專(zhuān)利名稱(chēng)：一種集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，特別是一種用于掛燙 機(jī)等電器上易沉積雜質(zhì)的汽化裝置。屬于汽化裝置的改造技術(shù)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有巿售的用于掛燙機(jī)等電器的汽化裝置通常都配置有儲(chǔ)水的水箱和 產(chǎn)生蒸汽的加熱室，水箱和加熱室之間連接有輸水管道，水箱中的水流經(jīng) 輸水管道至加熱室再被汽化，這樣水流中的雜質(zhì)會(huì)大量沉積在整個(gè)輸水管 道上和加熱室內(nèi)，而且一般自來(lái)水被加熱到7(TC左右時(shí)會(huì)鈣化產(chǎn)生水垢，這些水垢也會(huì)沉積在輸水管道和加熱室內(nèi)，長(zhǎng)時(shí)間使用后，越積越厚的雜 質(zhì)和水裙難于清洗，造成水流動(dòng)不順暢、加熱室的感溫系統(tǒng)精確度下降， 從而影響汽化裝置的蒸汽產(chǎn)生速度，特別當(dāng)加熱室的雜質(zhì)和水垢累積達(dá)到極限厚度時(shí)，很可能導(dǎo)致產(chǎn)品過(guò)熱而燒毀；因此在實(shí)際使用中必需定期清洗汽化裝置，清洗麻煩，而且周期短、次數(shù)頻繁，易影響產(chǎn)品的使用壽命。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于考慮上述問(wèn)題而提供一種能將雜質(zhì)、水垢集中 沉積在低于水流高度的固定地方的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置。本實(shí)用新型 既保證輸水管道中水流動(dòng)的順暢、加熱室感溫系統(tǒng)的精確度，又可以對(duì)集 中儲(chǔ)存雜質(zhì)的地方進(jìn)行單獨(dú)清洗，操作方便、清洗周期長(zhǎng)。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是包括有水箱、加熱室及連接在水箱的出水口與加熱室的進(jìn)水口之間的水流通道，其中水箱的底部或加熱室的底部或 水流通道上設(shè)有雜質(zhì)收集裝置。上述水箱的出水口和/或加熱室的進(jìn)水口設(shè)置在其下部的側(cè)壁上，雜 質(zhì)收集裝置為直接做出在水箱和/或加熱室底部的凹槽。上述水箱和/或加熱室底部的凹槽為開(kāi)口通孔，通孔處可拆卸的裝配 有密封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋連接。上述水箱的出水口設(shè)置在其底部，加熱室的進(jìn)水口設(shè)置在加熱室下部 的惻壁上，水流通道包括二通管，二通管的豎直通管與水箱出水口密封連 接，水平通管直接或通過(guò)管道或通過(guò)管接頭與加熱室的進(jìn)水口密封連接， 雜質(zhì)收集裝置為做出在豎直通管底端的凹槽，且凹槽低于水平通管的底端 面。上述加熱室的進(jìn)水口設(shè)置在其底部，水箱的出水口設(shè)置在加熱室下部 的側(cè)壁上，水流通道包括第二二通管，第二二通管的第二豎直通管與加熱 室的進(jìn)水口密封連接，第二水平通管直接或通過(guò)管道或通過(guò)管接頭與水箱 的出水口密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出在第二豎直通管底端的第二凹槽， 且第二凹槽低于第二水平通管的底端面。上述水箱的出水口及加熱室的進(jìn)水口分別設(shè)置在各自的底部，水流通道包括二通管及第二二通管，二通管的豎直通管與水箱的出水口密封連接， 第二二通管的第二豎直通管與加熱室的進(jìn)水口密封連接，二通管的水平通管直接或通過(guò)管道與第二二通管的第二水平通管密封連接，雜質(zhì)收集裝置 為做出在豎直通管底端的凹槽和/或做出在第二二通管的第二豎直通管底 端的第二凹槽，且凹槽低于水平通管的底端面。上述水箱的出水口及加熱室的進(jìn)水口分別設(shè)置在各自的底部，水流通 道包括二通管及第二二通管，二通管的豎直通管與水箱的出水口密封連接，第二二通管的第二豎直通管與加熱室的進(jìn)水口密封連接，二通管的水平通管直接或通過(guò)管道與第二二通管的第二水平通管密封連接，雜質(zhì)收集裝置 為做出在水平通管上的凹槽和/或做出在第二二通管的第二水平通管上的 第二凹槽。上述二通管的豎直通管底端的凹槽的底部為開(kāi)口通孔，通孔處可拆卸 的裝配有密封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋連接。上述凹槽外壁上設(shè)有外螺紋，封閉底蓋的內(nèi)壁上設(shè)有相配合的內(nèi)螺紋, 封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋連接，反之亦然。上述第二二通管的第二豎直通管底端的第二凹槽的底部為開(kāi)口通孔，通孔處分別可拆卸的裝配有密封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋 連接。本實(shí)用新型利用凹槽對(duì)水流的緩沖作用和雜質(zhì)、水垢的密度大于水的 原理，使流經(jīng)輸水管道的水流中的雜質(zhì)和水祐集中儲(chǔ)存在凹槽中，本實(shí)用 新型既保證輸水管道中水流動(dòng)的順暢、加熱室感溫系統(tǒng)的精確度，又可以 對(duì)集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的地方進(jìn)行單獨(dú)清洗，搡作方便、清洗周期長(zhǎng)。本實(shí)用新 型避免雜質(zhì)和水垢堵塞輸水管道和加熱室，清洗方便，是一種設(shè)計(jì)合理、 結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，方便實(shí)用的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置。


圖l為本實(shí)用新型實(shí)施例l的縱向結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中二通管的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖1中第二二通管的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖2中二通管的變型結(jié)構(gòu)分解圖。上述圖中，A-水流通道；l-二通管；ll-水平通管；12-豎直通管；13-凹槽；2-第二二通管；21-第二水平通管；22-第二豎直通管；23-第二凹槽； 3-水箱；4-加熱室；131-密封圈；132-封閉底蓋具體實(shí)施方式
實(shí)施例1:本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖如圖l所示，包括有水箱3、加熱室4及連 接在水箱3的出水口 31與加熱室4的進(jìn)水口 41之間的水流通道A，其中 水箱3的底部或加熱室4的底部或水流通道A上設(shè)有雜質(zhì)收集裝置。本實(shí) 施例中，上述水箱3的出水口 31及加熱室4的進(jìn)水口 41分別設(shè)置在各自 的底部，水流通道A包括二通管l及第二二通管2， 二通管1的豎直通管 12與水箱3的出水口 31密封連接，第二二通管2的第二豎直通管22與加 熱室4的進(jìn)水口 41密封連接，二通管1的水平通管11直接或通過(guò)管道與 第二二通管2的第二水平通管21密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出在豎直通 管12底端的凹槽13,且凹槽低于水平通管的底端面，如圖2所示。在工 作過(guò)程中，水流流經(jīng)凹槽13處，雜質(zhì)和水垢由于密度較大，受阻沉積在凹 槽13中，其中凹槽13可為U形凹槽、u形凹槽或v形凹槽。上述豎直通管12底端的凹槽13的底部為開(kāi)口通孔，通孔處可拆卸的 裝配有密封圈131和封閉底蓋132，封閉底蓋132與凹槽13通過(guò)螺紋連接。 本實(shí)施例中，凹槽13外壁上設(shè)有外螺紋，封閉底蓋132的內(nèi)壁上設(shè)有相配 合的內(nèi)螺紋，封閉底蓋132與凹槽13通過(guò)螺紋連接，如圖4所示，反之亦 然。正常使用時(shí)將密封圈131和封閉底蓋132裝配到凹槽通孔上，封閉凹 槽，水流中的雜質(zhì)和水垢沉積在凹槽中；清潔雜質(zhì)水垢時(shí)將封閉底蓋132 從凹槽通孔上拆卸下來(lái)，打開(kāi)凹槽，沉積的雜質(zhì)水垢通過(guò)凹槽通孔排出， 達(dá)到清潔的目的。實(shí)施例2:為增加雜質(zhì)儲(chǔ)存空間，加長(zhǎng)雜質(zhì)清理周期，第二二通管2的第二豎直通管22底端也設(shè)有凹槽23,凹槽23低于水平通管21的底端面，如圖3所示。同理，為便于清潔，上述第二二通管2的第二豎直通管22底端的凹槽23 的底部也為開(kāi)口通孔，通孔處分別可拆卸的裝配有密封圈和封閉底蓋，封 閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋連接。 實(shí)施例3:作為本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)變型，包括有水箱3、加熱室4及連接在水 箱3的出水口31與加熱室4的進(jìn)水口41之間的水流通道A,上述水箱3的出水 口31和/或加熱室4的進(jìn)水口41也可設(shè)置在其下部的側(cè)壁上，雜質(zhì)收集裝置 為直接做出在水箱3和/或加熱室4底部的凹槽，該凹槽也可以達(dá)到相同的集 中儲(chǔ)存雜質(zhì)和水垢的目的。同理，為便于清潔，上述水箱3和/或加熱室4底部的凹槽為開(kāi)口通 孔，通孔處可拆卸的裝配有密封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋 連接。實(shí)施例4:作為本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)變型，包括有水箱3、加熱室4及連接在水 箱3的出水口31與加熱室4的進(jìn)水口41之間的水流通道A，上述水箱3的出水 口31設(shè)置在其底部，加熱室4的進(jìn)水口41設(shè)置在加熱室4下部的側(cè)壁上，水 流通道A包括二通管l, 二通管1的豎直通管12與水箱出水口31密封連接，水 平通管11直接或通過(guò)管道或通過(guò)管接頭與加熱室4的進(jìn)水口41密封連接，雜 質(zhì)收集裝置為做出在豎直通管12底端的凹槽13，且凹槽13低于水平通管11 的底端面，同樣，也可以達(dá)到相同的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)和水垢的目的。 實(shí)施例5:作為本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)變型，包括有水箱3、加熱室4及連接在水箱3的出水口 31與加熱室4的進(jìn)水口 41之間的水流通道A,上述加熱 室4的進(jìn)水口 41設(shè)置在其底部，水箱3的出水口 31設(shè)置在加熱室4下部 的側(cè)壁上，水流通道A包括第二二通管2，第二二通管2的第二豎直通管 22與加熱室4的進(jìn)水口 41密封連接，第二水平通管21直接或通過(guò)管道或 通過(guò)管接頭與水箱3的出水口 31密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出在第二豎 直通管22底端的第二凹槽23,且第二凹槽23低于第二水平通管21的底 端面，同理，該結(jié)構(gòu)也可以達(dá)到相同的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)和水垢的目的。 實(shí)施例6:作為本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)變型，包括有水箱3、加熱室4及連接在 水箱3的出水口 31與加熱室4的進(jìn)水口 41之間的水流通道A,上述水箱3 的出水口 31及加熱室4的進(jìn)水口 41分別設(shè)置在各自的底部，水流通道A 包括二通管l及第二二通管2, 二通管1的豎直通管12與水箱3的出水口 31密封連接，第二二通管2的第二豎直通管22與加熱室4的進(jìn)水口 41密 封連接，二通管1的水平通管11直接或通過(guò)管道與第二二通管2的第二水 平通管21密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出在水平通管11上的凹槽和/或做 出在第二二通管2的第二水平通管21上的凹槽，同理，該結(jié)構(gòu)也可以達(dá)到 相同的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)和水垢的目的。
權(quán)利要求1. 一種集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，包括有水箱(3)、加熱室(4)及連接在水箱(3)的出水口(31)與加熱室(4)的進(jìn)水口(41)之間的水流通道(A)，其特征在于水箱(3)的底部或加熱室(4)的底部或水流通道(A)上設(shè)有雜質(zhì)收集裝置。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述水 箱(3)的出水口 (31)和/或加熱室(4)的進(jìn)水口 (")設(shè)置在其下部的側(cè) 壁上，雜質(zhì)收集裝置為直接做出在水箱(3)和/或加熱室(4)底部的凹槽。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述水 箱(3)和/或加熱室(4)底部的凹槽為開(kāi)口通孔，通孔處可拆卸的裝配有密 封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與凹槽通過(guò)螺紋連接。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述水 箱(3)的出水口 (31)設(shè)置在其底部，加熱室U)的進(jìn)水口 (")設(shè)置在加 熱室(4)下部的側(cè)壁上，水流通道(A)包括二通管(1), 二通管(1)的豎 直通管(12)與水箱出水口 (31)密封連接，水平通管(11)直接或通過(guò)管道 或通過(guò)管接頭與加熱室(4)的進(jìn)水口 (41)密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出 在豎直通管(12)底端的凹槽(13)，且凹槽(n)低于水平通管(11)的底 端面。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述加 熱室(4)的進(jìn)水口 (41)設(shè)置在其底部，水箱(3)的出水口 (31)設(shè)置在加 熱室(4)下部的側(cè)壁上，水流通道U)包括第二二通管(2),第二二通管(2) 的第二豎直通管(22)與加熱室(4)的進(jìn)水口 (41)密封連接，第二水平通 管(21)直接或通過(guò)管道或通過(guò)管接頭與水箱(3)的出水口 (31)密封連接，雜質(zhì)收集裝置為做出在第二豎直通管(22)底端的凹槽(23),且凹槽(23) 低于第二水平通管(21)的底端面。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述水 箱(3)的出水口 (31)及加熱室(4)的進(jìn)水口 (")分別設(shè)置在各自的底部， 水流通道(A)包括二通管(1)及第二二通管(2), 二通管(1)的豎直通管(12)與水箱(3)的出水口 (31)密封連接，第二二通管(2)的第二豎直通 管(22)與加熱室(4)的進(jìn)水口 (41)密封連接，二通管(1)的水平通管(11) 直接或通過(guò)管道與第二二通管(2)的第二水平通管(21)密封連接，雜質(zhì)收 集裝置為做出在豎直通管U2)底端的凹槽(13)和/或做出在第二二通管(2) 的第二豎直通管(22)底端的第二凹槽(23),且凹槽低于水平通管的底端面。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述水 箱(3)的出水口 (31)及加熱室(4)的進(jìn)水口 (")分別設(shè)置在各自的底部， 水流通道(A)包括二通管(1)及第二二通管(2)， 二通管(1)的豎直通管(12) 與水箱(3)的出水口 (31)密封連接，第二二通管(2)的第二豎直通 管(22 )與加熱室(4 )的進(jìn)水口 ( 41 )密封連接，二通管(1)的水平通管(11 ) 直接或通過(guò)管道與第二二通管(2)的第二水平通管(21)密封連接，雜質(zhì)收 集裝置為做出在水平通管(11)上的凹槽和/或做出在第二二通管(2)的第二 水平通管(21)上的第二凹槽。
8、 根據(jù)權(quán)利要求4或6所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述二通管(1)的豎直通管(12)底端的凹槽(13)的底部為開(kāi)口通孔，通孔處可 拆卸的裝配有密封圈(131)和封閉底蓋(132)，封閉底蓋(132)與凹槽(13)通過(guò)螺紋連接。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述凹槽(13) 外壁上設(shè)有外螺紋，封閉底蓋(132)的內(nèi)壁上設(shè)有相配合的內(nèi)螺紋，封閉底蓋(132)與凹槽(13)通過(guò)螺紋連接，反之亦然。
10、根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置，其特征在于上述 第二二通管(2)的第二豎直通管(22)底端的第二凹槽(")的底部為開(kāi)口 通孔，通孔處分別可拆卸的裝配有密封圈和封閉底蓋，封閉底蓋與第二凹槽通 過(guò)螺紋連接。 .
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的汽化裝置。包括有水箱(3)、加熱室(4)及連接在水箱(3)的出水口(31)與加熱室(4)的進(jìn)水口(41)之間的水流通道(A)，其中水箱(3)的底部或加熱室(4)的底部或水流通道(A)上設(shè)有雜質(zhì)收集裝置。該雜質(zhì)收集裝置可為設(shè)置在水箱(3)的底部或加熱室(4)的底部或水流通道(A)上的凹槽。本實(shí)用新型利用凹槽對(duì)水流的緩沖作用和雜質(zhì)、水垢的密度大于水的原理，使流經(jīng)輸水管道的水流中的雜質(zhì)和水垢集中儲(chǔ)存在凹槽中，既保證輸水管道中水流動(dòng)的順暢、加熱室感溫系統(tǒng)的精確度，又可以對(duì)集中儲(chǔ)存雜質(zhì)的地方進(jìn)行單獨(dú)清洗，操作方便、清洗周期長(zhǎng)，避免雜質(zhì)和水垢堵塞輸水管道和加熱室，清洗方便，設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，方便實(shí)用。
文檔編號(hào)F22B37/48GK201093474SQ200720054499
公開(kāi)日2008年7月30日 申請(qǐng)日期2007年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月24日
發(fā)明者朱廣清, 陸康松, 魯永柱 申請(qǐng)人:美的集團(tuán)有限公司