專利名稱：具有廢氣處理系統(tǒng)的高溫裂解清潔爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種加熱爐的制造技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
機(jī)電行業(yè)生產(chǎn)制造過程中的電機(jī)回收與維修行業(yè)中電機(jī)線圈上清漆及樹脂的清 理、噴涂掛具上的脫粉脫漆、噴涂的瑕疵產(chǎn)品的返修等，以往的處理方法一般是化學(xué)處理或 焚燒，工件易變形或污染環(huán)境，甚至于損傷工件，并且成本相比也較高。因為環(huán)保需要，歐美 國家在70年代末就已大量應(yīng)用，在國內(nèi)近幾年也在借鑒國外的做法基礎(chǔ)上，也有相應(yīng)的設(shè) 備研發(fā)出來，并用于相關(guān)行業(yè)中，在國內(nèi)一般稱之為剝漆爐、碳化爐、燒除爐等，其原理是在 不損傷金屬元件的情況下讓其表面的有機(jī)物在高溫(一般不超過450°C)、缺氧環(huán)境中裂解， 裂解產(chǎn)生的廢氣在900°C以上高溫環(huán)境中徹底氧化焚燒，從而做到無污染排放。目前市場產(chǎn)品結(jié)構(gòu)形式各異，控制方式也不盡相同，經(jīng)比較大致有以下一些不 足1、結(jié)構(gòu)不太合理，爐內(nèi)溫度不均勻，能耗大。2、控制方式相對落后，部分或全部采用簡單的邏輯控制，測控手段落后，對每爐的 處理量的大小采用定時器控制，不是過燒就是燒不盡，并且操作很不直觀。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型提供一種具有廢氣處理系統(tǒng)的高溫裂解清潔爐，目的在于解決現(xiàn)有的 高溫裂解清潔爐內(nèi)有機(jī)涂料燃燒不完全，排出的廢氣，對環(huán)境造成污染。本實用新型包括爐體，在所述爐體內(nèi)部的下底面上固定連接燃燒室，在所述爐體 一側(cè)的下部設(shè)置加熱燃燒機(jī)，所述加熱燃燒機(jī)與燃燒室對應(yīng)布置，在所述爐體的上頂端設(shè) 置排氣管，在所述排氣管與爐體之間設(shè)置廢氣燃燒室，在所述廢氣燃燒室的一側(cè)設(shè)置燃燒 機(jī)。本實用新型爐體內(nèi)的高溫使得工件上的有機(jī)涂料裂解生成水和二氧化碳，部分未 完全燃燒的有機(jī)氣體流動到排氣口排除時，再次經(jīng)過廢氣燃燒室進(jìn)行二次燃燒，這樣保證 了排出的氣體完全無污染。

圖1為本實用新型的一種結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實用新型的廢氣燃燒室的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為圖2的左視圖。圖中，1、爐體，2、燃燒室，3、加熱燃燒機(jī)，4、排氣管，5、廢氣燃燒室，6、燃燒機(jī)。
具體實施方式
如圖1、2、3所示，本高溫裂解清潔爐，包括爐體1，在爐體1內(nèi)部的下底面上固定連
3接燃燒室2，在爐體1 一側(cè)的下部設(shè)置加熱燃燒機(jī)3，加熱燃燒機(jī)3與燃燒室2對應(yīng)布置，在 爐體1的上頂端設(shè)置排氣管4，在排氣管4與爐體1之間設(shè)置廢氣燃燒室5，在廢氣燃燒室 5的一側(cè)設(shè)置燃燒機(jī)6。
權(quán)利要求1.具有廢氣處理系統(tǒng)的高溫裂解清潔爐，包括爐體，在所述爐體內(nèi)部的下底面上固定 連接燃燒室，在所述爐體一側(cè)的下部設(shè)置加熱燃燒機(jī)，所述加熱燃燒機(jī)與燃燒室對應(yīng)布置， 在所述爐體的上頂端設(shè)置排氣管，其特征在于在所述排氣管與爐體之間設(shè)置廢氣燃燒室， 在所述廢氣燃燒室的一側(cè)設(shè)置燃燒機(jī)。
專利摘要具有廢氣處理系統(tǒng)的高溫裂解清潔爐，涉及一種加熱爐的制造技術(shù)領(lǐng)域。包括爐體，在爐體內(nèi)部的下底面上固定連接燃燒室，在爐體一側(cè)的下部設(shè)置加熱燃燒機(jī)，加熱燃燒機(jī)與燃燒室對應(yīng)布置，在爐體的上頂端設(shè)置排氣管，在排氣管與爐體之間設(shè)置廢氣燃燒室，在廢氣燃燒室的一側(cè)設(shè)置燃燒機(jī)。上述設(shè)置使部分未完全燃燒的有機(jī)氣體流動到排氣口排除時，再次經(jīng)過廢氣燃燒室進(jìn)行二次燃燒，這樣保證了排出的氣體完全無污染。
文檔編號F23G7/00GK201892217SQ20102062788
公開日2011年7月6日 申請日期2010年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月29日
發(fā)明者潘立峰 申請人:潘立峰