專利名稱：輻射罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本文主要涉及工件的快速熱處理(RTP)領(lǐng)域，尤其涉及一種包括多個段的輻射罩，用于向工件施加受控的熱量。本文討論無陰影的遮蔽體(shadow-free shutter)裝置和方法。
背景技術(shù)：
在制造包括但并不限于此的設(shè)備時，如半導(dǎo)體、光電子設(shè)備、平板顯示器以及MEMS(微型機(jī)電系統(tǒng))，至少一些工序可能需要施加受控的熱量。例如，在半導(dǎo)體中，某些工序需要向晶片或其它類似的工件上施加熱量，以完成退火。特別是，離子注入被經(jīng)常用于在晶片的選定區(qū)域引入攙雜劑。隨后實(shí)施RTP退火，這是因為離子注入工序破壞了晶片選定區(qū)域上暴露的晶格結(jié)構(gòu)，將注入的摻雜劑原子留在了電鈍化的間隙位置。退火用于將摻雜劑原子移入晶格的取代位置，以使它們電活化，從而修復(fù)在離子注入過程中發(fā)生的晶格結(jié)構(gòu)的損壞。
不幸地，在缺乏精確控制的情況下，對半導(dǎo)體晶片的設(shè)備一側(cè)的退火會引起不希望的影響。高溫下，摻雜劑原子可以以很高的速率擴(kuò)散到晶片內(nèi)，大多數(shù)的擴(kuò)散發(fā)生在退火峰值溫度，也就是需要用來激活摻雜劑的溫度。由于對半導(dǎo)體晶片性能增強(qiáng)的需求以及逐漸減小設(shè)備尺寸，需要制造越來越淺和快速形成的連接。為了實(shí)現(xiàn)這些需求并不斷的減小設(shè)備的尺寸，需要按照下述方式盡可能精確的控制晶片的退火熱量輪廓線，即，在使晶片承受激活摻雜劑的同時限制摻雜劑擴(kuò)散的溫度條件。
一個用于實(shí)現(xiàn)單晶片的快速退火處理的公知的結(jié)構(gòu)，利用產(chǎn)生輻射的加熱元件，所述輻射由工件直接承受。這種方法的一種可能的實(shí)施方式如美國專利第6,054,684號，Pas等(后文中稱為Pas)出版，中的圖3a所示，該圖被本申請的圖1所重復(fù)，在圖1中使用了另外的附圖標(biāo)記。一個熱處理裝置，利用附圖標(biāo)記10大致示出，包括晶片固定器(wafer holder)12和加熱器14。后者可以由電阻性的加熱元件或燈組成。遮蔽體(shutter)系統(tǒng)16定位于加熱器14和可支撐的位于晶片固定器12上的晶片(未示出)之間。提供的遮蔽體16用于選擇性地阻擋從加熱器14發(fā)出的能量，使其不能到達(dá)晶片。
如Pas所承認(rèn)的，所描述的結(jié)構(gòu)具有問題，由于遮蔽體系統(tǒng)位于晶片和加熱元件之間的中間位置，所以當(dāng)遮蔽體位于打開位置會在晶片上產(chǎn)生陰影。這些陰影所導(dǎo)致的結(jié)果是晶片表面的不均勻加熱。
雖然Pas試圖通過提出在遮蔽體上使用反射性涂層來減小陰影問題，但是在考慮到本發(fā)明的教導(dǎo)后其整體結(jié)構(gòu)仍然被認(rèn)為不能接受。特別地，這些陰影將影響陰影設(shè)備區(qū)域，由于該區(qū)域只暴露在加熱器14發(fā)出的非直接輻射下，從而會不完全退火。如果為了完全地對陰影區(qū)域進(jìn)行熱處理而增加暴露時間，會導(dǎo)致直接暴露于加熱器下的晶片區(qū)域的摻雜劑擴(kuò)散過度的問題。
由Pan出版，美國專利第6,259,062號的圖3，被本文中的圖2所重復(fù)，圖2中也使用了另外的附圖標(biāo)記，包括一個與Pas的裝置十分相似的裝置。Pan描述了一個系統(tǒng)，利用附圖標(biāo)記30大致示出，其中晶片32支撐在位于處理腔34中的基座33上，使得晶片能夠暴露在多個加熱源36比如輻射熱燈之下，這些熱源被排列在晶片的上方和下方。作為現(xiàn)有技術(shù)中的通用的慣例，反射性表面38被定位在熱燈的外面。然而，優(yōu)于使用Pas式遮蔽體，兩個輻射吸收材料件40在雙箭頭42所示的方向上可直線移動，使得材料40能夠滑動地位于燈36和晶片32(晶片的上下兩面)之間，或者側(cè)面地移出直接位于燈36和晶片32之間的區(qū)域(參見Pan的圖1和2)。然而，了解下述問題十分重要，即，為了達(dá)到提高系統(tǒng)生產(chǎn)能力的目的，Pan的專利涉及于在晶片32的后處理冷卻中使用熱吸收媒介40。這樣，該專利顯得僅僅適應(yīng)于處理完成后的晶片的冷卻。在其結(jié)束時，媒介40滑入晶片和反射表面38之間的位置，同時包括晶片的上方和下方，在處理完成后，為了更加快速的冷卻晶片以將其移走，媒介吸收由晶片發(fā)出輻射熱44。系統(tǒng)的產(chǎn)量可以提高，例如，因為熱敏機(jī)器人手臂能夠更快地將冷卻的晶片拾取。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)注意，因為沒有圖示從熱源36發(fā)出的熱量，圖2清楚地表示了后處理條件。
由于Pan式設(shè)備不存在Pas式遮蔽體設(shè)備的陰影問題，但是如果試圖將這種結(jié)構(gòu)應(yīng)用于Pas之中，或者一般地作為快速熱處理的一部分，就會引入另一個重要的問題，下文中將馬上進(jìn)行討論。
仍然參照圖2，熱量輪廓線的實(shí)施受到控制，至少是部分地，由于特殊的原因媒介40的使用將會導(dǎo)致問題。特別地，本文認(rèn)為，如下文中將要進(jìn)一步描述的，將媒介40直線移動到燈36和晶片40之間中間位置的動作，會逐步的阻擋直接輻射。如果進(jìn)行真實(shí)的處理，對于發(fā)射輻射的燈來說，晶片將高度不均勻的暴露在輻射中，導(dǎo)致的不可預(yù)言的和不可接受的結(jié)果超出了本發(fā)明預(yù)期RTP的程度。然而，此外，應(yīng)當(dāng)注意，Pan顯得能夠僅僅適應(yīng)于其規(guī)定的后處理目的。
本發(fā)明提供了非常有益的設(shè)備和方法，其解決了前文所述的困難和問題，并且還提供了其它的優(yōu)點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
在一個通過向工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，描述了一種設(shè)備和一種方法。按照本發(fā)明的一個方面，具有加熱平面的加熱裝置，用于與工件保持相對關(guān)系，以使工件承受由加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射。分段的輻射罩包括多個段，所述多個段被支撐在(i)縮回或打開位置和(ii)展開位置之間移動，在所述縮回或打開位置所述直接輻射被允許到達(dá)工件上，在展開或關(guān)閉位置所述多個段以至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)工件上的方式相配合。移動部件將多個段在縮回位置和展開位置間移動。在一個特例中，該移動部件是一種提供對段在縮回位置和展開位置之間的移動的加速度和減速度進(jìn)行控制的部件。
按照本發(fā)明的另一方面，多個伸長的加熱元件被設(shè)置為與工件處于相對的關(guān)系，用于使工件受到加熱元件所產(chǎn)生的輻射。支撐裝置具有至少一個表面，用于支撐多個伸長的加熱元件，所述加熱元件相互鄰近并處于并排關(guān)系。由支撐裝置鉸鏈地支撐的多個伸長的遮蔽體件至少大致地與伸長的加熱元件對齊，并且可以在縮回位置(在所述縮回位置遮蔽體件允許輻射從加熱元件發(fā)出直接撞擊在工件上)和展開位置之間移動，使得遮蔽體件由縮回位置開始從所述表面向外移動，夾在加熱元件和工件之間，在所述展開位置，以一種防止至少部分輻射直接到達(dá)工件上的方式設(shè)置。移動部件將伸長的遮蔽體件在縮回位置和展開位置之間移動。
按照本發(fā)明的另一個方面，所提供的加熱裝置用于與工件保持相對的關(guān)系，使得工件承受由加熱裝置發(fā)出的直接輻射。輻射罩被支撐，以在(i)縮回位置和(ii)展開位置之間樞轉(zhuǎn)地移動，所述縮回位置至少部分地位于與工件相對的加熱裝置的一側(cè)上以允許直接輻射到達(dá)工件上，在加熱裝置和工件之間，在所述展開位置，輻射罩被用于至少部分地阻擋至少部分的直接輻射到達(dá)工件。
按照本發(fā)明的另一個方面，加熱裝置包括間隔開的加熱元件陣列，用于與工件保持相對的關(guān)系，使得工件承受由加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射。分段的輻射罩包括多個被支撐的段，以在(i)縮回位置和(ii)展開位置之間移動，在所述縮回位置所述直接輻射被允許到達(dá)工件，在所述縮回位置多個段以至少部分地阻擋至少部分的直接輻射到達(dá)工件上的方式相配合，而且所述方式被設(shè)置為使輻射罩的至少某些段在縮回位置和展開位置之間移動時在相鄰的加熱元件之間移動。
按照本發(fā)明的另一個方面，描述了一種通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)和方法。該系統(tǒng)包括一種設(shè)備，該設(shè)備具有用于與工件保持相對的關(guān)系的加熱裝置，使得工件的處理寬度承受由加熱裝置發(fā)出的直接輻射。輻射罩被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)縮回狀態(tài)，該狀態(tài)允許直接輻射到達(dá)工件上而且不會在工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中輻射罩至少部分地阻擋至少部分的直接輻射到達(dá)工件，使得輻射罩在縮回狀態(tài)和展開狀態(tài)之間移動一段小于處理寬度的距離。
按照本發(fā)明的另一個方面，作為通過施加受控的熱量來處理具有熱處理寬度的工件的系統(tǒng)的一部分，一種設(shè)備及一種方法被描述為，具有用于與工件保持相對的關(guān)系的加熱裝置，使得工件的處理寬度承受由加熱裝置發(fā)出的直接輻射。包括多個元件的輻射罩，其被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)縮回狀態(tài)，該狀態(tài)允許直接輻射到達(dá)工件上而且不會在工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中輻射罩至少部分地阻擋至少部分的直接輻射到達(dá)工件，使得每個元件在縮回狀態(tài)和展開狀態(tài)之間移動一段小于處理寬度的距離。
按照本發(fā)明的另一個方面，作為通過施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)的一部分，一種設(shè)備及一種方法被描述為，具有用于與工件保持相對的關(guān)系的加熱裝置，使得工件承受由加熱裝置發(fā)出的直接輻射。輻射罩包括多個罩元件，所述罩元件被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許直接輻射到達(dá)工件上而且不會在工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中罩元件至少部分地阻擋直接輻射到達(dá)工件，使得每個罩元件至少在相鄰的加熱元件之間移動。一種部件被用于在打開狀態(tài)和展開狀態(tài)之間移動輻射罩。
按照本發(fā)明的另一方面，描述了一個線性移動的實(shí)施例，其中只需要線性的遮蔽體移動。在一個特例中，采用了平面板狀遮蔽體。在另一個特征中，采用了管狀遮蔽體。
參考下文中結(jié)合下述簡要附圖的詳細(xì)描述，將能夠更好地理解本發(fā)明。
圖1直接摘自美國專利第6,054,684號的圖3a，出于討論一種遮蔽體實(shí)施的現(xiàn)有技術(shù)的目的而在在此重復(fù)；圖2直接摘自美國專利第6,259,062的圖3，出于討論’062專利中的后冷卻處理的遮蔽體實(shí)施方式而在此重復(fù)；圖3為正面概視圖，圖示了包括按照本發(fā)明制造的遮蔽體裝置的RTP系統(tǒng)，用于詳細(xì)描述遮蔽體位于打開、縮回位置的非常有益的結(jié)構(gòu)；圖4為正面概視圖，圖示了如圖3所示包括按照本發(fā)明的遮蔽體裝置的RTP系統(tǒng)，其中遮蔽體位于關(guān)閉、展開位置；圖5為透視概圖，更加詳細(xì)的圖示了如圖3、4所示的遮蔽體裝置；圖6為用于驅(qū)動本發(fā)明的遮蔽體的裝置的側(cè)面概視圖；圖7為本發(fā)明的遮蔽體裝置的透視概圖，由與工件相對的遮蔽體裝置的一側(cè)獲取，描述了遮蔽體相對于加熱裝置的移動；圖8為如圖7所示的遮蔽體裝置的透視概圖，由與工件相對的遮蔽體裝置的一側(cè)獲取，描述了遮蔽體位于展開位置時的情況；圖9為如圖3-8所示的遮蔽體裝置的透視概圖，由遮蔽體裝置的后側(cè)觀察，遠(yuǎn)離工件，圖示了遮蔽體驅(qū)動機(jī)構(gòu)在其展開位置的情況，也詳細(xì)描述了支撐遮蔽體裝置的反射器總成；圖10為透視概圖，圖示了本發(fā)明的另一種實(shí)施方式，由與工件相對的遮蔽體裝置的側(cè)面觀察，圖中圖示的遮蔽體在加熱平面上移動，每個遮蔽體則在相鄰的加熱燈之間移動；圖11為如圖10所示實(shí)施例的透視概圖，也由遮蔽體裝置的后側(cè)觀察，遠(yuǎn)離工件，其中所示遮蔽體位于展開位置，以至于一個遮蔽體與兩個加熱燈相對；
圖12為如圖10、11所示遮蔽體的透視概圖，由遮蔽體裝置的后側(cè)觀察，遠(yuǎn)離工件，圖示了位于縮回或打開位置的遮蔽體驅(qū)動機(jī)構(gòu)，也詳細(xì)圖示了支撐遮蔽體裝置的反射器總成；圖13為如圖12所示的遮蔽體裝置的透視概圖，也由遮蔽體裝置的后側(cè)觀察，遠(yuǎn)離工件，圖示了位于展開位置的遮蔽體驅(qū)動機(jī)構(gòu)；圖14為本發(fā)明的遮蔽體裝置的另一個實(shí)施例的正面概視圖，詳細(xì)描述了其非常有益的結(jié)構(gòu)，圖示了平面遮蔽體件從展開(關(guān)閉)到縮回(打開)位置范圍內(nèi)的進(jìn)度；圖15為如圖14所示遮蔽體裝置的底視概圖，更加詳細(xì)地圖示了其結(jié)構(gòu)；圖16為放大正視圖，概略地描述了一對控制棒到如圖15、16所示實(shí)施例中遮蔽體的連接；圖17為按照本發(fā)明的遮蔽體裝置的另一個實(shí)施例的透視概圖，用于詳細(xì)描述其非常有益的結(jié)構(gòu)；圖18為部分的、更加放大的概視圖，圖示了圖17所示遮蔽體裝置驅(qū)動機(jī)構(gòu)中的一部分，用于更為詳細(xì)地說明其結(jié)構(gòu)；圖19為另一個部分的、更加放大的概視圖，圖示了圖17所示的遮蔽體裝置驅(qū)動機(jī)構(gòu)的另一部分，用于更加詳細(xì)的說明其結(jié)構(gòu)；圖20為部分去除的正面概視圖，圖示了本發(fā)明的遮蔽體裝置的另一個實(shí)施例，用于詳細(xì)說明其非常有益的結(jié)構(gòu)，其中圖示了平面、直線移動的遮蔽體件在由縮回到展開位置范圍內(nèi)的進(jìn)度；圖21為如圖20所示的遮蔽體裝置的一部分的底視概圖，圖示了具有遮蔽體狹槽以及定位于其中的遮蔽體的反射器板；圖22a為本發(fā)明的另一個實(shí)施例的部分去除的正面概視圖，用于說明非常有益的管狀遮蔽體實(shí)施方式；圖22b為圖22a所示的另一個遮蔽體裝置的實(shí)施例的底面透視概圖，其中遮蔽體處于縮回位置；圖22c為圖22b所示遮蔽體裝置的另一個底面透視概圖，具有選定的遮蔽體位于它們展開的位置；圖23為基于圖22a所示管狀遮蔽體實(shí)施方式的底視概圖，用于描述管狀遮蔽體與加熱元件的可選擇的分布，所述加熱元件與遮蔽體相聯(lián)系，并且接近圓形平面狀的熱源；
圖24為部分去除的正面概視圖，圖示了本發(fā)明的遮蔽體的另一個實(shí)施例，用于描述同心的管狀遮蔽體配置和協(xié)同操作的圓形燈陣列；圖25a為如圖24所示的遮蔽體裝置的底面透視概圖，用于更加詳細(xì)的描述其結(jié)構(gòu)；圖25b為如圖25a所示的實(shí)施例的底面透視概圖，圖中其遮蔽體處于縮回位置；圖25c為如圖25b所示的遮蔽體裝置的另一個底部透視概圖，圖中所選定的遮蔽體被示為展開位置；圖26圖示了被制造為具有雙段遮蔽體葉片的遮蔽體裝置的截面概視圖，而且描述了一個遮蔽體葉片相對于另一個的展開過程。
具體實(shí)施例方式
下文中的說明是介紹給本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員使其能夠制造和使用本發(fā)明，也提供于專利申請的上下文及其需求中。對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說能夠容易的對所描述的實(shí)施例進(jìn)行不同的變化，而其普遍原則可以應(yīng)用于另外的實(shí)施例中。因此，本發(fā)明并不限于這些給出實(shí)施例，而是按照與文中所描述的原則和特例一致的最寬范圍。
前文已經(jīng)描述了圖1和圖2，下文中就直接關(guān)注圖3，圖3為按照本發(fā)明制造的RTP處理系統(tǒng)的正面概視圖，由附圖標(biāo)記100指示。應(yīng)當(dāng)注意，在所有不同的附圖中相似的附圖標(biāo)記用于表示相似的組件，并且出于令讀者更容易理解的目的各附圖并不是按照比例繪制。而且，應(yīng)當(dāng)理解，一些術(shù)語，例如，“上(upper)”、“低”、“左”、“右”、“上(above)”、“下”和“側(cè)”，都只是用于描述的目的，而不是對于操作方向及其任何相關(guān)變化的限制。而且，在一幅附圖中出現(xiàn)多個相似組件的情況下，為了附圖清楚地目的，那些相似組件中只有少數(shù)或者只有一個，可以使用附圖標(biāo)記指示。
還參照圖3，系統(tǒng)100包括一個筒形的、伸長的加熱燈102陣列(它們中的幾個被單獨(dú)地標(biāo)示，如端視圖所示)，例如，鎢絲鹵素?zé)簦?dāng)然也可以采用其它現(xiàn)存的適合種類的燈，或者是將要發(fā)展出的種類。各燈102相互配合共同形成加熱平面104，用一條虛線表示。應(yīng)當(dāng)理解，該加熱平面是一個表示一個平面源的描述的結(jié)構(gòu)，從該平面源熱量被放射而出，并且，作為這種結(jié)構(gòu)，加熱平面不限于所示的特殊位置，而是可以以任何適合的方式移入或移出燈陣列。工件106，例如，半導(dǎo)體晶片被支撐，其具有與燈102相對的上、主表面108。在這種結(jié)構(gòu)中，工件的上表面108典型地至少大致地平行于加熱平面104。工件106通常在其外圍被支撐，或者由最少3個支撐銷(未示出)支撐。外圍支撐物可以由石英(SiO2)或者碳化硅或者一些其它具有適宜熱、化學(xué)性質(zhì)的材料制成。支撐銷典型地由碳化硅或石英制成。典型地，工件106在所有側(cè)面被包圍或者如果工件是晶片的話被一個自由滑動的環(huán)110圍繞其周長，該環(huán)已被概略地圖示，并且通常具有圓形結(jié)構(gòu)，使其互補(bǔ)地圍繞具有圓周外圍的工件，如半導(dǎo)體晶片。如本領(lǐng)域所知，自由滑動環(huán)110在防止工件外圍圓周不利的溫度影響方面非常有用，所述影響是由于工件外圍的溫度變化率相對于工件106的其它部分的溫度變化率更加快速所造成的。工件106通常在增強(qiáng)工件一致性的加熱處理中以合適的速率旋轉(zhuǎn)。自由滑動環(huán)通常被固定的支撐，使得任何不對稱的熱影響通過時間平均而降低或消除。應(yīng)當(dāng)理解，各燈102相互配合確定一具有矩形或正方形外形的加熱平面104，而工件的外圍則為大致的圓形。對于這一點(diǎn)，加熱平面的外圍可以被成形為任何合適的形狀，只要工件在工件旋轉(zhuǎn)時能夠受到適合的穿過主表面108的輻射圖。如同將要看到的，本發(fā)明還可以同樣地應(yīng)用于，熱源包括分段的元件的情況。例如，熱源可以由下述方法而成，即將具有不同長度的燈管一體化從而形成一個接近圓形的平面熱源。
蓮蓬頭裝置120可以被插入燈102和工件106之間，其包括第一最接近燈102的大致平面件122、以及第二大致平面件124，其位于第一大致平面件122和工件106之間，如圖3和4所示。因此，蓮蓬頭腔126形成在第一和第二大致平面件之間，其中生產(chǎn)氣體或多種氣體(未示出)可以通過通道128引入，所述通道被成形在一個或多個圍繞在蓮蓬頭腔126周位的位置。較低的平面件124具有多個通孔130，其中的幾個被單獨(dú)地標(biāo)示，通過通道128注入的工業(yè)氣體經(jīng)過腔126，通過通孔130射出，撞擊工件的上表面108。用于本應(yīng)用的合適的氣體種類包括任何適合的氣體，包括但并不限于下述氣體Ar、N2、O2、He、N2O、NO、H2、NH3和H2O。平面件122和124可以由任何對燈102發(fā)出的輻射132來說適合地透明的材料制成，這些材料包括，例如可以容易的加工的石英板，或者氧化鋁又或者氧氮化鋁。
繼續(xù)參照圖3，按照本發(fā)明制造的遮蔽體裝置由附圖標(biāo)記200表示。遮蔽體裝置200包括反射器板202，其使用夾子(未示出)支撐燈102，所述夾子設(shè)置在每個伸長燈管相對的兩端。反射器總成202可以由任何適合的耐熱材料制成，例如，鋁、鈦或者不銹鋼。
轉(zhuǎn)到圖5，其與圖3相結(jié)合，前者附圖為遮蔽體裝置200被部分地去除后從上向下觀察遮蔽體裝置頂部的透視圖，從而圖示了去除燈102之后的裝置的側(cè)面。多個樞軸臂(pivot arm)204，每個樞軸臂包括在樞軸位置205樞軸地與反射器板202連接的一端。每個樞軸臂204的相對的一端通過使用帶狀臂207被固定地連接在多個伸長的、弓形遮蔽體件206(只有其上邊緣在圖5中可視)之一上，所述帶狀臂將在下文中詳細(xì)描述。應(yīng)當(dāng)理解，伸長的遮蔽體件的相對的端部可以按照本質(zhì)上等同于所描述的端部的方式樞軸地設(shè)置，但是由于說明性的限制這些相對的端部沒有示出。應(yīng)當(dāng)注意，本示了處于縮回位置的遮蔽體件，圖3所提供的遮蔽體件206的端視圖由于去除了反射器板202從而暴露了遮蔽體。每個伸長遮蔽體被反射器本體202所形成的一系列狹槽208之一所接收。在圖5中，由于去除了反射器背板209的一角，可以清楚地看到用于罩住遮蔽體件206(僅其尾部邊緣可見)的狹槽208，所述背板209被支撐在反射器板202的上表面上。反射器背板209具有多個通孔210，所述通孔與狹槽208相對齊，通過這些通孔氣體受壓，以提供到燈102的冷卻氣體，因為特定形態(tài)的加熱元件，例如，錳絲-鹵素?zé)簦枰谝欢ǖ臏囟确秶鷥?nèi)工作。為了提供增強(qiáng)地冷卻，反射器板可以具有一系列的冷卻槽211，通過這些槽，適合的冷卻流體，例如，水或者其它熱交換液體，可以在其中流動。可選擇地，液體冷卻劑可以位于槽中，而不需要誘發(fā)的外部流動。這樣，作為為了產(chǎn)生反射器板內(nèi)有益的熱量再分配/循環(huán)的誘發(fā)加熱的結(jié)果，液體可以被動地流動，例如作為對流的結(jié)果。出于清楚的目的，圖3中沒有圖示反射器背板209。而且，在它們的縮回位置，遮蔽體件206也不需要完全地接收在反射器板202中；在合適的變型中，遮蔽體可以容易地部分的位于在反射器板202的上方或下方伸展。
仍然參照圖3和5，每個遮蔽體件206包括帶狀臂207，其具有弓形形狀，并固定地連接到樞軸臂204的上端。有益地，帶狀臂207可以在伸長的遮蔽體件的每個相對的末端整體成形。每個帶狀臂可以以任何取決于，當(dāng)然是，材料類型的適合的方式，連接在分別的樞軸臂上。樞軸臂204可以由適合的材料制成，例如，鋁、不銹鋼、電鍍鈹或鈦。遮蔽體件206可以由適合的材料制成，包括但不限于，鈦、不銹鋼、電鍍鈹和鋁?？紤]以下因素，例如，期望溫度、材料厚度、熱處理需求包括峰值溫度、燈的能源設(shè)置和處理時間，采用特殊的材料可以適應(yīng)特殊的應(yīng)用。
每個樞軸臂204包括向外伸展的樞軸銷214，其可以以任何適合的方式被保留在每個樞軸臂上。每個樞軸銷204可以以任何適合的方式被伸長的執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220上的通孔所接收，使得所有的遮蔽體206通過執(zhí)行機(jī)構(gòu)條的移動而能夠一致的動作。應(yīng)當(dāng)理解，這種動作能夠以基本上無限制的數(shù)量的方式完成，包括使用由適合的馬達(dá)驅(qū)動的傳動裝置或者線性執(zhí)行機(jī)構(gòu)。本例描述了了具有驅(qū)動軸223的馬達(dá)222(圖3)，所述驅(qū)動軸驅(qū)動盤224，該驅(qū)動盤通過樞軸銷214’樞軸地連接在執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220上。馬達(dá)驅(qū)動軸223與樞軸臂樞轉(zhuǎn)地的端部對齊，同時軸223和銷214’之間的距離相應(yīng)于每個樞軸臂的樞軸位置205和銷214之間的徑向距離，從而馬達(dá)驅(qū)動的盤224的旋轉(zhuǎn)為執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220提供適合的移動。
考慮到某些優(yōu)點(diǎn)是由于使用步進(jìn)馬達(dá)或AC同步馬達(dá)驅(qū)動本發(fā)明的遮蔽體裝置。如下文中將要詳細(xì)描述的，通常需要盡可能快速地打開和關(guān)閉遮蔽體。這樣，步進(jìn)馬達(dá)或AC同步馬達(dá)能夠被編程為具有選定的“高速”和“低速”的速度輪廓線。因此，例如，馬達(dá)能夠以提供初始遮蔽體展開的最大加速度的方式電動地驅(qū)動。在接近遮蔽體的展開位置時，能夠使用馬達(dá)控制器以提供減速方式，避免“砰擊”或超出展開位置—無論那種情況都能潛在地導(dǎo)致破壞。這種在從展開位置到縮回位置移動時需要的加速或減速可以容易地提供。對縮回方向上的控制可以同樣的精確。在任何實(shí)施方式中，應(yīng)當(dāng)了解，本發(fā)明還預(yù)期采用步進(jìn)馬達(dá)或AC同步馬達(dá)直接驅(qū)動傳動總成，所述傳動總成依次驅(qū)動遮蔽體裝置。
參照圖5，圖示了可選擇的裝置，用于執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220的相對端(也就是在圖3、4中的馬達(dá)222對面)，其中樞軸桿226樞軸地接收樞軸銷214中的一個。同時，樞軸桿226相對的端部被樞軸地連接在反射器板202的樞軸點(diǎn)228處，使得執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220的移動導(dǎo)致樞軸桿穩(wěn)定執(zhí)行機(jī)構(gòu)桿220。這一裝置構(gòu)成了即將要敘述的可選擇的驅(qū)動裝置的一個基礎(chǔ)。
參照圖6，概略地描述了一種用于驅(qū)動樞軸桿226的結(jié)構(gòu)。如上文所述，為了旋轉(zhuǎn)，樞軸桿226樞軸地接收一個合適地定位的銷214。然而，在本圖所示情況下，附加馬達(dá)222的驅(qū)動軸223被連接，從而提供樞軸桿226相對于樞軸點(diǎn)228的可選的旋轉(zhuǎn)，并依次地，移動執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220，隨后移動遮蔽體206。應(yīng)當(dāng)理解，所描述的驅(qū)動裝置能夠采用任何合適的結(jié)構(gòu)或結(jié)合。
參照圖3、5和6，應(yīng)當(dāng)理解，為了同樣地驅(qū)動設(shè)置在遮蔽體機(jī)構(gòu)相對一側(cè)的遮蔽體執(zhí)行機(jī)構(gòu)，伸展的驅(qū)動軸(未示出)可以連接到馬達(dá)223上。下面將詳細(xì)描述一個使用馬達(dá)并具有雙端驅(qū)動軸的相似的裝置。而且，如圖5所示的樞軸桿226，也可以被用在遮蔽體裝置的相對的一側(cè)。如果需要，相對的樞軸桿可以以任何適合的方式，例如，使用附加的馬達(dá)或驅(qū)動裝置，為遮蔽體206提供更加同步化的或者協(xié)同的移動。應(yīng)當(dāng)了解，在本發(fā)明的范圍內(nèi)，任何合適數(shù)量的馬達(dá)都可以應(yīng)用，即使是四馬達(dá)，其中每個馬達(dá)用于驅(qū)動一對執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220中每個的相對的兩端中的一端。如下文中將要描述的，在通常感覺中，遮蔽體的協(xié)同、平滑的移動與許多的運(yùn)作考慮事項相關(guān)，包括但不限于為遮蔽體的相對兩端提供“均勻”、平衡、協(xié)調(diào)的驅(qū)動。
單獨(dú)參照圖5，為了監(jiān)測過程參數(shù)的目的，可以以任何適合的方式采用儀表。例如，反射器板209支撐一個儀表設(shè)備232，該儀表設(shè)備通過開口234(只圖示了其入口)穿過遮蔽體裝置觀察工件106。適合的儀表包括，但并不限于光學(xué)高溫計、發(fā)射計和反射反射計。應(yīng)當(dāng)注意，儀表設(shè)備232對于確定遮蔽體206的溫度也很有用，尤其是當(dāng)遮蔽體受到任何時間段的燈輻射的情況下。任何適合數(shù)量的儀表都可以使用。
監(jiān)測過程參數(shù)的另一個方面在于對遮蔽體葉片位置的了解。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)理解，分檔和AC同步馬達(dá)可以通過數(shù)字馬達(dá)控制器被容易地驅(qū)動。因此，馬達(dá)控制器能夠監(jiān)測旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)位置，所述旋轉(zhuǎn)軸被命令移動以追蹤處于閉環(huán)方式的遮蔽體的位置。端部開關(guān)或者“歸位”開關(guān)，經(jīng)常被用于確定原始位置，可以被用于指示馬達(dá)控制器一個遮蔽體葉片的特殊位置，例如，遮蔽體葉片的縮回位置。作為進(jìn)一步的增強(qiáng)或可選擇的增強(qiáng)，可以在馬達(dá)軸上連接編碼器如光學(xué)編碼器，以直接地指示馬達(dá)軸的位置，這種方式被本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知。
已經(jīng)詳細(xì)地描述了本發(fā)明的遮蔽體總成200，下面將關(guān)注于其詳細(xì)的操作及其伴隨的優(yōu)點(diǎn)。到其結(jié)尾，讀者最初參考圖3和5，每一附圖都描述了按照本發(fā)明的遮蔽體裝置200，其中遮蔽體206位于它們的打開或縮回位置。在遮蔽體關(guān)閉開始時，遮蔽體206在燈102的方向從反射器板202移出。
參照圖7，結(jié)合圖3、5和6，在遮蔽體的移動過程中，每個單獨(dú)的遮蔽體向一對相鄰的燈102(圖7)移動接近或者位于中間，然后經(jīng)過加熱平面104。在圖7中，遮蔽體裝置200以底面透視概圖的方式示出，描述了在沿著箭頭252所指示方向旋轉(zhuǎn)之后向中間位置移動的遮蔽體206，該中間位置位于縮回和展開位置之中。加熱平面104被用虛線描述，以表示在該中間位置中每個遮蔽體與加熱平面的沿著虛線260的相交位置。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)了解，不需要將遮蔽體206撤回“打開”位置，如圖7所示，所述“打開”位置完全位于燈102或加熱平面104之上。即，在它們的縮回位置，遮蔽體可以至少部分地展開在相鄰的燈102之間，或者部分地展開在加熱平面104前面，只要輻射132直接發(fā)生在工件106上。遮蔽體206完全縮回進(jìn)入反射器板202，可以有益地避免遮蔽體在直接的燈輻射之下的延長曝光。
圖4、8和9圖示了處于展開位置的遮蔽體206，尤其是圖8，很有幫助，其概略地圖示了遮蔽體展開位置的細(xì)節(jié)，由標(biāo)記206a-g表示。特別地，第一遮蔽體206a的前邊緣262與第二遮蔽體206b的外表面264接近。當(dāng)然，遮蔽體206g包括該系列中最后的遮蔽體，因而，沒有遮蔽體超過它，與其在展開位置接觸。
應(yīng)當(dāng)注意，圖4中所示的位于遮蔽體裝置右側(cè)的端遮蔽體206a，并不阻礙光線240，所述光線由最右側(cè)燈102發(fā)出，因而該光線不照在工件106上，而是照在自由滑動環(huán)110上。對于這一點(diǎn)，記住如圖所示遮蔽體葉片的形狀十分重要，例如圖3-5所示形狀。這樣，在圖4的端視圖中可見的各帶狀臂207，它們并不是用來阻礙光線，只有在最低端的帶狀臂的伸長的遮蔽體起到這種作用。相似地，光線250由最左端的燈102射出，也不照在工件106上，而是照在自由滑動環(huán)110上。雖然如此，光線250也被如圖4所示的遮蔽體裝置阻礙，因為這些光線直接地照在展開的遮蔽體葉片上。
參照圖3和圖4，應(yīng)當(dāng)理解，狹槽208(只有一個有附圖標(biāo)記標(biāo)注)，如圖3中所示的最右端的狹槽，被構(gòu)造為幫助每個遮蔽體沿著位于縮回和展開位置之間的通道導(dǎo)向的方式。至少，狹槽208被構(gòu)造為與遮蔽體葉片在縮回和展開位置之間的軌跡相配合，因為每個遮蔽體葉片都具有剛性的形狀。因此，狹槽被設(shè)計為在其處于縮回位置時接收遮蔽體葉片，從而使得遮蔽體葉片不削弱從燈射出的光線，并且可以穿透遮蔽體的存儲空間。在本實(shí)施例中，至少接近地，燈102的數(shù)量與遮蔽體206的數(shù)量具有一一對應(yīng)的關(guān)系。應(yīng)當(dāng)引起注意，每個遮蔽體在從縮回位置到展開位置的轉(zhuǎn)變中圍繞燈102之一旋轉(zhuǎn)大約一半的距離。如圖4所示，每個遮蔽體移動經(jīng)過燈并相對其旋轉(zhuǎn)，從而至少部分地位于下一個相鄰燈102的下方。
參照圖3-5和9，帶狀臂204和狹槽208被設(shè)置為相互配合，避免在縮回位置和展開位置之間移動時出現(xiàn)的相鄰遮蔽體和帶狀臂的沖突。參考本文公開，出于防止遮蔽體和臂在任何遮蔽體葉片旋轉(zhuǎn)的位置相互接觸的目的，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠容易地做出許多種適合的帶狀臂結(jié)構(gòu)的變化。
上文詳細(xì)描述了本發(fā)明的遮蔽體裝置200，其具有的幾個優(yōu)點(diǎn)是值得討論的。一個優(yōu)點(diǎn)是實(shí)際上完全避免了在工件上形成影子，同時仍然采用分段的遮蔽體裝置。這被認(rèn)為是相對于現(xiàn)有技術(shù)的遮蔽體裝置提供了壓倒性的優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)有技術(shù)中的遮蔽體裝置被支撐在熱源和處理源之間，如上文中所述的Pas文獻(xiàn)。直到現(xiàn)在，現(xiàn)有技術(shù)也沒有解決當(dāng)采用分段遮蔽體時出現(xiàn)陰影的方法。
作為另一個優(yōu)點(diǎn)，不出現(xiàn)陰影是與以高度均勻、快速的方式至少部分地阻擋輻射不接觸工件的能力相關(guān)的。也就是說，單一的滑入遮蔽體如上文中所述Pan的文獻(xiàn)所述，例如，估計遮蔽體將會由于一個300mm厚的晶片而需要在其縮回和展開位置之間移動至少14英寸。如果在相當(dāng)水平的輻射照射到工件上時執(zhí)行這一動作，就將導(dǎo)致高度不均勻和不平衡的熱處理。這一動作具有附加的影響，導(dǎo)致基層的不均勻冷卻。這些影響是對自然條件的附加，會導(dǎo)致更大的熱處理不均勻。一種消除這種困難的努力就是更加快速的移動遮蔽體，然而，這卻需要極度高速、不可實(shí)現(xiàn)的移動速率。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)注意，僅僅工件的旋轉(zhuǎn)被認(rèn)為無助于解決這種不均勻的結(jié)果，因為遮蔽體通常在小于一個旋轉(zhuǎn)內(nèi)展開。即使工件旋轉(zhuǎn)速度可以獲得實(shí)質(zhì)的增加，然而Pan式遮蔽體仍然會導(dǎo)致輻射的不均勻。與其相反，本發(fā)明利用分段遮蔽體裝置，其中每個遮蔽體移動一個相對較短的距離，將完全地消除陰影。如圖3和4所示的實(shí)施例，估計每個遮蔽體件在每個遮蔽體的縮回和展開位置之間移動的弓形長度不超過4英寸(遠(yuǎn)小于晶片直徑)。值得注意的是，移動被超過三個因素所減小。在其自身并通過其自身，考慮到伴隨消除了陰影，這種差別被認(rèn)為是相對于現(xiàn)有技術(shù)來說提供了壓倒性的優(yōu)點(diǎn)。
公認(rèn)的，Pan式遮蔽體裝置能夠進(jìn)行改進(jìn)，至少一定限度的改進(jìn)，例如，通過使用從相對兩側(cè)滑入的遮蔽體或者使用虹狀遮蔽體，如照相機(jī)中所采用的。這些改進(jìn)在具有更多處理需求的大工件時仍然不能勝任。
另外一點(diǎn)非常重要應(yīng)當(dāng)了解的是，任何遮蔽體裝置，如Pas所教導(dǎo)的，其遮蔽體在所有時間都定位于加熱裝置和晶片之間，承受巨大的熱量所引起的問題。例如，在不考慮遮蔽體相對于加熱裝置的方向以及選定的放射能力表面和涂層的情況下，將遮蔽體長期直接暴露于加熱裝置之下，將會最終導(dǎo)致遮蔽體的高溫度。在某種情況下，這種涂層自身就會成為現(xiàn)有技術(shù)實(shí)施中的問題。例如，通常需要在遮蔽體的展開位置具有面對晶片的高放射能力涂層。如果這些遮蔽體隨后旋轉(zhuǎn)到縮回位置，高放射涂層至少部分地直接暴露于加熱裝置的輻射之下。因此，這種現(xiàn)有技術(shù)的遮蔽體裝置相對于組件的熱膨脹系數(shù)的選擇需要極度注意，因此嚴(yán)重的限制了可以采用的特殊材料。人們也許考慮采用有效的冷卻裝置以試圖解決這一問題，例如，通過形成穿過每個遮蔽體的液體接收冷卻槽。然而，不幸的是，由于遮蔽體的動量和體積有了重大的增長，更加復(fù)雜的情況被引入，因此降低了動作的響應(yīng)性。本發(fā)明被認(rèn)為完全的解決了這些問題，因為縮回的遮蔽體可以被完全的罩在反射器總成中。
參照圖5，遮蔽體葉片206的溫度在葉片被縮回時被射到遮蔽體空間內(nèi)的熱輻射所調(diào)節(jié)，同時被從反射器板209流向狹槽208的冷卻氣體調(diào)節(jié)，因此去除了包含在空間208內(nèi)的縮回葉片的熱量。實(shí)際上，每個遮蔽體的前邊緣可以被輕微地縮回反射器總成，這樣其具有由直接暴露而得的陰影，或者如下文所述，所述前邊緣可以被設(shè)置為用于反射輻射。在一個實(shí)施例中，遮蔽體葉片可以被預(yù)熱，以在處理第一工件之前達(dá)到預(yù)定的熱平衡狀態(tài)。
遮蔽體裝置200具有與本發(fā)明所有實(shí)施例共同分享的非常有益的能力，即，改變工件所經(jīng)歷的時間-溫度曲線。通過調(diào)整速度以及遮蔽體葉片相對于燈被關(guān)閉(或者一些其它觸發(fā)事件)時間的展開的起始時間，熱輪廓峰值形狀能夠被改變?yōu)樯仙乃俾首畲蠡?，?dǎo)致達(dá)到最大溫度的時間被最小化，并且從最高溫度的冷卻速率也最大化，導(dǎo)致形成銳利的峰值或尖鋒而不是圓形的輪廓。當(dāng)然，通過這種期望目標(biāo)，遮蔽體操作可以被控制，例如，響應(yīng)于高溫計的讀取，比如工件達(dá)到一個預(yù)定的溫度。將熱輪廓線的銳度最大化能夠有益于導(dǎo)致越來越淺和快速形成的連接。因此，對比之前能夠獲得的控制，本發(fā)明的遮蔽體裝置達(dá)到了對時間-溫度輪廓線的更大的控制。對于這一點(diǎn)，需要盡可能快的將遮蔽體葉片從它們縮回的位置移動到展開位置。本發(fā)明預(yù)期的遮蔽體展開時間區(qū)域范圍從大約10ms到300ms。50-150ms的遮蔽體展開時間被認(rèn)為具有過程優(yōu)勢。
參照圖10和11，本發(fā)明的另一個遮蔽體裝置的實(shí)施例，利用附圖標(biāo)記300大致示出。遮蔽體裝置300分享了前述的遮蔽體裝置200的優(yōu)點(diǎn)，并且提供了另外的優(yōu)點(diǎn)。因此，本討論將在極大程度上限于遮蔽體總成300與遮蔽體總成200的區(qū)別上。應(yīng)當(dāng)考慮到，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通過使用本說明與前述遮蔽體裝置200的說明能夠容易地實(shí)現(xiàn)遮蔽體裝置300。然而，主要的區(qū)別在于，遮蔽體裝置300采用多個遮蔽體306，每個遮蔽體都至少大約為遮蔽體總成200中的遮蔽體206寬度的兩倍。按照這種方式，遮蔽體306在每兩盞燈102之間移動，如圖10所概略圖示。圖11描述了處于展開位置的遮蔽體306，使得每個遮蔽體至少大致地位于兩盞燈102下，以阻擋輻射132。
參照圖12和13，圖示了遮蔽體裝置300自上而下的透視概圖，其具有反射器總成302，與裝置200(圖5)的狹槽208相比，該反射器總成所包括的狹槽308的數(shù)量是其一半，使得每個遮蔽體306都被接收到狹槽308中。圖12描述了處于縮回、打開位置的遮蔽體裝置300，而圖13描述了處于展開位置的遮蔽體裝置300。每個遮蔽體件306包括帶狀臂312，與裝置200的帶狀臂207相似，從側(cè)面看時，其具有弓形形狀，并且其被固定地連接在樞軸臂204之一的上端。此外，帶狀臂312可以一體地成形在每個伸長的遮蔽體件的每一端。每個帶狀臂可以以任何適合的方式被連接在分別的樞軸臂上。然而，與實(shí)施例200(圖5，用于比較)中帶狀臂207的連續(xù)弓形結(jié)構(gòu)相對應(yīng)，如圖12所示，帶狀臂312通過使用直角偏移部分316而成形。相對于圖5之中的儀器設(shè)備232，遮蔽體裝置300所提供的儀器也更有利，因為在裝置300的狹槽308之間的空間大約是裝置200上兩狹槽208之間空間的兩倍。
應(yīng)當(dāng)注意，遮蔽體裝置，在位于展開位置時，可以以任何合適的方式相對于加熱燈排列。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)了解，在所有的適合的實(shí)施例中，本發(fā)明的遮蔽體裝置，被認(rèn)為是對于任何形態(tài)的“陣列”熱源或者由空間隔離元件排列組成的熱源都有效，因為本發(fā)明的遮蔽體可以容易地被設(shè)置為穿過任何陣列在遮蔽體的縮回和展開位置間移動。而且，依靠縮放比例的考慮，遮蔽體可以相對于加熱元件的間隔被加寬，以面對三個或更多的加熱元件。
參照圖14，圖示了另一個本發(fā)明的遮蔽體裝置，利用附圖標(biāo)記400大致示出，其分享了前述各實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)。圖14為正面的部分截面視圖，圖示了反射器總成402被去除，以顯示伸長遮蔽體406與一系列在反射器總成402內(nèi)的伸長的狹槽408的關(guān)系。用于制造遮蔽體408的合適的材料包括，但并不限于鈦、不銹鋼、電鍍鈹和鋁。遮蔽體406a和406b圖示為位于它們的展開位置，同時遮蔽體406c-e圖示為位于中間位置。遮蔽體406f圖示為位于完全的縮回位置。應(yīng)當(dāng)理解，為便于示出不同的可操作的遮蔽體位置，以圖14的方式描述了遮蔽體406，但是為了一致的移動，遮蔽體可以容易地按照下文將要描述得方式的設(shè)定。
參照圖15，結(jié)合圖14，前者為遮蔽體裝置400的底視圖，其中所有的遮蔽體406都圖示為處于它們的縮回位置，位于反射器總成狹槽408內(nèi)。應(yīng)當(dāng)注意，每盞燈102被位于其相對兩端的夾子409支撐，如上文中所述實(shí)施例。如圖14所示，每個遮蔽體406為大致平面，具有在一對相對的主表面416和418之間的一定厚度。當(dāng)遮蔽體位于它們的展開位置，遮蔽體406a的前邊緣420與相鄰的遮蔽體406b的后邊緣421接近，最好不接觸。在所描述的實(shí)施例中，狹槽408具有一致的寬度，該寬度比每個遮蔽體406的厚度稍寬。因此，每個遮蔽體的樞軸移動被執(zhí)行，遮蔽體被完全地移出各自的狹槽408。然而，應(yīng)當(dāng)理解，這不是必要的；狹槽408可以包括這樣一種結(jié)構(gòu)(未示出)，即，該結(jié)構(gòu)與遮蔽體的至少部分的旋轉(zhuǎn)相適應(yīng)，所述遮蔽體部分地容納于狹槽內(nèi)。在這種方法中，遮蔽體旋轉(zhuǎn)的實(shí)現(xiàn)將在下文中描述。
參照圖14-16，利用一對控制桿420來使每個遮蔽體406移動，所述控制桿設(shè)置在每個遮蔽體的相對的兩端。每對控制桿包括第一控制桿422和第二控制桿424。圖16為放大視圖，圖示了一對控制桿與一個遮蔽體的連接。第一和第二控制桿的遮蔽體的端部樞軸地連接在位置426和428上，沿著每個遮蔽體的寬度或厚度方向間隔開，接近其后邊緣421。因此，一致地移動一對控制桿導(dǎo)致了所支撐的遮蔽體的具有一固定角度θ的平移，所述角度形成在控制桿和遮蔽體之間?？刂茥U422和424相互之間的移動導(dǎo)致所支撐的遮蔽體旋轉(zhuǎn)。也就是說，角度θ響應(yīng)于相對移動而改變?？刂茥U的協(xié)調(diào)移動導(dǎo)致了遮蔽體在縮回位置和展開位置之間的控制移動。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)理解，通過采用控制桿的不同的協(xié)調(diào)移動，遮蔽體可以以不限數(shù)量的不同的方式移動。
在圖14所示的例子中，控制桿的樞轉(zhuǎn)緊隨著每個遮蔽體經(jīng)過反射器總成402而發(fā)生。如可選擇的例子(未示出)，遮蔽體可以以兩個基本步驟移動。首先，控制桿可以一致的被移動到將遮蔽體從其縮回位置變?yōu)樾D(zhuǎn)位置。在旋轉(zhuǎn)位置，控制桿就相對以另一個控制桿移動，以旋轉(zhuǎn)遮蔽體達(dá)到其展開位置。用于協(xié)調(diào)地移動控制桿特定的機(jī)構(gòu)未示出，因為考慮到本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)整個公開就能夠提出許多種適合的結(jié)構(gòu)以達(dá)成這一目的。然而，應(yīng)當(dāng)理解，控制桿422和424必須被構(gòu)造為，使得所支撐的遮蔽體406旋轉(zhuǎn)的相對移動不會造成在控制桿的端部接近樞軸位置426和428處的沖突。例如，如圖14的側(cè)視圖所示，遮蔽體406e的控制桿看上去并排排列，其遮蔽體從控制桿線形對應(yīng)地展開。然而，遮蔽體406a和406b，在它們的展開位置，控制桿424看上去移動到控制桿422之前的位置上；使得后者幾乎不可見，也許根本看不到。在一種實(shí)施方式中，控制桿424可以使用不同長度的鉸接銷連結(jié)，以將控制桿的端部與遮蔽體的邊緣間隔不同的距離，它們是樞軸地連接在遮蔽體上，同時，遮蔽體可以由彈性材料以一種允許它們在遮蔽體從不旋轉(zhuǎn)到旋轉(zhuǎn)、從線性對應(yīng)位置到展開位置的轉(zhuǎn)變時輕微變形的方式制成。用于制造控制桿的合適材料包括但不限于不銹鋼和鈦。
適合的著色/涂層方案可以提供給任何本發(fā)明的遮蔽體裝置，下面將采用圖14中的遮蔽體裝置400作為非限制舉例進(jìn)行描述。作為例子，遮蔽體處于它們的展開位置，遮蔽體的面對燈102的表面418可以是反射性的。在一個實(shí)施中，反射性的涂層例如，金、銀、拋光或散射鋁、白色油漆、或者氧化鋁可以被施加到這些表面上。表面416，與工件相對(如圖4)，位于其展開位置，通過高度吸收從大約1到10微米波長的電磁輻射可以具有高度發(fā)射率。例如，該表面能夠被黑漆或者具有選定反射性質(zhì)的白漆覆蓋，以允許葉片不會在散開過程中被燈的輻射加熱，但是，仍舊吸收由工件所發(fā)出的輻射。每個遮蔽體406的前邊緣420可以是白色的或者反射性的，以改進(jìn)遮蔽體的加熱，所述前邊緣在遮蔽體位于縮回位置時與燈相對。而且，反射器總成402的表面440或者任何其它已出現(xiàn)在描述過的實(shí)施例中的反射器總成表面，可以具有反射性涂層442，以改變射向工件的輻射444，因此改善了加熱的一致性，通過反射器總成限制了熱量的吸收。而且，選擇反射能力(selective reflectivity)可以被用在反射器總成或者其它的表面上，以于2003年7月28日提交的名稱為“selective reflectivity process chamber withcustomized wavelength response(具有定制波長響應(yīng)的選擇反射能力處理腔)”的美國專利序號10/629,400所教導(dǎo)的非常有利的方式實(shí)行，該申請由本發(fā)明的申請人所擁有，在此將其全文并入作為參考。
下面將注意力指向圖17，該圖描述了一系統(tǒng)，利用附圖標(biāo)記500大致示出。系統(tǒng)500包括本發(fā)明的遮蔽體裝置的另一個實(shí)施例，由附圖標(biāo)記501指示。遮蔽體裝置501類似于前文所述的遮蔽體裝置200，但是具有改動的由反射器總成503所支撐的步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動裝置502，如透視圖所示。反射器總成被腔504旋轉(zhuǎn)地支撐。也應(yīng)當(dāng)注意，另一個設(shè)置在腔504的相對一側(cè)的遮蔽體裝置501′，能夠被設(shè)置為與遮蔽體裝置501等同，但并不是必須如此。
參照圖18，結(jié)合圖17，前者提供了更加詳細(xì)的步進(jìn)馬達(dá)的視圖，所述步進(jìn)馬達(dá)安裝在反射器總成上，并且包括雙端驅(qū)動軸508。驅(qū)動軸508的一端旋轉(zhuǎn)一凸輪。連接件512的一端樞軸地連接在凸輪上，同時連接件512的另一端則樞軸地連接在執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220上。連接件和樞軸桿226可以以任何合適的方式被樞轉(zhuǎn)地連接在執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220的共用點(diǎn)514。因此，凸輪510的旋轉(zhuǎn)移動連接件512，依次地，導(dǎo)致執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220令遮蔽體206在其縮回和展開位置間移動。
參照圖17和19，步進(jìn)馬達(dá)506的相對驅(qū)動輸出被連接到伸展的驅(qū)動軸516(用虛線所示)上，其向位于遮蔽體裝置500相對一側(cè)的致動裝置(actuation arrangement)520伸展。致動裝置520，如圖19所示，包括第二凸輪522，該凸輪被法蘭524支撐用于旋轉(zhuǎn)。第二凸輪522接收為了在此旋轉(zhuǎn)的伸展的驅(qū)動軸516。第二連接件526樞軸地連接到第二凸輪522上，其相對的一端則樞軸地連接在執(zhí)行機(jī)構(gòu)條220相對的一端。通過使用這一結(jié)構(gòu)，每個遮蔽體206的首尾相連的作用移動得到平衡。這樣，每個遮蔽體在其兩端受到，至少接近地受到，相同的作用力。這一結(jié)構(gòu)，以及所描述的相似的結(jié)構(gòu)，由于下文中即將敘述的原因被認(rèn)為具有特殊的優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的遮蔽體裝置的操作的一個重要的方面就是致動速度。特別是，遮蔽體能夠在縮回和展開位置之間的兩個方向上被移動得多快。即使本發(fā)明的遮蔽體裝置具有在移動單獨(dú)的遮蔽體葉片較短的距離而沒有陰影的方面高度有利，但是考慮到特殊的處理，遮蔽體葉片應(yīng)當(dāng)至少被足夠快速的移動，以獲得可接受的一致性。一種如圖17-19所示的結(jié)構(gòu)，在本說明中許多其它地方已被描述，相對于作用時間來說尤其有益。應(yīng)當(dāng)理解，因為致動速度提高了，任何只在遮蔽體的一端被驅(qū)動的實(shí)施例將告知一個遮蔽體葉片扭曲的增長量。然而，一個方法就是使葉片變得堅硬，該方法內(nèi)在地增加葉片的動量，使其與速度上隨之而來的增長相競爭。然而，通過驅(qū)動遮蔽體的兩端，為了實(shí)踐的目的。這種對于遮蔽體葉片扭曲的關(guān)注就被解決了。以一種稍微不同的方式觀察，與單端驅(qū)動相比較，重量上相當(dāng)輕的遮蔽體葉片可以被用于雙端驅(qū)動結(jié)構(gòu)，隨之而來的是作用時間的降低。而且，較輕的組件可以被用于整個完全的遮蔽體致動機(jī)構(gòu)，從而超越使用較輕的、硬度稍弱的葉片的益處。相關(guān)地，在任何速度下的執(zhí)行的平滑性關(guān)系到可重復(fù)性。也就是說，可重復(fù)性表現(xiàn)為所需的打開或關(guān)閉遮蔽體裝置的時間允許值。較高的可重復(fù)性直接轉(zhuǎn)化為更多可再生的處理結(jié)果。因此，為了準(zhǔn)確地處理應(yīng)用，需要高度的可再生性能，所以在任何合適的實(shí)施例中通常預(yù)期使用雙端遮蔽體驅(qū)動。
將注意力轉(zhuǎn)移到圖20，該示了另一個按照本發(fā)明制造的遮蔽體實(shí)施例，利用附圖標(biāo)記600大致示出。遮蔽體裝置600與燈陣列602合作，所述燈陣列包括由燈102所成的陣列，從而限定出加熱平面104。工件(未示出)可以被支撐，例如，與前文中圖3和4所示的系統(tǒng)100所描述的相一致的方式。而且蓮蓬頭裝置可以被夾在燈102與工件之間，例如，圖3和4中所示的蓮蓬頭裝置120。出于簡潔的目的，工件和蓮蓬頭裝置就不再重復(fù)了。
仍然參照圖20，遮蔽體裝置600包括遮蔽體葉片支撐板604，其形成有多個間隔開的狹槽606，每個狹槽接收多個遮蔽體608之一的端部。遮蔽體葉片分別由608a-g所指示。遮蔽體葉片支撐板只是在兩個不同的垂直位置部分地示出，為了描述不同的操作條件，然而，應(yīng)當(dāng)了解，所有的遮蔽體葉片能夠被單一的遮蔽體葉片支撐板支撐以一致地移動。遮蔽體葉片支撐板在朝向和遠(yuǎn)離反射器板610的方向可動，如雙箭頭612所示，以展開和縮回遮蔽體葉片。最左側(cè)的遮蔽體葉片608a被示為處于完全的縮回位置，從而遮蔽體608a的低端陷于反射器板610中一段適合的距離611，在本實(shí)施例中該距離大約2.5mm。特別的，葉片凹陷的量足夠用于阻礙直視相應(yīng)于直接位于遮蔽體608a兩側(cè)下方的燈102的燈絲。
圖20中由左至右圖示了遮蔽體葉片608的展開過程，其中，葉片608b-c為展開到足夠?qū)⑦@些葉片的低端移動到大致與反射器板的表面614對齊。葉片608d-h從左至右進(jìn)一步圖示了遞增的遮蔽體葉片的展開，葉片608i-j則示為完全展開位置，與定位在與反射板610相抵的支撐板604相連接。在本例子中，完全展開遮蔽體葉片從低端反射器板表面614開始大約展開了40mm。對于這一點(diǎn)，每盞燈102包括一個被表示為一個點(diǎn)的燈絲616。燈絲距離反射器板表面614大約12mm，并且相互間隔大約16mm。因此，遮蔽體葉片608之間間隔的量與燈與燈之間間隔的距離相等也是16mm。應(yīng)當(dāng)了解，所有給出的尺寸都是出于為了提供對許多種可能結(jié)構(gòu)之一的描述的精神，而不作為限制，考慮到本公開，這些上述可能的結(jié)構(gòu)可以被本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所利用。應(yīng)當(dāng)理解，遮蔽體結(jié)構(gòu)可以被提供為遮蔽體并不必須位于每兩盞與之相鄰的燈之間，例如，遮蔽體能夠被定位在其它的每兩盞燈之間。
參照圖21，結(jié)合圖20，前者描述了一個遮蔽體608位于一個狹槽618內(nèi)的平面概視圖，所述狹槽由反射器板610(只部分地示出)所形成，該圖是從燈102的視點(diǎn)觀察的。每個狹槽618可以具有軸承裝置620。在本例子中，軸承裝置包括兩對軸承件622，并且每一對都設(shè)置在遮蔽體608相對的兩端上。軸承件可以由下述材料制成，例如，任何適于高溫的聚合物，例如、碳氟化物相關(guān)聚合物、碳、石墨玻璃碳(graphite glassy carbon)、金剛石涂層陶瓷?？蛇x擇的，也可以使用金屬和干式或濕式潤滑劑導(dǎo)入的多孔材料。因此，在遠(yuǎn)離軸承件的位置，遮蔽體葉片608與狹槽606的外周間隔一段距離，該距離近似等于軸承件622的厚度，從而形成了圍繞遮蔽體葉片的外圍通道623。軸承件可以由任何適合的方式制成，例如，沿著整個反射器板610的厚度方向，在與反射器板的主、相對表面相鄰的位置和/或在沿著反射器板厚度方向間隔的位置。按照這種方式，只要支撐板604不位于與反射器板610相抵的位置，冷卻氣體就能夠穿過圍繞每個遮蔽體葉片的外圍通道623。這些冷卻氣體不僅起到冷卻遮蔽體葉片的作用，而且，據(jù)此冷卻附加的組件，例如，在其下方的蓮蓬頭或窗裝置(如圖3和4所示)。
為了將板在圖示的雙箭頭612所示的方向上移動，任何適合的致動機(jī)構(gòu)都能夠被采用，例如，至少一個線性執(zhí)行機(jī)構(gòu)626，其具有執(zhí)行軸628，該軸連接到遮蔽體支撐板604上以將其移動。任何適合數(shù)量的執(zhí)行機(jī)構(gòu)都能夠被利用，以移動支撐板604或者移動分別的遮蔽體?？紤]到只需要線性移動，應(yīng)當(dāng)理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠在整個公開的基礎(chǔ)上容易的提供任何適合數(shù)量的執(zhí)行器機(jī)構(gòu)。
適合用于制造遮蔽體葉片608的材料包括，但并不限于鋁、不銹鋼、鈦、電鍍鈹、陶瓷、碳基復(fù)合材料以及適合的組合物。反射器板610可以由，例如，鋁、不銹鋼、鈦和適合的組合物制成，而遮蔽體葉片支撐板604則可以由，例如，鋁、鈦以及適合的組合物制成。遮蔽體葉片608可以固定地接收于遮蔽體葉片支撐板604內(nèi)，例如，通過機(jī)械的定位器、環(huán)氧樹脂、壓縮裝置、金屬連接件。所述遮蔽體葉片主表面顏色或結(jié)構(gòu)應(yīng)該能夠吸收輻射，從而在遮蔽體伸長時吸收盡量多的燈的輻射，而它們的低端的顏色或結(jié)構(gòu)應(yīng)當(dāng)能夠反射輻射，從而在遮蔽體縮回時吸收盡量少的輻射。所述顏色和結(jié)構(gòu)可以通過任何適合的方式獲得，例如，通過使用涂層。應(yīng)當(dāng)注意，在所描述的任何實(shí)施例的特定遮蔽體裝置中，不同的遮蔽體或遮蔽體的小集合可以具有不同的長度和/或由不同的材料制成。
在所采用的加熱/遮蔽體裝置同時位于工件上方和下方(未示出)的情況下，將一個加熱/遮蔽體裝置相對于其它的加熱/遮蔽體裝置在其主平面旋轉(zhuǎn)大約90度可能是有益的，至少是出于將任何可分布在遮蔽體葉片狹槽上的光學(xué)作用最小化的目的。
使用具有最快冷卻響應(yīng)的燈102被認(rèn)為是有益的。當(dāng)然這已應(yīng)用于本文所述的所有實(shí)施例中，尤其適合于遮蔽體裝置600，也就是下文中即將介紹的實(shí)施例，因為在遮蔽體完全伸長時，至少工件的一些受限制的暴露直接處于輻射下，如下文將要進(jìn)一步敘述的。
上面詳細(xì)介紹了遮蔽體結(jié)構(gòu)600的結(jié)構(gòu)。最初，遮蔽體裝置600的設(shè)計被按照下述方式執(zhí)行，即計劃將與遮蔽體葉片變形相關(guān)的問題最小化的方式。例如，由遮蔽體葉片制造過程所造成的變形，或者由熱應(yīng)力所造成的變形，所述熱應(yīng)力起因于遮蔽體葉片在暴露在燈以及其它熱轉(zhuǎn)移表面的能量之下時所吸收的能量，又或者由于在葉片的展開過程中遮蔽體葉片的加速所造成的變形。熱轉(zhuǎn)移表面包括任何表面，例如，腔表面，該表面受到輻射吸收和處理腔內(nèi)的再輻射。應(yīng)當(dāng)理解，遮蔽體葉片608部分地阻擋了輻射620直接到達(dá)工件，該工件位于遮蔽體裝置下方，如圖20所示。然而，基于所描述的幾何圖形，這些遮蔽體在其展開位置阻擋了相當(dāng)數(shù)量的燈的輻射。如圖所示，相對于燈102j，只有由燈102j發(fā)射的處于α角度內(nèi)的輻射潛在地直接發(fā)生下方的工件上，同時另一個較小的輻射發(fā)射角度范圍內(nèi)的輻射，由β表示，則潛在地從反射板表面614反射到工件上。如果遮蔽體葉片被設(shè)想為具有最好的吸收以及預(yù)期的尺寸，那么會有大約87％(315°/360°)的直接燈輻射被遮蔽體裝置所接收。當(dāng)然，該圖可以容易地調(diào)整到合適的尺寸改變。考慮到遮蔽體裝置的簡化，這一特性被認(rèn)為是非常顯著的優(yōu)點(diǎn)，尤其是相對于需要遮蔽體只有線性移動的情況。在這一移動中，任何對于相鄰遮蔽體間的沖突的任何關(guān)注都被消除，同時對由旋轉(zhuǎn)地得到的沖突的關(guān)注也被消除。而且，遮蔽體的極度快速的移動由于遮蔽體裝置600的結(jié)構(gòu)而更加容易，至少由于下述原因，即移動是線性的，而且每個遮蔽體沿其長度方向與支撐板604充分配合。全部結(jié)果非常有效，并且仍然具有引人注目的簡單的遮蔽體裝置。
遮蔽體裝置600的結(jié)構(gòu)可以出于不同的目的而被改變成許多種不同的方式。例如，非線性燈可以和具有不同展開長度的遮蔽體一起使用，所述展開長度基于燈陣列的結(jié)構(gòu)而確定。如另一個例子，可以通過調(diào)整展開長度的固定分配或者動態(tài)的結(jié)構(gòu)分配而完成對熱輪廓線的調(diào)節(jié)。這樣，所有的葉片能夠展開相同的量和/或不同的葉片能夠展開不同的量。再比如另外的例子，其中的遮蔽體葉片不需要正常地向反射器板展開。后者在增加直接輻射的阻擋程度以及調(diào)節(jié)一致性的目的十分有益。
下面參照圖22a，其圖示了另外一個按照本發(fā)明的遮蔽體裝置及系統(tǒng)的實(shí)施例，利用附圖標(biāo)記700大致示出。遮蔽體裝置700與燈陣列702相配合，所述燈陣列包括燈704組成的陣列，從而形成了加熱平面104。燈704以端點(diǎn)結(jié)構(gòu)設(shè)置。本例預(yù)期采用管狀遮蔽體與具有突出結(jié)構(gòu)的鎢絲-鹵素?zé)粝嘟Y(jié)合。可以使用管狀結(jié)構(gòu)的燈構(gòu)成這種形態(tài)的陣列，在管的每一端都具有電連接，并且每個管狀燈都具有合適的反射器結(jié)構(gòu)。例如，美國專利第5,155,336號所展示的“光管”的結(jié)構(gòu)。對于這一點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)考慮到，任何形態(tài)的具有伸長燈絲燈或者任何形態(tài)的具有輻射發(fā)生點(diǎn)狀源的燈、圍繞的封殼以及關(guān)聯(lián)的反射器板可以通過將其燈絲橫向于工件的主表面的設(shè)置與管狀遮蔽體共同使用。遮蔽體可以在每個遮蔽體及其相關(guān)聯(lián)的反射器板或者圍繞的一個或多個這種裝置之間展開。工件(未示出)可以被支撐，例如，以前文中圖3和4所示的系統(tǒng)100所述相一致的方式。而且，蓮蓬頭和窗裝置可以被夾在燈704和工件之間，例如，圖3和4所示的蓮蓬頭裝置120。為了簡潔的目的，對工件和蓮蓬頭的描述就不再重復(fù)了。
繼續(xù)參照圖22a，遮蔽體裝置700包括遮蔽體葉片支撐板705，其形成有多個間隔開的遮蔽體接收狹槽706，每個狹槽被設(shè)置為接收多個管狀遮蔽體708之一的端部。在本例子中，每個被接收在狹槽內(nèi)的遮蔽體的形狀是環(huán)形，每個管狀遮蔽體件708是筒形的結(jié)構(gòu)，雖然這不是必要的。例如，可以使用任何適合的具有連續(xù)表面的封閉形狀，例如，旋轉(zhuǎn)的管狀表面(例如橢圓形)，或者封閉的多邊形，如三角形、菱形、六邊形、正方形或者矩形結(jié)構(gòu)。應(yīng)當(dāng)注意，為了增強(qiáng)讀者的理解，本示了線性分布的管狀遮蔽體和燈，但是也可以采用其它任何適合的燈和管狀遮蔽體的分配方式，如下文將要詳細(xì)描述的。
遮蔽體葉片支撐板705只被部分地圖示在兩個不同的垂直偏移位置，由705a和705b指示，然而，為了說明不同的操作條件，應(yīng)當(dāng)了解，為了一致性的移動，所有的管狀遮蔽體葉片能夠被單獨(dú)的遮蔽體支撐板支撐。遮蔽體葉片支撐板在朝向或者遠(yuǎn)離反射器板的方向上可動，如雙箭頭712所示，以展開或縮回遮蔽體葉片。至少可以使用一個執(zhí)行器，例如，具有連接到支撐板705的執(zhí)行器軸628的線性執(zhí)行器626。此外，為了完成希望的移動，也可以使用任何結(jié)構(gòu)的執(zhí)行器。遮蔽體葉片支撐板的最左側(cè)的部分705a圖示為處于完全的縮回位置，使得遮蔽體708的低端凹陷在反射器板710中一段合適的距離，在本例子中，該距離大約2.5mm。反射器板710可以，例如，被涂覆任何適合的高度放射性材料，例如，金、鋁、硫酸鋇、氧化鈦、氧化鋁其它不同的氧化物，以及它們的組合。
連續(xù)的環(huán)型狹槽714圍繞每個燈而成形，從而允許一個管狀遮蔽體708從其中移動通過。每個狹槽714具有一個寬度，其允許冷卻氣體，例如，空氣按照圖中所示的向下的方向經(jīng)過狹槽。這些冷卻氣體通過一組由支撐板705所具有的開口715，并隨后進(jìn)入狹槽714。在管狀遮蔽體和反射器板710冷卻之后，這些氣體就會沖擊到位于下方的窗/蓮蓬頭裝置上(如圖3和4所示)。具有反射性內(nèi)表面的燈接收套716被成形，用于接收每個燈704。反射性的表面可以通過下述方法形成，例如通過涂層(使用前段中所列出的材料)或者通過使用成型材料，但是，應(yīng)該記得不需要使用反射器。
管狀遮蔽體葉片的展開過程如圖22a由左至右所示，其中葉片708a-b縮回。葉片708c-f從左至右遞增的圖示了遮蔽體葉片的進(jìn)一步展開，葉片708g-h則圖示為處于完全的展開位置，與由附圖標(biāo)記705b指示的支撐板一起，以能夠提供連續(xù)冷卻氣體的方式被定位于最接近的抵在反射器板710上。如果需要阻擋冷卻氣體的流動，反射器板710和支撐板705可以被設(shè)置為互相協(xié)同地接合以完成該目的。
參照圖22b和22c，結(jié)合圖22a，前者圖示了圖22a所示管狀遮蔽體裝置的另一個實(shí)施例的底面透視圖，其中遮蔽體708處于縮回位置。圖22c圖示了選定的一些處于展開位置的遮蔽體708，當(dāng)然，應(yīng)當(dāng)了解，所有的遮蔽體可以同時的展開。應(yīng)當(dāng)理解，每個遮蔽體708具有一個內(nèi)部，其在從縮回位置到展開位置移動時至少部分地接收一個加熱元件。當(dāng)然，也可以實(shí)現(xiàn)為使得至少每個加熱元件的一部分在遮蔽體移動過程中的某一時間在遮蔽體的內(nèi)部的外面。例如，管狀遮蔽體能夠從其縮回位置被完全的拉出反射器板705。如另一個例子，管狀遮蔽體能夠被支撐件支撐，該支撐件從支撐板705向每個遮蔽體的主管狀體展開，限定了遮蔽體的內(nèi)部，使得加熱元件在遮蔽體位于完全的展開位置時，至少部分的位于閘管內(nèi)部的外部。
在本例中，完全展開的遮蔽體葉片展開到與低端反射器板表面715相距45mm。每個管狀遮蔽體葉片的直徑大約25mm。應(yīng)當(dāng)了解，所有給出的尺寸都是出于為了提供對許多種可能結(jié)構(gòu)之一的描述的精神，使得本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以利用本公開，而不作為限制?；谶@種幾何結(jié)構(gòu)，具有小角α和β，相對于完全展開的管狀遮蔽體708g所展示，遮蔽體被用于阻擋相當(dāng)部分的光線，否則在遮蔽體完全縮回時上述光線就會照在工件上。應(yīng)當(dāng)理解，考慮到整個公開，可以容易的對本圖進(jìn)行調(diào)整，對遮蔽體直徑和展開長度進(jìn)行改變。而且，應(yīng)當(dāng)注意，位于展開位置的遮蔽體，與本文中所描述的所有實(shí)施例一樣，也會吸收由工件和腔所發(fā)射和反射的能量。
參照圖23，圖示了用于遮蔽體裝置700的燈和管狀遮蔽體可選擇的分布的平面視圖。應(yīng)當(dāng)理解，相對于圖22a所示實(shí)施的主要區(qū)別在于燈/遮蔽體的分布。在本實(shí)施中，提供了一種由燈704和遮蔽體708所組成的六邊形陣列800。至少可以接受的接近，本分布可以被認(rèn)為是提供了一個圓形的熱源，從而完成對工件一致的加熱和冷卻。
用于成形管狀遮蔽體葉片708的適合的材料包括但并不限于鋁、不銹鋼、鈦、電鍍鈹、石墨復(fù)合/疊層材料以及合適的組合。反射器板710可以由下述材料制成，例如，使用鋁、不銹鋼、鈦以及合適的組合。遮蔽體708可以被固定地接收于遮蔽體葉片支撐板705，例如，通過機(jī)械的定位器、環(huán)氧樹脂、壓縮裝置、金屬連接件。至少遮蔽體葉片內(nèi)部主表面應(yīng)該可以吸收燈或熱源能量的輻射。內(nèi)表面也可以被設(shè)置為吸收由工件和其它能量轉(zhuǎn)移表面發(fā)出的輻射，雖然這不是必要的。每個管狀遮蔽體的最低端應(yīng)該能夠反射輻射，至少應(yīng)該反射燈或熱源的輻射，以至于在遮蔽體縮回時吸收盡可能少的輻射。優(yōu)選地，每個遮蔽體的外主表面是輻射吸收表面，從而吸收由工件發(fā)射和反射的輻射。如上文所述，涂層是一種提供這些性質(zhì)的方式，雖然可以利用許多中可選擇的實(shí)施方式，例如，由具有吸收或反射性質(zhì)的松散材料制造相關(guān)的組件。
出于不同的目的，遮蔽體裝置700的結(jié)構(gòu)可以按照許多種方式改變。例如，能夠使用基于燈陣列和/或的具有不同展開長度的遮蔽體以產(chǎn)生更為一致的冷卻。如另一個例子，可以通過調(diào)整展開長度的固定分配或者動態(tài)的結(jié)構(gòu)分配而完成對熱輪廓線的調(diào)節(jié)。這樣，所有的葉片能夠展開相同的量和/或不同的葉片能夠展開不同的量，即使是在不同的時間。
一般地，相對于本發(fā)明的遮蔽體裝置，預(yù)期采用不一致的遮蔽體結(jié)構(gòu)，例如，其中遮蔽體結(jié)構(gòu)不以同一種方式阻擋，或者不阻擋的相同程度的穿過整個遮蔽體陣列輻射，從而允許非一致性的調(diào)節(jié)。如另一個例子，遮蔽體裝置被預(yù)期為，具有超過一個執(zhí)行機(jī)構(gòu)，從而驅(qū)動不同集團(tuán)的遮蔽體，也是為了非一致性調(diào)節(jié)。
上文中詳細(xì)描述了許多種本發(fā)明的實(shí)施例，現(xiàn)在值得提出幾點(diǎn)與現(xiàn)有技術(shù)的對比。與現(xiàn)有技術(shù)不同，如本文所引用的，例如，Pas發(fā)明的，本發(fā)明的遮蔽體裝置在遮蔽體處于縮回(打開)位置時完全的避免了工件上出現(xiàn)的陰影。對于這一點(diǎn)，理解下述內(nèi)容很重要，即，這一優(yōu)點(diǎn)與以提供了工件高度一致的受熱的方式展開(關(guān)閉)或縮回(打開)遮蔽體的能力同時提供。這樣，與使用簡單地滑入加熱元和工件之間的位置的單片遮蔽體相比，本發(fā)明的遮蔽體裝置提供了一種熱處理的實(shí)施方式，通過開始和/或結(jié)束工序潛在地一致地穿越整個工件的表面。通過調(diào)整速度以及相對于燈的關(guān)閉或其它相關(guān)的觸發(fā)事件的遮蔽體葉片的展開起始時間，熱輪廓線可以被改變以獲得比以往可獲得的時間-溫度輪廓線更大的控制，上述觸發(fā)事件，例如，對工件溫度的讀取。這些優(yōu)點(diǎn)的組合-無陰影的一致性-被認(rèn)為是相對于現(xiàn)有技術(shù)來說具有壓倒性的優(yōu)勢。
現(xiàn)在參照圖24和25a，圖示了另一個按照本發(fā)明制造的系統(tǒng)的實(shí)施例，利用附圖標(biāo)記1000大致示出。系統(tǒng)1000包括遮蔽體裝置1002，其與圓形燈陣列1004(最好如圖25a所示)相配合，從而確定了加熱平面104，上述燈陣列是由燈704所組成的陣列。如上文所述，具有反射性內(nèi)表面的燈接收套716被成形，用于接收每一個燈704。應(yīng)當(dāng)理解，一致平面的圓形熱源被適當(dāng)?shù)亟咏?。如上文所述，管狀遮蔽體可以與其它形態(tài)的伸長燈一起使用，該燈包括在一個光管結(jié)構(gòu)(未示出)中，所述光管結(jié)構(gòu)被設(shè)置為與工件的主平面橫截的方向或法向上。工件(未示出)可以被支撐，例如，以與前文所述圖3和4所示的系統(tǒng)100相一致的方式。而且，蓮蓬頭和窗裝置可以被置于燈陣列和工件之間，例如，圖3和4所示蓮蓬頭裝置120。
繼續(xù)參照圖24和25a，遮蔽體1002包括遮蔽體葉片支撐板1006(如圖24所示)，其形成有多個間隔開的同心遮蔽體接收狹槽1008，每個狹槽被設(shè)置為接收多個管狀遮蔽體1010之一的端部。這些遮蔽體為筒形結(jié)構(gòu)，雖然這不是必要的，并且同心，使得遮蔽體1010a具有最小直徑，并且相對整個圓形燈陣列中最內(nèi)側(cè)的燈704而設(shè)置。然而，應(yīng)當(dāng)理解，中心燈不是必要的。遮蔽體1010b-d具有逐步增大的直徑以環(huán)繞逐步增多數(shù)量的燈704。反射器板1012具有一系列環(huán)形的遮蔽體接收狹槽1014a-d，每個狹槽具有逐漸增大的直徑，而且每個狹槽都用于以下述方式接收相應(yīng)的遮蔽體1010之一，即，為了展開和縮回的目的允許遮蔽體可移動的從中穿過。如上文中所述實(shí)施例的情況，任何適合的封閉形狀都能夠用于遮蔽體和反射器板接收狹槽(具有接近燈陣列的結(jié)構(gòu))，所述狹槽具有連續(xù)表面，如旋轉(zhuǎn)的管狀表面(例如，橢圓形)或者封閉的多邊形，如三角形、菱形、六邊形、正方形或矩形結(jié)構(gòu)。
遮蔽體葉片支撐板1006只被部分地圖示了三個不同的偏移位置，由附圖標(biāo)記1016a-c指示，為了描述不同的操作條件，然而，應(yīng)當(dāng)了解，為了一致移動的目的，所有的管狀遮蔽體葉片都能夠被單一的遮蔽體支撐板所支撐，雖然這不是必要的，例如，一個遮蔽體能夠被單獨(dú)的移動和/或集合兩個或更多的遮蔽體一起移動。在本例子中，遮蔽體葉片支撐板1006在朝向和遠(yuǎn)離反射器板1012的方向上可移動，如雙箭頭1020所示，以將遮蔽體1010移動穿過環(huán)型狹槽1014。可以使用一對執(zhí)行器例如，具有連接到支撐板1006的執(zhí)行器軸628的線性執(zhí)行器626。此外，任何適合的執(zhí)行器結(jié)構(gòu)都可以使用以完成希望的動作。遮蔽體葉片支撐板的中心部分圖示為處于完全縮回位置1016a，使得遮蔽體1010a的低端大至與反射器平面1012對齊，雖然遮蔽體的低端在這一位置可能輕微的凹陷，與上文中所描述的遮蔽體機(jī)構(gòu)700相同。反射器板1012可以，例如，被涂覆任何如上文所述的適合的高度反射性材料，例如，參照遮蔽體裝置700。
每個環(huán)形遮蔽體接收狹槽1014可以具有一個寬度，該寬度允許冷卻氣體，例如，空氣沿著圖中所示向下的方向穿過狹槽。該冷卻氣體先進(jìn)入并穿過一組由支撐板1006所具有的開口1022，隨后進(jìn)入狹槽1014。在冷卻管狀遮蔽體和反射器板1012之后，氣體就沖擊到下方的窗/蓮蓬頭裝置上(如圖3和4所示)。
圖24圖示了管狀遮蔽體葉片708展開的進(jìn)度，其中遮蔽體1010a完全地縮回。遮蔽體1010b圖示為位于完全展開和縮回之間的中間位置。遮蔽體1010c和1010d完全地展開，使得支撐板1006與反射器板1012以阻擋冷卻氣體的方式接觸。對冷卻氣體的阻擋在本實(shí)施例和其它實(shí)施例中可以用于減少組件上的物力和/或熱應(yīng)力，所述組件，例如，將遮蔽體與處理環(huán)境相分離的窗或蓮蓬頭。如果需要提供冷卻氣流，反射器板和支撐板之間就會提供一段距離，即使是在遮蔽體完全展開時。
參照圖25b和25c，前者圖示了處于縮回位置的遮蔽體1010的底面透視圖。圖25c則圖示了遮蔽體中一些選定的處于展開位置的遮蔽體，雖然，應(yīng)到了解，所有的遮蔽體可以同時地展開。
參照圖24和25a-c，應(yīng)當(dāng)理解，每個遮蔽體1010具有一個內(nèi)部，其在從縮回位置到展開位置的移動過程中至少部分地接收至少一個加熱元件，與上文中所描述的管狀遮蔽體裝置700相同?？蛇x擇的結(jié)構(gòu)也可以被使用，如同上文中關(guān)于管狀遮蔽體裝置700的描述。在本例子中，燈704被設(shè)置在與管狀遮蔽體結(jié)構(gòu)同心的圓中，使得管狀遮蔽體在每兩圈燈的同心圓之間展開。因此，遮蔽體的直徑每個一段距離就逐漸變大，所述距離取決于一圈燈的集合的增加。應(yīng)當(dāng)注意，管狀遮蔽體不需要位于每兩個由燈704組成的連續(xù)的同心環(huán)之間，例如，基于目標(biāo)性能決定。
在本例子中，完全展開的遮蔽體葉片從反射器板低表面展開了大約45mm的距離。每個管狀遮蔽體葉片的直徑大約25mm。應(yīng)當(dāng)了解，所有給出的尺寸都是出于為了提供對許多種可能結(jié)構(gòu)之一的描述的精神，使得本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以利用本公開，而不作為限制?；谶@種幾何結(jié)構(gòu)，一些有益數(shù)量的直接輻射被遮蔽體裝置阻擋。當(dāng)然，通過在幾何形狀上進(jìn)行適合的改變，本圖能夠被調(diào)節(jié)升高或降低，例如，改變遮蔽體到遮蔽體之間的間隔距離以及展開長度。而且，應(yīng)當(dāng)注意，位于展開位置的遮蔽體，與本文所描述的所有實(shí)施例一樣，也會吸收由工件和腔所發(fā)射和反射的能量。
用于制造管狀遮蔽體葉片1010的適合的材料包括上文中所述的那些材料，例如，參考遮蔽體裝置700的管狀遮蔽體。同樣地，上述材料的使用同樣可應(yīng)用于遮蔽體裝置100的其它組件中。遮蔽體葉片1010能夠被固定地接收在遮蔽體葉片支撐板1006中，例如，通過機(jī)械的定位器、環(huán)氧樹脂、壓縮裝置、金屬連接件。每個遮蔽體葉片的兩個主表面被設(shè)置為可以吸收燈或熱源能量的輻射，以及由工件或其它熱轉(zhuǎn)移表面發(fā)出的輻射。管狀遮蔽體的最低端表面應(yīng)當(dāng)能夠反射輻射，至少是反射燈或熱源的輻射，從而在遮蔽體縮回是盡可能少的吸收輻射。如上文所述，為了獲得需要的反應(yīng)，涂層以及任何其它適合的可選擇方案都能被采用。
與遮蔽體裝置700的情況相同，遮蔽體裝置1000的結(jié)構(gòu)可以以許多種不同的方式被改變，這些方式是出于對不同目的的考慮，例如，結(jié)合遮蔽體裝置700的討論。
關(guān)于如圖23和25所示的燈陣列，應(yīng)當(dāng)了解，無論有多少反射器，都沒有將反射板設(shè)置為接近每個燈的需要。例如，燈的軸對稱陣列能夠從平面反射器開始展開。如另一個例子，環(huán)狀燈結(jié)構(gòu)可以被“槽形”反射器向后推。管狀遮蔽體，如用于主題附圖中的，可以與這些設(shè)計同樣地應(yīng)用。應(yīng)當(dāng)提及，可以提供一個網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，例如，蜂窩狀結(jié)構(gòu)，為了一致地移動，其中所有管狀遮蔽體都相互地連接，或者整體的成形。盡管如此，這種網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)也被認(rèn)為是分段的輻射護(hù)罩，只要其可動地穿過加熱元件陣列。
參照圖25a，應(yīng)當(dāng)理解，任何管狀遮蔽體都能被分割成兩個或更多的段，這些段合作形成了整個結(jié)構(gòu)和內(nèi)部。作為一個例子，遮蔽體1010d能夠在線1016a和1016b被分割，從而將遮蔽體分成兩半。
參照圖26，圖示了另外一個按照本發(fā)明制造的遮蔽體裝置的實(shí)施例，利用附圖標(biāo)記1100大致示出。應(yīng)當(dāng)注意，本實(shí)施例與圖3-19所描述的實(shí)施例最為接近，在上述實(shí)施例中伸長的燈被排列為，使它們的伸長軸至少大概地與工件的主表面對齊，而遮蔽體則至少在每兩個相鄰的燈之間移動。由于上文中已經(jīng)提供了關(guān)于本裝置的細(xì)節(jié)，因此出于簡潔的目的就不再重復(fù)了。然而，引起注意的是，遮蔽體裝置1100包括了分段的遮蔽體葉片結(jié)構(gòu)1102，其由反射器板1103支撐并罩住。在本例子中，每個遮蔽體葉片1102具有兩段結(jié)構(gòu)。該圖中由左至右圖示了遮蔽體1102的展開進(jìn)度。遮蔽體1102a完全的縮回在反射器板1106中。遮蔽體1102b正從反射器板中移出。遮蔽體1102c已經(jīng)從反射器板中冒出，同時其第一段1108和第二段1110相互保持固定的關(guān)系。圖示的遮蔽體1102d為，在進(jìn)一步的展開過程中，段1110正從段1108中移出。遮蔽體1102e描述了遮蔽體段1110相對于段1108已經(jīng)完全展開。應(yīng)當(dāng)理解，在遮蔽體段之間的相對移動可能在展開/縮回過程中的任何時間發(fā)生，所描述的實(shí)施例并不想對其作出限制。
總而言之，本文公開了下述內(nèi)容作為通過對工件施加受控的熱量處理工件的系統(tǒng)的一部分，加熱裝置包括間隔開的加熱元件陣列，用于與工件處于相對關(guān)系，使工件受到其所產(chǎn)生的直接輻射。輻射罩包括多個元件，其被支撐以在以下位置之間移動，(i)縮回位置，在該位置所述直接輻射被允許到達(dá)工件上，和(ii)展開位置，在該位置多個元件以至少部分地阻擋直接輻射到達(dá)工件上并吸收由工件發(fā)射和反射的輻射的方式相配合，因而能過獲得與先前相比對時間-溫度輪廓線更大的控制。至少特定的工件在相鄰的加熱元件中移動，也就是將這些確定的工件在縮回和展開位置間移動。管狀的、彎曲的以及平板狀的結(jié)構(gòu)都能被采用。
雖然，每個前述的物理實(shí)施例描述了具有特殊的各自傾向的不同的組件，但是，應(yīng)當(dāng)了解，本發(fā)明可以具有多種特定的結(jié)構(gòu)，在這些結(jié)構(gòu)中不同的組件被置于更多樣的位置和相互方向上。而且，本文所描述的方法可以以無限種方式修改，例如，重新排序、修改和將各不同步驟重組。因此，應(yīng)當(dāng)清楚，本文中所公開的裝置和與之相聯(lián)系的方法可以以多種不同的結(jié)構(gòu)提供，并且能夠以無數(shù)種不同方式進(jìn)行修改，本發(fā)明可以表現(xiàn)為許多種其它的特定形態(tài)而不偏離本發(fā)明的精神和范圍。因此，這些例子和方法被認(rèn)為是說明性而不是限制性的，本發(fā)明并不限于本文所給出的細(xì)節(jié)，而可以在權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)進(jìn)行修改。
權(quán)利要求
1.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種設(shè)備包括加熱裝置，該加熱裝置具有一加熱平面，用于與所述工件保持相對關(guān)系，以使所述工件承受由所述加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射；分段的輻射罩，其包括多個段，所述多個段被支撐以在下述位置之間至少部分地通過所述加熱平面移動，(i)縮回位置，在該位置允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上，和(ii)展開位置，在該位置所述多個段以至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)工件上的方式相配合；用于將所述多個段在所述縮回位置和所述展開位置間移動的部件。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述加熱裝置包括加熱元件陣列，并且至少某些所述段以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式移動于所述加熱元件中的相鄰的加熱元件之間。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，每個所述加熱元件具有一加熱軸，使得所有加熱元件的加熱軸處于并排關(guān)系，并且每個所述段都是形成遮蔽體長度尺寸的伸長的遮蔽體件，使得所述伸長的遮蔽體件的長度尺寸至少相互對準(zhǔn)。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述加熱元件的加熱軸和所述伸長遮蔽體的遮蔽體長度尺寸被間隔成至少大致并排對齊的關(guān)系。
5.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述工件包括要暴露給所述加熱裝置的主表面，并且所述遮蔽體長度尺寸以并排間隔開的關(guān)系與工件的主表面至少大致對準(zhǔn)。
6.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述工件包括要暴露給加熱裝置的主表面，并且所述遮蔽體長度尺寸至少大致垂直于所述工件的主表面。
7.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述伸長的遮蔽體件被設(shè)置為使得至少一個伸長的遮蔽體件以在該遮蔽體件的縮回位置和展開位置之間移動的方式移動并至少部分地穿過在相鄰的加熱元件間的加熱平面。
8.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，包括支撐裝置，該支撐裝置支撐所述加熱元件，并且具有面對所述加熱裝置的表面，所述支撐裝置還具有多個伸長的遮蔽體狹槽，每個所述遮蔽體狹槽都包括形成于所述表面的遮蔽體開口，使得每個所述遮蔽體狹槽被設(shè)置為在所述縮回位置至少部分地接收所述伸長的遮蔽體件之一。
9.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述支撐裝置具有垂直于所述表面的厚度，并且具有穿過所述厚度的多個通孔，每個通孔包括成形于該表面上的一開口，用于對至少所述加熱元件進(jìn)行冷卻的氣體。
10.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述支撐裝置具有垂直于所述表面的厚度，并且在所述厚度內(nèi)具有至少一個冷卻槽，用于在該冷卻槽內(nèi)容納冷卻流體。
11.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，每個所述伸長的遮蔽體件包括一對相對的端部，在所述端部之間具有伸長長度，每個相對應(yīng)的端部被鉸鏈裝置支撐，該鉸鏈裝置包括能與所述支撐裝置鉸鏈地連接的鉸鏈臂，使得每個伸長的遮蔽體件在其縮回位置和展開位置間可旋轉(zhuǎn)地移動。
12.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，在所述展開位置，每個遮蔽體件可以至少是部分地定位于所述加熱平面和所述工件之間，以與其它遮蔽體件相互配合而阻擋所述直接輻射。
13.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個伸長的遮蔽體件在垂直于每個伸長的遮蔽體件的長度尺寸的橫截平面內(nèi)是弓形。
14.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中，每個伸長的遮蔽體件包括前邊緣和后邊緣，在所述展開位置一特定的伸長的遮蔽體件的前邊緣沿著一條接近線與相鄰的伸長的遮蔽體件相接近，所述接近線位于其前邊緣與相鄰伸長的遮蔽體件的后邊緣之間。
15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述接近線與相鄰遮蔽體的后邊緣相鄰。
16.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個伸長的遮蔽體件包括前邊緣和后邊緣，使得至少在遮蔽體位于所述縮回位置時所述前邊緣與所述加熱裝置相對，并且至少一個遮蔽體的所述前邊緣包括反射性顏色。
17.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個伸長的遮蔽體件包括在所述展開位置與所述加熱元件相對的內(nèi)表面，并且至少一個遮蔽體的所述內(nèi)表面支撐了反射型材料。
18.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個伸長的遮蔽體件包括在所述展開位置與所述工件相對的外表面，并且至少一個遮蔽體的所述外表面包括輻射吸收顏色。
19.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述伸長的遮蔽體件以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式至少部分地圍繞各自的伸長加熱元件而旋轉(zhuǎn)。
20.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述伸長的遮蔽體件中連續(xù)的遮蔽體件在交替的相鄰的加熱元件之間移動。
21.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個所述伸長的遮蔽體件被成形為大致的矩形平面板，所述矩形平面板具有一對相對的主表面并且具有一對相對的端部，所述主表面之間有一定厚度，所述端部之間具有所述遮蔽體長度尺寸，并且所述移動部件包括一對控制臂，所述一對控制臂定位于每個伸長的遮蔽體件相對的兩端，并且每個所述控制臂包括樞軸地連接在所述伸長的遮蔽體件之一上的控制臂端，使得每對控制臂所控制的移動導(dǎo)致一個樞軸地連接的伸長的遮蔽體件以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式相對這對控制臂樞轉(zhuǎn)(它們不與控制臂一起旋轉(zhuǎn)？)。
22.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述移動部件被設(shè)置為用于將所有的所述段在所述縮回位置和所述展開位置之間一致地移動。
23.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述加熱裝置包括處于并排關(guān)系的加熱元件陣列，并且在從所述縮回位置向所述展開位置移動時，每個所述段從縮回位置開始沿展開方向移動并穿過所述加熱元件陣列。
24.如權(quán)利要求23所述的設(shè)備，其中，所述展開方向至少大致由縮回位置朝向所述工件，并且每個所述段是被設(shè)置為從所述縮回位置向所述工件展開的遮蔽體件。
25.如權(quán)利要求24所述的設(shè)備，其中，每個所述遮蔽體件被成形為限定了主平面的至少大致平的板，并且所述展開方向至少大致地與主平面對齊，并朝向工件。
26.如權(quán)利要求24所述的設(shè)備，其中，每個遮蔽體件被成形為限定了遮蔽體內(nèi)部的管狀結(jié)構(gòu)，使得在每個遮蔽體件從所述縮回位置向所述展開位置移動時，至少一個所述加熱元件至少部分地被接收于每個遮蔽體件的所述遮蔽體內(nèi)部中。
27.如權(quán)利要求26所述的設(shè)備，其中，至少一個所述遮蔽體件被接收到另一個所述遮蔽體件的遮蔽體內(nèi)部中。
28.如權(quán)利要求26所述的設(shè)備，其中，所述管狀結(jié)構(gòu)為筒形。
29.如權(quán)利要求23所述的設(shè)備，其中，所述加熱元件被排列為一系列同心環(huán)，所述遮蔽體也被同心地排列，使得從所述陣列的中心點(diǎn)開始每個連續(xù)的管狀遮蔽體，從所述中心點(diǎn)向外，圍繞更多數(shù)量的所述環(huán)移動。
30.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述移動部件包括提供對所述段在縮回位置和展開位置之間移動的加速度和減速度進(jìn)行控制的部件。
31.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，每個遮蔽體件具有一遮蔽體平面，并且所述移動部件分別地采用朝向和遠(yuǎn)離所述加熱裝置方向的線性運(yùn)動將每個遮蔽體展開和縮回，使得每個遮蔽體在其遮蔽體平面內(nèi)移動。
32.如權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其中，每個遮蔽體具有一對相對的主表面，并且至少一個遮蔽體在所述相對的主表面上包括輻射吸收顏色。
33.如權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其中，每個遮蔽體件包括一對伸長的第一和第二相對主邊緣，所述第一伸長主邊緣被所述支撐板所接收，并且所述移動部件通過在朝向和遠(yuǎn)離所述加熱裝置的方向上線性地移動所述支撐板而將所述遮蔽體件一致地移動。
34.如權(quán)利要求33所述的設(shè)備，其中，當(dāng)所述遮蔽體在所述縮回位置和所述展開位置之間移動時，至少一個遮蔽體的所述第二相對主邊緣移動并穿過所述加熱平面。
35.如權(quán)利要求34所述的設(shè)備，其中，至少一個遮蔽體的所述第二相對主邊緣包括輻射反射性顏色。
36.如權(quán)利要求31所述的設(shè)備，其中，所述遮蔽體裝置包括在所述加熱裝置的一側(cè)上并與其面對的反射器板，該反射器板與所述工件相對，并且在所述反射器板上具有多個伸長遮蔽體狹槽，使得每個遮蔽體在展開和縮回的過程中在一個遮蔽體狹槽中移動。
37.如權(quán)利要求36所述的設(shè)備，其中，每個遮蔽體具有全面的外表面區(qū)域，至少一個選定的狹槽形成一內(nèi)部的周邊，其中所述反射器板在所述的選定狹槽內(nèi)具有多個軸承件，用于與所述全面的外表面的一部分相接觸，使得與所述軸承件遠(yuǎn)離的所述遮蔽體的全面的外表面，與所述狹槽的內(nèi)部的周邊間隔開，在所述狹槽的內(nèi)部的周邊中所述遮蔽體的全面的外表面由近似為所述軸承件厚度的間隔所接收。
38.如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其中，所述遮蔽體與所述狹槽間隔開，從而形成了多個冷卻槽，冷卻氣體能夠流過該冷卻槽從而提供至少對所述選定遮蔽體的冷卻。
39.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種方法，包括下述步驟提供一加熱裝置，該裝置具有一加熱平面，該平面用于與所述工件保持相對關(guān)系，使所述工件承受由加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射；配置一分段的輻射罩，使其包括多個段，所述多個段被支撐為在以下位置之間移動，(i)縮回位置，在該位置允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上，和(ii)展開位置，在該位置多個工件以至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件上的方式相配合。
40.如權(quán)利要求39所述的方法，其中，提供的所述加熱裝置包括一加熱元件陣列，使得某些所述段以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式移動于所述加熱元件中的相鄰的加熱元件之間。
41.如權(quán)利要求40所述的方法，其中，每個所述加熱元件在長度方向伸長，具有一加熱軸，使得所述加熱元件的加熱軸處于并排關(guān)系，并且每個所述段是作為形成遮蔽體長度尺寸的伸長的遮蔽體件而提供的，還包括將所述伸長的遮蔽體件的長度尺寸至少相互對準(zhǔn)。
42.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，將所述加熱元件的加熱軸和所述伸長遮蔽體的遮蔽體長度尺寸排列成間隔開的至少大致并排對齊的關(guān)系。
43.如權(quán)利要求42所述的方法，其中，所述工件包括要暴露給所述加熱裝置的主表面，還包括將所述遮蔽體長度尺寸與工件的主表面排列成間隔開的至少大致并排對齊的關(guān)系。
44.如權(quán)利要求42所述的方法，其中，所述工件包括要暴露給所述加熱裝置的主表面，還包括將所述加熱元件的加熱軸與所述遮蔽體長度尺寸排列成至少大致垂直于所述工件的主表面。
45.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，所述伸長的遮蔽體件被設(shè)置為使得每個伸長的遮蔽體件以在所述遮蔽體件的縮回位置和展開位置之間移動的方式移動并至少部分地穿過在相鄰的加熱元件間的加熱平面。
46.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，包括形成支撐裝置的步驟，所述支撐裝置用于支撐所述加熱元件并具有一個面對所述加熱元件的表面，所述支撐裝置還被成形為具有多個伸長的遮蔽體狹槽，每個所述遮蔽體狹槽都具有形成于所述表面的遮蔽體開口，使得每個所述遮蔽體狹槽都被設(shè)置為用于在所述縮回位置至少部分地接收所述伸長的遮蔽體件之一。
47.如權(quán)利要求46所述的方法，其中，所述支撐裝置被成形為具有垂直于所述表面的厚度，并且具有穿過所述厚度的多個通孔，每個通孔包括成形于該表面上的一開口，用于對所述加熱元件進(jìn)行冷卻的氣體。
48.如權(quán)利要求46所述的方法，其中，所述支撐裝置被成形為具有垂直于所述表面的厚度，并且在所述厚度內(nèi)具有至少一個冷卻槽，用于在該冷卻槽內(nèi)容納冷卻流體。
49.如權(quán)利要求46所述的方法，其中，所述伸長的遮蔽體件被設(shè)置為包括一對相對的端部，在所述端部之間具有伸長長度，還包括使用鉸鏈裝置將每個所述相對端部支撐的步驟，該鉸鏈裝置包括能與所述支撐裝置鉸鏈地連接的鉸鏈臂，使得每個所述伸長的遮蔽體件在其縮回位置和展開位置間旋轉(zhuǎn)地移動。
50.如權(quán)利要求31所述的方法，其中，在所述展開位置，每個伸長的遮蔽體件可以至少是部分地定位于所述加熱平面和所述工件之間，使其與其它遮蔽體件相互配合而阻擋所述直接輻射。
51.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，每個伸長的遮蔽體件被設(shè)置為在垂直于每個伸長的遮蔽體件的長度尺寸的橫截平面內(nèi)是弓形。
52.如權(quán)利要求51所述的方法，其中，每個伸長的遮蔽體件還被設(shè)置為具有前邊緣和后邊緣，在所述展開位置一特定的伸長的遮蔽體件的前邊緣沿著一條接近線與相鄰的伸長的遮蔽體件相接近，所述接近線位于所述相鄰伸長的遮蔽體件的前邊緣與后邊緣之間。
53.如權(quán)利要求52所述的方法，其中，所述接近線與所述相鄰遮蔽體的后邊緣相鄰。
54.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，每個伸長的遮蔽體件被設(shè)置為包括前邊緣和后邊緣，使得至少在遮蔽體位于所述縮回位置時所述前邊緣與所述加熱裝置相對，還包括將所述前邊緣成形為包括反射性顏色的步驟。
55.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，每個伸長的遮蔽體件被成形為包括內(nèi)表面，在所述展開位置該內(nèi)表面與所述加熱元件相對，還包括在所述內(nèi)表面支撐反射型材料的步驟。
56.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，每個伸長的遮蔽體件包括外表面，在所述展開位置該外表面與工件相對，并且至少一個遮蔽體的所述外表面包括輻射吸收顏色。
57.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，所述伸長的遮蔽體件被支撐為，以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式至少部分地圍繞各自的伸長加熱元件旋轉(zhuǎn)。
58.如權(quán)利要求41所述的方法，包括將所述伸長的遮蔽體件中連續(xù)的遮蔽體件設(shè)置為在交替的相鄰的加熱元件之間移動。
59.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，包括將每個所述伸長的遮蔽體件成形為大致的矩形平面板的步驟，所述矩形平面板具有一對相對的主表面并且具有一對相對的端部，所述主表面之間有一定厚度，所述端部之間具有所述遮蔽體長度尺寸，還包括設(shè)置移動部件的步驟，所述移動部件包括一對控制臂，一對控制臂定位于每個伸長的遮蔽體件相對的兩端，并且每個控制臂包括樞軸地連接在所述伸長的遮蔽體件之一上的控制臂端，使得每對控制臂所控制的移動導(dǎo)致一個樞軸地連接的伸長的遮蔽體件以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動的方式相對這對控制臂樞轉(zhuǎn)。
60.如權(quán)利要求39所述的方法，其中，所述移動部件被設(shè)置為用于將所有的所述段在所述縮回位置和所述展開位置之間一致地移動。
61.如權(quán)利要求39所述的方法，其中，所提供的所述加熱裝置包括以并排關(guān)系排列的一加熱元件陣列，并且在從所述縮回位置向所述展開位置移動時，其中每個所述段從所述縮回位置開始沿展開方向移動并穿過所述加熱元件陣列。
62.如權(quán)利要求61所述的方法，其中，所述展開方向至少大致由所述縮回位置朝向所述工件，并且將每個所述段配置成從所述縮回位置向所述工件展開的遮蔽體件。
63.如權(quán)利要求62所述的方法，其中，每個所述遮蔽體件被成形為限定了主平面的至少大致平的板，并且所述展開方向至少大致地與所述主平面對齊，并朝向所述工件。
64.如權(quán)利要求62所述的方法，包括將每個遮蔽體件被成形為限定了遮蔽體內(nèi)部的管狀結(jié)構(gòu)，使得在每個遮蔽體件從所述縮回位置向所述展開位置移動時，一個所述加熱元件至少部分地被接收于每個遮蔽體件的所述遮蔽體內(nèi)部中。
65.如權(quán)利要求64所述的方法，其中，至少一個所述遮蔽體件被接收到另一個所述遮蔽體件的遮蔽體內(nèi)部中。
66.如權(quán)利要求64所述的方法，其中，所述管狀結(jié)構(gòu)為筒形。
67.如權(quán)利要求39所述的方法，其中，所述移動部件被設(shè)置為包括提供對所述段在縮回位置和展開位置之間的移動的加速度和減速度進(jìn)行控制的部件。
68.如權(quán)利要求62所述的方法，包括將所述加熱元件排列為一系列同心環(huán)，所述遮蔽體也被同心地排列，使得從所述陣列的中心點(diǎn)開始每個連續(xù)的管狀遮蔽體，從所述中心點(diǎn)向外，圍繞更多數(shù)量的所述環(huán)移動。
69.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，每個遮蔽體件具有一遮蔽體平面，并且所述移動部件被設(shè)置為分別地采用朝向和遠(yuǎn)離所述加熱裝置方向的線性運(yùn)動將每個遮蔽體展開和縮回，使得每個遮蔽體在其遮蔽體平面內(nèi)移動。
70.如權(quán)利要求69所述的方法，其中，每個遮蔽體具有一對相對的主表面，還包括在至少一個遮蔽體的所述相對的主表面上提供輻射吸收顏色。
71.如權(quán)利要求41所述的方法，其中，包括將反射器板排列在所述加熱裝置的一側(cè)上并與其面對，該反射器板與所述工件相對，并且在所述反射器板上具有多個伸長遮蔽體狹槽，使得每個遮蔽體在展開和縮回的過程中在一個遮蔽體狹槽中移動。
72.如權(quán)利要求71所述的方法，其中，每個遮蔽體具有全面的外表面區(qū)域，并且所述方法包括形成至少一個選定的狹槽以形成一內(nèi)部的周邊，并且將所述反射器板形成為具有多個軸承件，用于與所述全面的外表面的一部分相接觸，使得與所述軸承件遠(yuǎn)離的所述遮蔽體的全面的外表面，與所述狹槽的內(nèi)部的周邊間隔開，在所述狹槽的內(nèi)部的周邊中所述遮蔽體的全面的外表面由近似為所述軸承件厚度的間隔所接收。
73.如權(quán)利要求72所述的方法，其中，所述遮蔽體與所述狹槽間隔開，從而形成多個冷卻槽，冷卻氣體能夠流過該冷卻槽從而提供對至少所述選定遮蔽體的冷卻。
74.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種設(shè)備包括多個伸長的加熱元件，用于使所述工件承受由所述加熱元件所產(chǎn)生的輻射；支撐裝置，其具有至少一個用于支撐所述加熱元件的表面，所述加熱元件并排地處于與所述工件相對的關(guān)系；多個伸長的遮蔽體件，至少大致與所述伸長加熱元件對齊，并且在所述遮蔽體件允許所述輻射從所述加熱元件發(fā)出直接撞擊在工件上的縮回位置和使得所述遮蔽體件由所述縮回位置開始從所述表面向外移動，以被夾在選定的相鄰加熱元件之間的展開位置之間可移動，在所述展開位置，以一種防止至少部分所述輻射直接照到工所述件上的方式設(shè)置；用于在所述縮回位置和所述展開位置之間支撐和移動所述伸長的遮蔽體件的部件。
75.如權(quán)利要求74所述的設(shè)備，其中，在所述展開位置，所述遮蔽體件還被夾在所述工件和所述加熱元件之間。
76.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種方法，包括下述步驟提供由多個伸長的加熱元件，用于使所述工件承受由所述加熱元件產(chǎn)生的輻射；形成一支撐裝置，其具有至少一個用于支撐所述加熱元件的表面，所述加熱元件并排地處于與所述工件相對的關(guān)系；支撐多個伸長的遮蔽體件，使其至少大致與所述伸長加熱元件對齊，并且在所述遮蔽體件允許所述輻射從所述加熱元件發(fā)出直接撞擊在所述工件上的縮回位置和使得所述遮蔽體件由所述縮回位置開始從所述表面向外移動，以被夾在所述加熱元件與所述工件之間的展開位置之間可移動，在所述展開位置，以一種防止至少部分所述輻射直接照到所述工件上的方式設(shè)置。
77.如權(quán)利要求76所述的方法，其中，在所述展開位置，所述遮蔽體件還被夾在所述工件和所述加熱元件之間。
78.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一設(shè)備包括加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；輻射罩，被支撐，以在以下位置之間樞轉(zhuǎn)地移動，(i)縮回位置，至少部分地位于與所述工件相對的所述加熱裝置的一側(cè)上以允許所述直接輻射到達(dá)工件上，和(ii)展開位置，在所述加熱裝置和所述工件之間，在所述展開位置，所述輻射罩被用于至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件。
79.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種方法包括下述步驟提供一加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；支撐輻射罩，以在以下位置之間在所述加熱裝置和所述工件之間選擇性地樞轉(zhuǎn)移動，(i)縮回位置，至少部分地位于與所述工件相對的所述加熱裝置的一側(cè)上以允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上，和(ii)展開位置，在所述展開位置，所述輻射罩被用于至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件。
80.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一設(shè)備包括加熱裝置，其包括間隔開的一加熱元件陣列，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射；分段的輻射罩，包括多個段，所述多個段被支撐為在以下位置之間移動，(i)縮回位置，該位置允許所述直接輻射照射所述工件，和(ii)展開位置，在該位置所述多個段以至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)工件上的方式相配合；并被設(shè)置為在位于相鄰的加熱元件之間以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動這些特定段的方式移動至少某些所述輻射罩中的段。
81.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種方法包括以下步驟提供一加熱裝置，該加熱裝置包括間隔開的一加熱元件陣列，用于與工所述件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射；設(shè)置分段的輻射罩，該輻射罩包括多個段，所述多個段被支撐為在以下位置之間移動，(i)縮回位置，該位置允許所述直接輻射照射所述工件，和(ii)展開位置，在該位置所述多個段以至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件上的方式相配合，所述多個段并被設(shè)置為在位于相鄰的加熱元件之間以在所述縮回位置和所述展開位置之間移動這些特定段的方式移動至少某些所述輻射罩中的段。
82.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理具有處理寬度的工件的系統(tǒng)中，一種設(shè)備包括加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件的處理寬度承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；輻射罩，被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述輻射罩阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得所述輻射罩在所述縮回狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動一段小于所述處理寬度的距離；用于在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動所述輻射罩的部件。
83.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理具有處理寬度的工件的系統(tǒng)中，一種方法，包括下述步驟提供一加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件的處理寬度承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；支撐輻射罩，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述輻射罩阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得所述輻射罩在所述縮回狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動一段小于所述處理寬度的距離；在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動輻射罩。
84.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理具有處理寬度的工件的系統(tǒng)中，一種設(shè)備包括加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件的處理寬度承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；輻射罩，包括多個元件，所述元件被支撐，以以下狀態(tài)在之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述輻射罩阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得每個所述元件在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動一段小于所述處理寬度的距離；用于在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動所述輻射罩的部件。
85.如權(quán)利要求84所述的設(shè)備，其中，所述加熱裝置包括由加熱元件所組成的裝置，并且所述輻射罩包括多個段，作為上述的多個元件，這些段在所述展開狀態(tài)相互配合至少部分地阻擋所述直接輻射，而且在向所述打開狀態(tài)的移動中至少縮回在選定的相鄰的所述加熱元件之間。
86.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理具有處理寬度的工件的系統(tǒng)中，一種方法，包括下述步驟提供一加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件的處理寬度承受由所述加熱裝置發(fā)出的直接輻射；設(shè)置輻射罩，使其包括多個元件，所述元件被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述輻射罩阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得每個所述元件在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動一段小于所述處理寬度的距離；在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動所述輻射罩。
87.如權(quán)利要求86所述的方法，其中，提供的所述加熱裝置包括由所述加熱元件所組成的裝置，并且所述輻射罩被設(shè)置為包括多個段，作為上述的多個元件，這些段在所述展開狀態(tài)相互配合至少部分地阻擋所述直接輻射，而且在向所述打開狀態(tài)的移動中至少縮回在選定的相鄰的所述加熱元件之間。
88.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種設(shè)備包括加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射，所述加熱裝置包括多個間隔開的加熱元件；輻射罩包括多個罩元件，所述罩元件被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述罩元件至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得每個所述罩元件至少在相鄰的加熱元件之間移動；用于在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動所述輻射罩的部件。
89.在一個通過對工件施加受控的熱量來處理工件的系統(tǒng)中，一種方法包括下述步驟提供一加熱裝置，用于與所述工件保持相對的關(guān)系，使得所述工件承受由所述加熱裝置產(chǎn)生的直接輻射，所述加熱裝置包括多個間隔開的加熱元件；設(shè)置輻射罩，使其包括多個罩元件，所述罩元件被支撐，以在以下狀態(tài)之間移動，(i)打開狀態(tài)，該狀態(tài)允許所述直接輻射到達(dá)所述工件上而且不會在所述工件上造成陰影，和(ii)展開狀態(tài)，在該狀態(tài)中所述罩元件至少部分地阻擋所述直接輻射到達(dá)所述工件，使得每個所述罩元件至少在相鄰的加熱元件之間移動；在所述打開狀態(tài)和所述展開狀態(tài)之間移動所述輻射罩。
全文摘要
作為通過對工件施加受控的熱量處理工件(122)的系統(tǒng)的一部分，加熱裝置包括間隔開的加熱元件(102)陣列，用于與工件保持相對的關(guān)系，使得工件承受所產(chǎn)生的直接輻射。輻射罩(200)包括多個元件(207)，所述元件被支撐為可以在以下位置之間移動，(i)縮回位置，該位置允許直接輻射到達(dá)工件，和(ii)展開位置，在該位置中多個元件以至少部分地阻擋直接輻射到達(dá)工件并且吸收由工件發(fā)出和發(fā)射的輻射的方式相配合，因而獲得與先前相比對時間－溫度輪廓線更大的控制。至少某些元件(207)在相鄰的加熱元件(102)之間以這些特定的元件在縮回和展開位置之間移動的方式移動?？梢允褂霉軤睢澢?、板狀元件結(jié)構(gòu)。
文檔編號F27D11/00GK1879001SQ200480033393
公開日2006年12月13日 申請日期2004年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月12日
發(fā)明者丹尼爾·J·迪瓦恩, 李榮載, 保羅·J·蒂曼斯, 弗蘭克·A·萊馬 申請人:馬特森技術(shù)公司