一種用于空塔的稀酸噴淋裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于空塔的稀酸噴淋裝置，它包括空塔的筒體，筒體頂部設(shè)置有出氣管，筒體的底部設(shè)置有排水口，筒體底部的側(cè)壁上設(shè)置有進氣口，筒體的頂部端蓋上設(shè)置有上噴淋管，上噴淋管的一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，上噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有上噴頭；出氣管上設(shè)置有下噴淋管，下噴淋管的一端從出氣管內(nèi)伸出，下噴淋管的另一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，下噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有下噴頭，下噴頭位于上噴頭的下方，且上噴頭與下噴頭之間設(shè)置有間距。本實用新型能夠降低二氧化硫爐氣的溫度，除去二氧化硫爐氣中夾帶的雜質(zhì)，穩(wěn)定并優(yōu)化了制酸時的干吸工藝條件，保證了制造的硫酸的濃度。
【專利說明】一種用于空塔的稀酸噴淋裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于硫酸制造【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種用于空塔的稀酸噴淋裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在金的精煉生產(chǎn)中會配套利用高溫二氧化硫爐氣制酸，高溫二氧化硫爐氣從凈化工段電除塵器出來后夾帶有氣態(tài)、固態(tài)、液態(tài)雜質(zhì)，且二氧化硫爐氣的溫度較高不利于制酸。高溫二氧化硫爐氣需要經(jīng)空塔、洗滌塔、干燥塔等一系列的降溫除雜后，再進行制酸。而實際生產(chǎn)中高溫二氧化硫爐氣在經(jīng)過一系列工藝處理后，其溫度和純度仍然無法達到標準，致使生成的硫酸濃度無法保證。這就迫切需要一種稀酸噴淋裝置，能夠在空塔裝置內(nèi)對高溫二氧化硫爐氣進行初步降溫和除雜質(zhì)，使高溫二氧化硫爐氣的溫度和雜質(zhì)降低到一定程度，之后的二氧化硫爐氣再經(jīng)過一系列工藝處理后，就能到達標準的制酸溫度和純度。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，提供一種用于空塔的稀酸噴淋裝置，能夠降低二氧化硫爐氣的溫度，除去二氧化硫爐氣中夾帶的雜質(zhì)，保證了制造的硫酸的濃度。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用如下技術(shù)方案:一種用于空塔的稀酸噴淋裝置，它包括空塔的筒體，筒體頂部設(shè)置有出氣管，筒體的底部設(shè)置有排水口，筒體底部的側(cè)壁上設(shè)置有進氣口，所述筒體的頂部端蓋上設(shè)置有上噴淋管，上噴淋管的一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，上噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有上噴頭；所述的出氣管上設(shè)置有下噴淋管，下噴淋管的一端從出氣管內(nèi)伸出，下噴淋管的另一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，下噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有下噴頭，下噴頭位于上噴頭的下方，且上噴頭與下噴頭之間設(shè)置有間距。
[0005]所述的出氣管為彎曲形管道，所述下噴淋管設(shè)置在出氣管的管道彎曲處。
[0006]所述的下噴頭的數(shù)量為6個，所述6個下噴頭環(huán)形設(shè)置在同一水平面。
[0007]所述的上噴頭的數(shù)量為12個，所述12個上噴頭環(huán)形設(shè)置在筒體內(nèi)腔的頂部。
[0008]所述的上噴頭包括環(huán)形設(shè)置在內(nèi)圈的6個上噴頭和環(huán)形設(shè)置在外圈的6個上噴頭。
[0009]本實用新型的有益效果是:本實用新型中上噴管和下噴管內(nèi)通入稀酸，高溫二氧化硫爐氣經(jīng)進氣口進入后，先經(jīng)下噴頭的稀酸噴淋，然后再經(jīng)上噴頭的稀酸噴淋，使上噴頭和下噴頭的配合使空塔內(nèi)形成雙層噴淋，能夠更好的將高溫二氧化硫爐氣的溫度降低，使爐氣中的雜質(zhì)清除；經(jīng)過空塔后的二氧化硫爐氣的溫度和雜質(zhì)就能降低到一定程度，之后的二氧化硫爐氣的一系列工藝處理做準備，保證了二氧化硫爐氣在制酸時的溫度和純度，提局了制造的硫酸的純度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)主視圖；[0011]圖2是本實用新型中上噴頭和下噴頭在空塔上的分布示意圖。
【具體實施方式】
[0012]如圖1所示，本實用新型包括空塔的筒體2，筒體2頂部設(shè)置有出氣管5，出氣管5為彎曲形管道，筒體2的底部設(shè)置有排水口 9，筒體2底部的側(cè)壁上設(shè)置有進氣口 1，筒體2的頂部端蓋4上設(shè)置有上噴淋管3，上噴淋管3的一端插入到空塔的筒體2內(nèi)腔，上噴淋管3位于筒體2內(nèi)腔的一端上安裝有上噴頭6 ;出氣管5的管道彎曲處設(shè)置有下噴淋管7，下噴淋管7的一端從出氣管5內(nèi)伸出，下噴淋管7的另一端插入到空塔的筒體2內(nèi)腔，下噴淋管7位于筒體2內(nèi)腔的一端上安裝有下噴頭8，下噴頭8位于上噴頭6的下方，且上噴頭6與下噴頭8之間設(shè)置有間距。
[0013]如圖2所示，下噴頭8的數(shù)量為6個，所述6個下噴頭8環(huán)形設(shè)置在同一水平面，下噴頭8組成一個環(huán)形的下圈11 ;上噴頭6的數(shù)量為12個，12個上噴頭環(huán)形設(shè)置在筒體2內(nèi)腔的頂部，12個上噴頭包括環(huán)形設(shè)置在內(nèi)圈10的6個上噴頭和環(huán)形設(shè)置在外圈12的6個上噴頭，下噴頭8組成的環(huán)形的下圈11在頂部端蓋4上的投影位于內(nèi)圈10和外圈12之間，該設(shè)計能夠保證噴淋的面積大且均勻，能夠更好的降低二氧化硫爐氣的溫度，除去二氧化硫爐氣中夾帶的雜質(zhì)。
[0014]本實用新型工作前，先在上噴管3和下噴管7內(nèi)通入稀酸，打開上噴頭6和下噴頭8，使噴頭噴出酸霧；然后從進氣口 I通入高溫二氧化硫爐氣，高溫二氧化硫爐氣經(jīng)進氣口 I進入后，先經(jīng)下噴頭8的稀酸噴淋，然后再經(jīng)上噴頭6的稀酸噴淋，經(jīng)過上噴頭6和下噴頭8的配合形成的雙層噴淋，高溫二氧化硫爐氣中的溫度降低，爐氣中的雜質(zhì)清除；經(jīng)過空塔處理后的二氧化硫爐氣的溫度和雜質(zhì)就能降低到一定程度，為之后的二氧化硫爐氣的一系列工藝處理做準備，保證了二氧化硫爐氣在制酸時的溫度和純度，提高了制造的硫酸的純度。
[0015]本實用新型使用時，空塔出氣管處的二氧化硫爐氣溫度由之前的78.5攝氏度降到76攝氏度以下；二氧化硫爐氣再經(jīng)過洗滌塔、干燥塔等一系列的降溫除雜工藝處理后，溫度相比傳統(tǒng)處理方法時從36攝氏度降到35攝氏度以下，穩(wěn)定并優(yōu)化了制酸時的干吸工藝條件。
【權(quán)利要求】
1.一種用于空塔的稀酸噴淋裝置，它包括空塔的筒體，筒體頂部設(shè)置有出氣管，筒體的底部設(shè)置有排水口，筒體底部的側(cè)壁上設(shè)置有進氣口，其特征在于:所述筒體的頂部端蓋上設(shè)置有上噴淋管，上噴淋管的一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，上噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有上噴頭；所述的出氣管上設(shè)置有下噴淋管，下噴淋管的一端從出氣管內(nèi)伸出，下噴淋管的另一端插入到空塔的筒體內(nèi)腔，下噴淋管位于筒體內(nèi)腔的一端上安裝有下噴頭，下噴頭位于上噴頭的下方，且上噴頭與下噴頭之間設(shè)置有間距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于空塔的稀酸噴淋裝置，其特征在于:所述的出氣管為彎曲形管道，所述下噴淋管設(shè)置在出氣管的管道彎曲處。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于空塔的稀酸噴淋裝置，其特征在于:所述的下噴頭的數(shù)量為6個，所述6個下噴頭環(huán)形設(shè)置在同一水平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于空塔的稀酸噴淋裝置，其特征在于:所述的上噴頭的數(shù)量為12個，所述12個上噴頭環(huán)形設(shè)置在筒體內(nèi)腔的頂部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于空塔的稀酸噴淋裝置，其特征在于:所述的上噴頭包括環(huán)形設(shè)置在內(nèi)圈的6個上噴頭和環(huán)形設(shè)置在外圈的6個上噴頭。
【文檔編號】F28C1/02GK203598640SQ201320819836
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年12月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月14日
【發(fā)明者】趙寶義, 馬建富 申請人:靈寶金源礦業(yè)股份有限公司