說的銷軸的底端固定了頭部118，該頭部被安裝在壓緊環(huán)102內部的一個彎槽孔119內，所說的彎槽孔的一端是一個擴大的孔120，在壓緊環(huán)的朝上一側該孔120是敝開的，頭部118可以通過該孔120進入彎孔119或從彎孔119移出，這樣，橫臂109以及由橫臂所支持的部件作適當的垂直運動，板113和115繞軸112作旋轉運動。
轉動橫臂109，壓緊環(huán)102可被移到圖15所示的支承板81上面的一個位置上，接著再向下移，使銷子104向內移，通過L形狹槽105的垂直延伸部分，壓緊環(huán)102將被置于環(huán)86上。然后，借助于調節(jié)汽缸114使互相連接的板113和115旋轉，帶動壓緊環(huán)轉動，此時，壓緊環(huán)通過螺栓117與板113和115連在一起。轉到頭部上時，銷子104將位于狹槽105的水平伸長部分的封閉端，然后板113和115被轉到一個能使頭部118靠近孔120的位置上，從而使得板113和115連同銷柱117能夠向上移，而把壓緊環(huán)102留在支承板81上。
然后如圖14的虛線所示，把夾住的基片18和壓在基片上的不銹鋼連接環(huán)86轉送到含有電解液的槽125中，在所說的槽內有一箱體126，箱體的一側有開口127，支承架81連同夾在它上面的基片18對著該開口以圖14中虛線所示的方式置于其內。
在圖14中還可進一步看出，在箱體126內開口127前方有一塊可移動的板129，板上設有通道130，這一通道適用于使其基片表面鍍上金屬，由于板129很容易更換成另一塊帶有其它通道的板，因此通道的大小可以很方便地按需要調節(jié)。
此外，在槽內還有一個接收裝置131，大量的金屬球，通常是鎳球132置于該接收裝置內，采用這種結構，可以使含有鎳球132的接收裝置與被處理的基片之間的距離相對比較小，約為±35mm的量級，這對基片進行快而均勻的涂覆有好的作用。
圖14中還進一步表明，在箱體126的壁上在一個±50度的圓周角上裝有一些與開口127相通的液體的通道133，新鮮的電解液通過這些通道供給，使新鮮的電解液大體上以平行于基片18的表面的方向流動。如圖中箭頭C所指的方向。
用連續(xù)供給新鮮的電解液，能使鎳在基片表面上的析出達到滿意的效果。
顯然，沉淀在基片上的鎳和置于基片上的金屬連接環(huán)在這里起陰極作用，鎳球將構成陽極，如通常在這一類處理中那樣。
這樣，在這一工位內，在基片上涂上了一薄的涂層，如上面所說的荷蘭專利申請No8802211的圖3所示的內容。
一旦一層足夠薄的涂層已形成，支承板81將被旋轉回去，此時，支承板連同基片和涂層將用熱的去離子水清洗。然后支承板返回到圖14所示的位置，在此以后，用與上面所描述的裝壓緊環(huán)102的步驟相反的步驟移去壓緊環(huán)102。現在，基片與放在其上面的環(huán)86成一整體，然后用傳輸裝置把上面帶有涂層的基片移動并放到一根旋轉橫臂140上，這一橫臂140位于下一個工位141內。該可旋轉橫臂140的結構至少與上面所描述的臂23的結構相一致，由所說的橫臂140把基片送到裝在工位141內的一個支架142內，它可以繞一豎軸轉動，也可垂直移動。
經過這種方式處理的基片可以通過一個出入口(沒有顯示出)從裝置上取下來，使得該基片可以用常規(guī)的方法，例如用手從按上面所描述的方式在基片上所形成的稱之謂陽模上取下，看起來如上面提到的荷蘭專利申請No8802211中圖4所示。
如果需要的話，可以把所說的陽模放在工位141內的旋轉臺145上，使陽模的模壓面朝上，有一光源146固定在臂147上，該臂可繞垂直軸旋轉，然后使該光源移到該面的上面，以便沖洗掉留在已形成的陽模上的殘留漆或感光性樹脂。然后，固定在臂148(圖16、17)未端的噴射機構149旋轉到放在旋轉臺上的陽模上面，臂148可以借助于一調節(jié)汽缸150用與上面所描述的類似的方式向上向下移動，也可以借助于一水平的調節(jié)汽缸151繞一垂直轉軸旋轉。
噴霧機構149位于圖16所示的位置上，清洗液噴澆在置于旋轉臺145(圖16中沒有標出)上的陽模152上面，以便沖洗該陽模。
然后，通過噴霧裝置149可以在陽模152上噴上一層漆層，為了這一目的，臂148向下移動，使得一個接收圈153與固定在臂148上的套153′相配合，圍在其內的噴霧機構將停留在置于旋轉臺145上的杯形裝置154的園錐形的上表面上，為此，接收圈的一個底圈被設計成從其外圓周向內朝上傾斜，結果導致在接收圈153的外壁和底圈155之間形成了一個可積集任何殘留漆的空間。接收圈153通過銷子157和相應L形開孔與套153′相連，銷子157和相應的L形開孔構成一種卡口式連接，以便能很方便地拆卸，這樣，當圈內所積集的漆達到一定的數量時，可以很方便地把接收圈153拆下來進行清洗。
這樣所制成的陽?？梢詮难b置上卸下，以便貯存和/或提供給下一個操作機械。
在操作過程中，外殼1將被封閉，干凈的空氣可以通過由外殼和格柵159所限定的管道158提供給基片處理工位。
各種工位排列的順序可以與上面的描述的和附圖所示的順序不同。
然而最好是在靠近外殼1的一端設置工位52，因為裝在所說的工位內的儀器如激光裝置和光學鏡片以及感光件，是需要定期維修的。
把設備安放在裝置的一端，以便容易接近這些可能要調節(jié)的設備，這樣安排的結果是容易理解的。
此外，并不需要把各個工位排在一條直線上，例如，外殼1也可以是彎的。
雖然在上面是參考荷蘭專利申請NO8802211而作的，但很顯然，如果使用本發(fā)明的裝置，用一種不同于荷蘭專利申請NO8802211所描述的方法也能在基片18上形成一種陽模。
權利要求
1.一種用來制造一種盤狀記錄體的模盤的裝置，所說的裝置有一個在基片上涂敷一層光敏層，和一層感光性樹脂層的工位，一個使所說的光敏層按照被存貯的紀錄數據暴光的工位，一個用于沖洗光敏層并使帶有經顯影的感光性樹脂層的基底的一側鍍上金屬的工位，一個用來涂覆金屬涂層的工位，其特征是各種工位容納在一個外殼內，在各個工位內設有存放基片的裝置，在外殼內置有一臺傳輸機械，它至少帶有一個傳送器用來抓取一片基片，該傳送器能在一個水平面內互相成一角度的二個方向上移動，也能在外殼內上下移動。
2.按照權利要求1所說的裝置，其特征在于，處在進料工位的位置上，所說的裝置有一橫臂，該橫臂可繞一垂直軸旋轉，也可垂直移動，橫臂的一端裝有用來抓取一片基片的裝置。
3.按照權利要求2所說的裝置，其特征在于，在所說的用于抓取一片基片的裝置內能產生一個低于大氣壓的壓力。
4.按照上面任一個權利要求所說的一種裝置，其特征是，在涂復光敏層的工位中有一個用于存放一片基片的旋轉臺，它是可移動的，例如繞垂直軸旋轉，供給管向位于旋轉臺上的基片的朝上的表面提供沖洗液體和第一涂層材料和光敏材料，此外在所說的工位內設有一把刷子裝置，該刷子裝置可繞一垂直旋轉并垂直移動。
5.按照權利要求4所說的裝置，其特征在于在所說的旋轉臺旁邊設有一個凹槽，所說的刷子置于凹槽上面，而所說的凹槽與一排水管相接。
6.按照上面任何一個權利要求所說的一種裝置，其特征在于所說的裝置有一個使涂復上的感光性樹脂層干燥的干燥工位，所說的干燥工位包括一個存放一基片的空氣通道，和使空氣通過所說的空氣通道的裝置，以及使通過所說的空氣通道的空氣加熱的裝置。
7.按照權利要求6所說的裝置，其特征在于，為把基片導入所說的空氣通道，在空氣通道的頂壁上設有一開口，該開口可被一個能垂直移動的蓋子關閉，而蓋子可繞一垂直的轉軸旋轉。
8.按照權利要求6或7所說的裝置，其特征在于，在所說的空氣通道內，位于放在導入空氣通道內的基片的上方設有一擋板。
9.按照上面權利要求2-8中任一項權利要求所說的裝置，其特征在于，所說的干燥工位設于靠近供給基片的工位處。
10.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征在于，沖洗感光性樹脂層和使經顯影的感光性樹脂層鍍上金屬的工位內有一旋轉臺和一橫臂，該橫臂可繞著處在所說的工作臺附近的一根垂直轉軸旋轉，橫臂上支承著一些管子，用于處理所說的感光性樹脂層的液體和鍍上金屬的液體通過這些管子供給。
11.按照權利要求10所說的裝置，其特征在于，在所說的旋轉臺旁邊，設有一個凹槽，凹槽與排水管相連，支承著管子的橫臂可以被轉到凹槽的上方。
12.按照權利要求10或11所說的裝置，其特征在于，在所說的旋轉臺附近有一裝著鏡片的橫臂，該橫臂能繞一垂直轉軸旋轉，在所說的旋轉臺下面裝有激光光源，從所說的激光光源穿過基片而來的光能被鏡片所接收并被處理，以便能測定覆蓋了經顯影的感光性樹脂層的基片的質量。
13.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征是，所說的裝置設有一個向帶有一層已顯影的感光性樹脂層的基片涂覆金屬層的工位，在所說的工位內設有一個存放一片基片的支承裝置，所說的支承裝置可以繞著一水平軸在適于接收一基片的位置和一個把由所說的支承裝置所支承的基片浸入到含有電解液的容器內的位置之間轉動。
14.按照權利要求13所說的裝置，其特征在于，在所說的涂敷一涂層的工位內設有一夾緊裝置，該裝置在一根繞一豎軸旋轉的橫臂的一端，該夾緊裝置包括一些能相對于夾緊裝置的軸沿徑向往復移動的鉤爪，用來夾取要放到基片上的環(huán)狀物。
15.按照權利要求13或14所說的裝置，其特征在于，在涂敷層的工位內設有一根能繞一豎軸轉動的旋轉臂，在所說的臂的一端裝有一種使夾緊環(huán)固定到支承裝置上去的機構。
16.按照權利要求15所說的一種裝置，其特征在于，所說的壓緊環(huán)和用來接納一基片的支承裝置帶有銷子和基本上成L形的開縫，銷子和相應的L形開縫構成一種卡口式連接，使壓緊環(huán)固定到支承裝置上。
17.按照權利要求15或16所說的裝置，其特征在于，用來固定壓緊環(huán)的機構包括一個支承架，該支承架可以相對于橫臂繞一轉軸轉動，有一些銷軸固定在所說的支承架上并向支承架下面伸出，所說的銷軸的下端裝有一個壓力頭，該壓力頭被安裝在位于壓緊環(huán)內部的一些開孔內，這些開孔同軸圍住旋轉軸，在開孔的一端能使固定在銷軸底部的壓力方便地插入和拉出。
18.按照權利要求13至17中任一項所說的裝置，其特征在于，在支承裝置處于包含有電解液的容器內部的位置上時，由支承裝置所支持的基片對著設在所說的容器內的一只箱體上的一個開口，箱體內裝有生成涂層的顆粒材料，此外還設有一個提供新鮮電解液的裝置，使新鮮的電解液流經基片的對著箱體內部的那一面。
19.按照權利要求18所說的裝置，其特征在于，在箱體內裝有一塊可更換的平板，所說的平板上有一個開孔，該開孔的中心基本上與箱體上的開孔的中心相一致。
20.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征在于，所說的裝置具有一個配有能接收經過處理的基片的架子以及可以繞一豎直的轉軸轉動且能垂直移動的橫臂的工位，所說的裝置帶有提取基片的裝置，其方式為由傳輸機械放到橫臂上的基片通過所說的橫臂移放到接收架上同時，通過所說的橫臂從所說的接收架上移走。
21.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征在于所說的裝置有一個有旋轉臺的工位，所生成的模盤可以按保持涂層朝上的方式放在該旋轉臺上，該工位還進一步包括一根可繞一垂直軸轉動的臂，臂上裝有一個使摸盤暴光的光源，尤其是使留在模盤上的任何殘留感光性樹脂暴光的光源。
22.按照權利要求21所說的裝置，其特征在于，所說的工位還進一步裝有一根可繞一垂直轉軸轉動且能垂直往復移動的橫臂，該橫臂支撐噴霧裝置，一種清洗液或/和一種漆可能通過該噴霧裝置施加到該模盤的向上表面上。
23.按照權利要求22所說的裝置，其特征在于，所說的噴霧裝置被一環(huán)狀的套子所圍住，該套子的底部有一個向內朝上傾斜的底邊。
24.按照權利要求23所說的裝置，其特征在于所說的套子與橫臂相連可很容易地拆卸。
25.按照前面任一權利要求的裝置，其特征在于對所說光敏膠層進行暴光的工位處在靠近裝置的一端。
26.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征在于所說的傳輸機械有二個抓取基片的傳送器，這二個傳送器固定在一滑塊上，滑塊可在互相成一角度的二個方向上移動，而所說的每一個傳送器可以獨立于另一個傳送器作上下移動。
27.按照上面任一項權利要求所說的裝置，其特征在于，每一個工位裝在一個空間內，設有一個向所說的空間供給干凈空氣的裝置。
28.一種制造盤狀紀錄體的模盤的方法，其中在一基片上形成所說的模盤，基片通過傳輸機械在一外殼內的幾個工位之間自動移動，該外殼在正常操作期間是關閉的，這些工位如一個向所說的基片涂敷一層感光性樹脂層的工位，一個按照被貯存的紀錄數據使所說的感光性樹脂層暴光的工位，一個用于沖洗光敏層和使帶有經顯影的感光性樹脂層的基片的一面鍍上金屬的工位，和一個施加一層金屬涂層的工位。
29.按照權利要求28所說的方法，其特征是所說的基片首先在一個相適應的工位內經過沖洗和/或刷干凈，然后在所說的工位內對所說的基片涂敷一層感光性樹脂層。
30.按照權利要求28或29所說的方法，其特征在于，在涂復上感光性樹脂層后，把基片移放到使熱空氣通過所說的感光性樹脂層上面的工位內，以便干燥所說的感光性樹脂層。
31.按照權利要求30所說的方法，其特征在于，把所說的基片放在可以封閉的空氣通道內，先使熱空氣然后是冷空氣通過該通道。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制造盤狀記錄體模盤的裝置，有一個在基片上涂敷一層光敏層，如感光樹脂層的工位，一個使光敏層按被存記錄數據曝光的工位，一個沖洗光敏層并使帶顯影的感光樹脂層的基片的一面鍍上金屬的工位，和一個涂以金屬涂層的工位，各工位容納在一外殼內，在各工位內設有存放基片的裝置，裝在外殼內的傳輸機械至少有一個抓取基片的傳送器，傳送器能在水平面內沿著二個互成角度的方向移動，也能在外殼內上下移動。
文檔編號B29D17/00GK1091852SQ9312024
公開日1994年9月7日 申請日期1993年10月21日 優(yōu)先權日1992年10月21日
發(fā)明者L·J·M·貝克斯, J·P·迪尼斯, C·杰恩, M·A·C·M·吉爾斯 申請人:奧德及米有限公司