專(zhuān)利名稱(chēng):等離子顯示面板的塑性裝置及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明是關(guān)于等離子顯示面板的,更詳細(xì)說(shuō)明,它是關(guān)于降低塑性溫度的等離子顯示面板的塑性裝置及利用此裝置的等離子顯示面板的制造方法。
背景技術(shù):
一般的等離子顯示面板中,在前面板與后面板之間形成的隔板成為一個(gè)個(gè)單元,在各單元內(nèi)充滿(mǎn)了氖(Ne),氦(He)或者氖及氦的混合氣體(Ne+He)等主放電氣體與含有少量的氙(Xe)的惰性氣體。高頻率電壓引起放電時(shí),惰性氣體產(chǎn)生真空紫外線(Vacuum Ultraviolet rays)并使隔板之間形成的發(fā)光來(lái)顯示畫(huà)面,這樣的等離子顯示結(jié)構(gòu)如圖1中表示。
圖1是一般等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖1所示,前面玻璃(100)上部形成由透明電極及總線電極構(gòu)成的掃描電極(101)與維持電極(102)配對(duì)構(gòu)成的維持電極對(duì),掃描電極(101)與維持電極(102)上形成限制放電電流,絕緣電極之間的絕緣層(103)。這樣的絕緣體層(103)上附著由氧化鎂(MgO)構(gòu)成的的保護(hù)層(104)。以上部分構(gòu)成前面基板。
相反,后面基板的后面玻璃(110)上形成尋址電極(111),此電極與上述前面基板的掃描電極(101)及維持電極(102)交叉排列,尋址電極(111)上部形成白包White-Bag(112)。此白包(112)上部形成區(qū)分單位放電單元的隔板(113),而這些隔板(113)之間噴涂R,G,B熒光劑形成熒光劑層(114)。
具有以上結(jié)構(gòu)的等離子顯示面板經(jīng)過(guò)曝光、顯像及蝕刻(etching)工程、塑性工程等過(guò)程形成。
這里,曝光工程是指為了形成一定的圖案,掩膜(MASK)覆蓋后用紫外線等光源進(jìn)行曝光的過(guò)程。
然后,進(jìn)行顯像及蝕刻(etching)工程形成等離子顯示面板的圖案。
最后,通過(guò)塑性工程和設(shè)備完成一定的圖案。
通過(guò)以上的工程形成組成等離子顯示面板的電極、絕緣體層、隔板及熒光劑層。在這些電極、絕緣層、隔板及熒光劑層經(jīng)過(guò)上述各個(gè)過(guò)程,噴涂漿料形成,其中塑性工程一般在500℃以上的高溫塑性溫度下完成圖案形成過(guò)程。
但因?yàn)楹芨叩乃苄詼囟戎屑庸ぃ懊婧竺婊逯械那昂竺娌AЪ鞍AХ勰┑慕^緣層、隔板、熒光劑層會(huì)發(fā)生變形,導(dǎo)致發(fā)生面板的均勻性下降等問(wèn)題。
為了防止如此產(chǎn)生的面板均勻性下降,通常利用耐高溫的玻璃,但這種玻璃的價(jià)格昂貴,導(dǎo)致降低等離子顯示面板的生產(chǎn)收益。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明目的是通過(guò)改善等離子顯示面板的制造工程時(shí)使用的塑性裝置,可提高等離子顯示面板的生產(chǎn)收益及面板的均勻性。本發(fā)明的目的還在于提供這樣的等離子顯示面板的塑性裝置及利用此裝置的等離子顯示面板的制造方法。
為了完成上述目的,本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置包含塑性爐、微波源裝置、向上述微波源裝置提供電源的電源供給裝置及將微波從微波源裝置傳遞到上述塑性爐的波導(dǎo)。
上述塑性爐上形成包含加熱器的基板支持臺(tái)與基板為特征。
上述微波源裝置為磁控管是其特征之一。
上述微波的頻率為300MHz以上3000MHz以下為特征。
利用以上等離子顯示面板的塑性裝置的等離子顯示面板的制造方法包括以下階段基板上部噴涂包含玻璃粉末的一定涂漿料的階段;將漿料進(jìn)行曝光并顯像來(lái)形成圖案的階段;形成圖案的漿料在塑性爐內(nèi)被塑性的階段。
上述一定的漿料用于絕緣體、隔板、熒光劑中一個(gè)以上組成為特點(diǎn)。
上述漿料的塑性溫度是400℃以上500℃以下為特征。
圖1是一般等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明中等離子顯示面板塑性裝置的示意圖。
圖3是本發(fā)明中等離子顯示面板的制造方法的順序圖。
<圖中符號(hào)說(shuō)明>
200塑性爐210基板支持臺(tái)220加熱器230基板240波導(dǎo) 250微波源裝置260電源供給裝置具體實(shí)施方式下面,參考附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。
圖2是本發(fā)明中等離子顯示面板塑性裝置的示意圖。
如圖2所示,本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置由塑性爐(200)、波導(dǎo)(240)、微波源裝置(250)、電壓供給裝置(260)等部分組成。
首先觀察塑性爐(200),塑性爐(200)上形成基板支持臺(tái)(210),支持臺(tái)(210)上包含提供熱量的加熱器(220),基板支持臺(tái)(210)上部置基板(230)。啟動(dòng)塑性爐(200)內(nèi)部的加熱器(220),在一定的塑性溫度中進(jìn)行塑性工程。波導(dǎo)(240)連接塑性爐(200)與微波源裝置(250),將微波從微波源裝置(250)傳遞到塑性爐(200)。
微波源裝置(250)是產(chǎn)生微波的裝置,是一種稱(chēng)為磁控管的振蕩器。這樣的磁控管產(chǎn)生微波,此微波是頻率為300MHz以上3000MHz以下的微波。最后,電源供給裝置(260)是指提供微波產(chǎn)生需要的電源的裝置。
如上,塑性爐(200)內(nèi)的下部支持基板(230),在塑性爐的上部提供微波時(shí)只能利用包含在基板支持臺(tái)(210)的加熱器(220)產(chǎn)生的熱量來(lái)進(jìn)行形成圖案的塑性工程。但在本發(fā)明中,除了加熱器(220)產(chǎn)生的熱量,微波產(chǎn)生熱量也能被利用于塑性工程,因此可降低制作等離子顯示面板過(guò)程中實(shí)際塑性溫度。同時(shí),因?yàn)槲⒉ㄔ囱b置(250)產(chǎn)生的微波是極超短波,可以在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到設(shè)定溫度,縮短塑性工程時(shí)間。
利用這樣的塑性裝置形成的本發(fā)明中等離子顯示面板的制造方法如下。
圖3是現(xiàn)有等離子顯示面板的制造方法順序圖。
如圖3所示,現(xiàn)有等離子顯示面板的制造方法包含圖3的左側(cè)列出的前面基板制造過(guò)程;右側(cè)列出的后面基板的制造過(guò)程;結(jié)合通過(guò)前面制造過(guò)程形成的前面基板與后面基板的過(guò)程。
首先介紹圖3左側(cè)列出的前面基板制造過(guò)程。準(zhǔn)備前面玻璃(300)后,在準(zhǔn)備的前面玻璃上部形成掃描電極與維持電極(301)。這樣的掃描電極與維持電極由透明電極及總線電極組成。形成掃描電極與維持電極的方法如下,首先,在由氧化銦(indium)與氧化銦錫ITO(Indium Tin Oxide)物質(zhì)形成的透明電極膜上部利用干燥的薄膜進(jìn)行層壓,用形成一定圖案的遮光模(Photo Mask)曝光后,通過(guò)顯像及蝕刻(etching)工程形成透明電極。如此形成的透明電極上部用銀(Ag)漿料以全屏印刷方式印刷后,與透明電極的形成過(guò)程相同進(jìn)行曝光并形成總線電極。然后,在550℃左右的溫度加熱進(jìn)行塑性時(shí),透明電極與總線電極被一體化形成掃描電極與維持電極。形成這樣的維持電極時(shí)無(wú)法利用本發(fā)明的塑性裝置,原因在于微波會(huì)導(dǎo)致形成總線電極的銀等金屬物被融化并污染面板。
如此形成維持電極對(duì)后,維持電極對(duì)上部形成絕緣層(302),在包含維持電極對(duì)的前面玻璃上噴涂包含玻璃粉末的絕緣體漿料后,利用本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置形成絕緣層。這時(shí),塑性漿料的塑性溫度為400℃以上500℃以下,可在比現(xiàn)有的塑性溫度低的溫度下進(jìn)行塑性。
這樣形成的絕緣層上形成由氧化鎂(MgO)構(gòu)成的保護(hù)層后(303)前面基板就完成了。
然后介紹圖3右側(cè)列出的前面基板制造過(guò)程。同前面基板一樣準(zhǔn)備后面玻璃(310)后,在后面玻璃上,與上述維持電極對(duì)交叉形成尋址電極(311)。這樣的尋址電極與前面基板的掃描電極及維持電極相同,由透明電極及總線電極組成,其形成方法也與上述方法相同。
然后,尋址電極上形成白包White-Bag(312),白包White-Bag上形成分隔放電單元的隔板(313)。這樣的隔板形成過(guò)程如下用包含玻璃粉末的漿料多次印刷后進(jìn)行曝光,用噴沙法形成隔板的圖案后,利用本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置塑性形成隔板。這時(shí),塑性隔板漿料的塑性溫度是400℃以上500℃以下,可在比現(xiàn)有的塑性溫度低的溫度下進(jìn)行塑性。
被這樣形成的隔板區(qū)分的放電單元中噴涂熒光劑形成熒光層(314)。這樣的熒光層成型方法如下包含玻璃粉末的熒光劑漿料噴涂到放電單元后,進(jìn)行塑性化以形成熒光層。這時(shí),塑性熒光劑漿料的塑性溫度也是比現(xiàn)有塑性溫度低的400℃以上500℃以下。
將這樣形成的前面基板與后面基板結(jié)合(320)完成本發(fā)明的等離子顯示面板(330)。
同上,利用本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置制造等離子顯示面板,可降低絕緣層、隔板、熒光層的塑性溫度,因此絕緣層、隔板、熒光層漿料中包含的玻璃粉末及前后玻璃的材質(zhì)可以使用價(jià)格便宜的Sodarlime玻璃,以此提高等離子顯示面板的生產(chǎn)收益同時(shí)可均勻加熱試片,因此也可以提高面板的均勻性。
通過(guò)上述發(fā)明可發(fā)現(xiàn),本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)成可被本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在未對(duì)本發(fā)明的技術(shù)思想或者特征進(jìn)行變更而以其他具體形式被使用。但以上提出的實(shí)施例不代表本發(fā)明的所有方面,本發(fā)明不僅限于上述實(shí)施例,本發(fā)明的范圍由后面提出的具體權(quán)利要求范圍而定,從權(quán)利要求范圍的意義、范圍及其等價(jià)概念導(dǎo)出的所有變更或者變更的形態(tài)都應(yīng)屬于本發(fā)明的范圍。
常用的漿料組成高分子有機(jī)物丙烯酸系聚合體或者纖維素Cellouse系聚合體,溶劑有機(jī)溶劑,如芳烴溶劑。
增塑劑如鄰苯二甲酸二辛酯DOP,己二酸二辛酯DOA,苯二酸(Adipate)系增塑劑,鄰苯二甲二丁酯DBP,鄰苯二甲酸二壬酯DINP鄰苯二甲酸二異葵酯DIDP等苯二甲酸系增塑劑,或者其他帶有增塑性特性的增塑劑。
分散劑帶有親水性與疏水性的分散劑,如表面活性劑本發(fā)明的效果是通過(guò)上述發(fā)明可知,本發(fā)明在塑性爐外連接提供微波的微波源裝置與電源供給裝置來(lái)形成本發(fā)明的等離子顯示面板的塑性裝置,由此降低等離子顯示面板的圖案形成所需要塑性工程中塑性溫度并縮短塑性工程的時(shí)間。
因此,可提高等離子顯示面板的生產(chǎn)收益性同時(shí)均勻加熱試片,有提高面板的均勻性的效果。
權(quán)利要求
1.等離子顯示面板的塑性裝置,包含以上部分的等離子顯示面板的塑性裝置塑性爐;微波源裝置;其特征是設(shè)有向上述微波源裝置提供電源的電源供給裝置;另設(shè)有將上述微波從微波源裝置傳遞到塑性爐內(nèi)的波導(dǎo)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示面板的塑性裝置,其特征是上述塑性爐內(nèi)形成包含加熱器的基板支持臺(tái)與基板為特征的等離子顯示面板塑性裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示面板的塑性裝置,其特征是等離子顯示面板的塑性裝置中,上述微波源裝置是磁控管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示面板的塑性裝置,其特征是上述微波的頻率范圍是300MHz至3000MHz為特征的等離子顯示面板塑性裝置。
5.利用塑性裝置的等離子顯示面板的制造方法,其特征是包括以下階段的等離子顯示面板的制造方法基板上噴涂包含玻璃粉末的漿料階段;將上述漿料進(jìn)行曝光及顯像形成圖案的階段;形成上述圖案的漿料在微波被提供的塑性爐塑性的階段。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的利用塑性裝置的等離子顯示面板的制造方法,其特征是上述漿料是用于絕緣體、隔板、熒光劑中一個(gè)以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的利用塑性裝置的等離子顯示面板的制造方法,其特征是上述塑性爐內(nèi)的塑性溫度為400℃至500℃。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于等離子顯示面板的塑性裝置及利用此裝置的等離子顯示面板的制造方法,本發(fā)明中等離子顯示面板的塑性裝置包括塑性爐,微波源裝置,向微波源裝置提供電源的電源供給裝置及將微波源裝置的微波傳遞到塑性爐內(nèi)的波導(dǎo)。利用塑性裝置的等離子顯示面板的制造方法,包括以下階段的等離子顯示面板的制造方法基板上噴涂包含玻璃粉末的漿料階段;將上述漿料進(jìn)行曝光及顯像形成圖案的階段;形成上述圖案的漿料在微波被提供的塑性爐塑性的階段。
文檔編號(hào)F24C7/02GK1866449SQ200610082170
公開(kāi)日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2006年5月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月5日
發(fā)明者金甫鉉 申請(qǐng)人:樂(lè)金電子(南京)等離子有限公司