專利名稱：烹調(diào)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及一種烹調(diào)裝置，更具體而言，涉及一種能有效冷 卻烹調(diào)裝置的后部空間的烹調(diào)裝置，在該烹調(diào)裝置中，安置有諸如對 流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、高壓電容器之類的加熱元件。
背景技術(shù)：
韓國專利申請公開No. 2005-0083504公開了一種烹調(diào)裝置的典型 實(shí)例，該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于烹調(diào)腔一側(cè)的主要部件，包括磁控管、 高壓變壓器、高壓電容器以及冷卻風(fēng)扇。韓國專利申請公開No. 2006-0037003公開了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔上 側(cè)的主要部件、并將對流加熱器組件容納于該烹調(diào)腔的后壁，這些主 要部件包括磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。韓國實(shí)用新型申 請公開No.1999-0010444公開了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于 烹調(diào)腔下側(cè)的主要部件和操作板，這些主要部件包括磁控管、高壓 變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
另外，韓國實(shí)用新型申請公開No. 1998-0016489公開了一種烹調(diào) 裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔側(cè)壁的主要部件，并設(shè)置有從該 烹調(diào)腔的頂壁開始而到達(dá)其側(cè)面的冷卻流徑，這些主要部件包括磁控 管、高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
韓國專利申請公開No. 1998-0053939公開了作為烹調(diào)裝置典型實(shí) 例的微波爐的門，其中，該門設(shè)置有用于阻擋微波的門框以及環(huán)繞該 門框的阻流蓋。
韓國專利申請公開No. 1995-0003729公開了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有從烹調(diào)腔的側(cè)面開始、經(jīng)過烹調(diào)腔的底側(cè)而到達(dá)門的烹調(diào) 流徑。
韓國專利申請公開No. 2004-0108050公開了烹調(diào)裝置中所使用的 操作面板的示例，其中，該操作面板設(shè)置有使用靜電的玻璃觸摸鍵盤。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
本發(fā)明的一個目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能有效冷卻 其后部空間。
本發(fā)明的另一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能冷卻其后 部空間和上部空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能有效冷卻 其后部空間、上部空間和門。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置通過從下部 到上部的冷卻氣流來冷卻其后部空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能利用在其 后部空間內(nèi)所形成的冷卻流徑的流將烹調(diào)腔內(nèi)所產(chǎn)生的熱量和氣味除 去。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能更高效地 利用主要留給對流加熱器組件的后部空間，并能通過冷卻流徑有效冷 卻該后部空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置配備有布置 在后部空間內(nèi)的諸如磁控管、高壓變壓器、高壓電容器等等之類的加熱元件，并能有效冷卻這些加熱元件。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置配備有安置 于后部空間下部的冷卻風(fēng)扇，并能通過沿著由該冷卻風(fēng)扇所形成的冷 卻流徑而布置主要部件來對這些主要部件進(jìn)行冷卻。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置通過利用其 后部空間而具有高度和寬度增加的更大烹調(diào)腔，并能有效冷卻該后部 空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置通過利用盤 子代替轉(zhuǎn)盤、并通過利用烹調(diào)裝置的后部空間而具有高度、寬度和深 度可調(diào)的烹調(diào)腔。
技術(shù)方案
為了實(shí)現(xiàn)上述目的和優(yōu)點(diǎn)，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 后部空間，位于烹調(diào)腔后方；以及冷卻流徑，位于后部空間并從后部 空間的下部延伸至后部空間的上部，以冷卻該后部空間。通過此構(gòu)造， 使得通過從后部空間的下部運(yùn)動至其上部的流來冷卻烹調(diào)裝置的后部 空間成為可能。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括加熱構(gòu)件，包括位 于后部空間的對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、以及高壓電容 器中的至少兩個。通過此構(gòu)造，能有效利用、并通過冷卻流徑有效冷 卻主要設(shè)計用于對流加熱器組件的后部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，冷卻流徑由分別用于冷卻至少兩個加熱 構(gòu)件的至少兩個單獨(dú)的子通道組成。通過此構(gòu)造，就空間利用而言， 將需要冷卻的加熱構(gòu)件有效地布置在后部空間內(nèi)，并對這些加熱構(gòu)件 進(jìn)行有效冷卻。在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于后部空間的下 部的冷卻風(fēng)扇，用于產(chǎn)生流以形成冷卻流徑。通過此構(gòu)造，可將冷卻 風(fēng)扇布置于后部空間，并能夠有效地冷卻后部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于冷卻流徑上的 分隔件，用于防止冷卻風(fēng)扇上方的流回流到冷卻風(fēng)扇下方。但是，本 技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，用以阻擋反方向上的全部流的分 隔壁不是必需的。
在本發(fā)明的另一方面中，加熱構(gòu)件包括磁控管，而烹調(diào)裝置包括 位于冷卻流徑上、用于將流導(dǎo)向至磁控管的流導(dǎo)向件。通過此構(gòu)造， 選擇性并有效地冷卻磁控管是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括設(shè)置于烹調(diào)腔的一 側(cè)的入口；以及位于冷卻流徑上的流導(dǎo)向件，用于將流導(dǎo)向至入口。 通過此構(gòu)造，能有效地將后部空間內(nèi)所形成的冷卻流徑的流導(dǎo)向至烹調(diào)腔。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括入口，設(shè)置于烹調(diào) 腔的一側(cè)；以及流導(dǎo)向件，用于將從磁控管流出的流導(dǎo)向至入口。通 過此構(gòu)造，能同時執(zhí)行磁控管上的冷卻操作和烹調(diào)腔上的冷卻操作， 并能有效地將流導(dǎo)向至烹調(diào)腔。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 位于烹調(diào)腔上方的上部空間；位于烹調(diào)腔后方的后部空間；以及從后 部空間延伸至上部空間的冷卻流徑。通過此構(gòu)造，能有效冷卻烹調(diào)裝 置的后部空間和上部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括冷卻風(fēng)扇，位于后
8部空間的下部并產(chǎn)生流以形成冷卻流徑。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括第一加熱構(gòu)件，位 于后部空間；以及第二加熱構(gòu)件，位于上部空間并比第一加熱構(gòu)件產(chǎn) 生更多的熱量。通過此構(gòu)造，烹調(diào)裝置能通過冷卻流徑有效地進(jìn)行冷 卻操作。第一加熱構(gòu)件的示例包括磁控管、高壓變壓器、高壓電容器 等等，而第二加熱構(gòu)件的示例包括鹵素加熱器等等。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括加熱構(gòu)件，位于后 部空間并包括對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器 中的至少一個；以及位于上部空間的加熱器。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 門，位于烹調(diào)腔的前部并包括控制面板；后部空間，位于烹調(diào)空間后 方；以及冷卻流徑，從后部空間的下部延伸至后部空間的上部，以冷 卻后部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于烹調(diào)腔上方的上 部空間，且設(shè)置門用以覆蓋上部空間和烹調(diào)腔的前表面。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括中繼襯底，位于上 部空間內(nèi)并與控制面板協(xié)作。通過此構(gòu)造，使得中繼襯底與上述門的 控制面板協(xié)作，同時將中繼襯底安裝在冷卻流徑上是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中，冷卻流徑從后部空間延伸至上述門。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括環(huán)繞后部空間的蓋 子，冷卻流徑的入口形成在該蓋子處。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括下部空間，位于烹調(diào)腔下方；以及底座，該底座形成下部空間的下表面和后部空間的下 表面。
本發(fā)明的額外和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將部分地在隨后的描述中闡 述，并且部分地從該描述將是顯而易見的，或可以通過本發(fā)明的實(shí)踐 習(xí)得。


通過參照附圖描述本發(fā)明的某些實(shí)施例，本發(fā)明的上述方面和特 征將更明顯，在附圖中
圖1是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例；
圖3和圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其 它示例；以及
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。
具體實(shí)施例方式
下文將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明。
圖1是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖，其示出了烹 調(diào)腔100、門200、位于烹調(diào)腔100上方的上部空間300、位于烹調(diào)腔 100后方的后部空間400、位于烹調(diào)腔100兩側(cè)上的側(cè)部空間500、以 及位于烹調(diào)腔100下方的下部空間600。
烹調(diào)腔100為用于烹飪食物的空間，并由內(nèi)殼110限定。加熱器 120設(shè)置于烹調(diào)腔100內(nèi)部的上部處，盤子或擱物架130安置在烹調(diào)腔 100內(nèi)。內(nèi)殼110包括形成在側(cè)面上的入口(未示出)和出口 111，用于 形成氣流路徑，以除去烹調(diào)腔100內(nèi)的熱量和氣味。加熱器120的示 例為護(hù)套加熱器(sheath heater)。利用盤子130代替圓形轉(zhuǎn)盤會使得烹 調(diào)腔100的寬度和長度(深度)發(fā)生改變，該烹調(diào)腔的更改受到轉(zhuǎn)盤的限
10制。烹調(diào)腔100的一側(cè)設(shè)置有用于引導(dǎo)盤了130的導(dǎo)向件140。另外， 烹調(diào)腔100的前側(cè)和后側(cè)分別設(shè)置有前框架150和后框架160。前框架 150具有用于在上部空間300和門200之間形成流徑的開口 151。后框 架160也具有形成于上側(cè)、用于與后部空間400連通的開口 161。
門200的下部被鉸接至烹調(diào)腔100，使得門200能打開和關(guān)閉烹調(diào) 腔100。門200形成為用以覆蓋烹調(diào)腔100和上部空間200。門200由 把手210、前板220、輸入感測單元230、門板240、控制面板250、中 板260、支架270、門框280以及阻流蓋290組成。
把手210為用戶打開或關(guān)閉門200所使用的部分，并能由螺釘(未 示出)固定至前板220。合乎需要地，把手210具有至少一個通道(未 示出)，該通道以與外部連通的方式沿把手210的縱向而形成于其內(nèi) 部，從而減小總重量，也能最小化在烹飪期間從烹調(diào)腔100傳遞到用 戶的熱量。
前板220理想地由透明玻璃制成，以使得用戶能看到烹調(diào)腔100 的內(nèi)部，并且包括按鈕的顯示單元(未示出)可附接或涂布到該前板 220上，這些按鈕用于用戶選擇烹調(diào)過程，或用于指示烹調(diào)裝置的運(yùn)行 狀態(tài)。
輸入感測單元230為識別用戶選擇了哪個按鈕的部分。輸入感測 單元230在位于由玻璃制成的前板220后方的情況下能由玻璃觸摸單 元組成，并能被用作靜電傳感器。可使用帶材將玻璃觸摸單元附接至 前板220。輸入感測單元230位于門200的面向烹調(diào)腔100的上部空間 300的上部區(qū)域，且此結(jié)構(gòu)確保更寬敞的烹調(diào)腔，并協(xié)助用戶無障礙地 輕易看到烹調(diào)腔100的內(nèi)部。
門板240為固定門200的其它部件220、 250等的部分，并具有用 于用戶查看烹調(diào)腔100內(nèi)部的開口 241。此外，門板240在其下側(cè)具有出口 (未示出)，沿著經(jīng)由上部空間300從冷卻風(fēng)扇420 (將對其進(jìn)行 描述)延伸至門200的冷卻流徑運(yùn)動的流通過該出口被排出。
控制面板250為用于根據(jù)用戶輸入來控制烹調(diào)裝置的總體操作的 部分。為此，控制面板250與輸入感測單元230以及中繼襯底350 (將 對其進(jìn)行描述)協(xié)作，并從輸入感測單元230的后側(cè)固定到門板240。 合乎需要地，控制面板250設(shè)置有諸如LED (發(fā)光二極管)之類的發(fā)光 源，并將從該發(fā)光源發(fā)出的光照射到顯示單元(未示出)。
中板260為被固定到門板240的部分，同時分別從前板220和門 框280間隔開。中板260的基本功能為阻擋熱量從烹調(diào)腔100傳遞到 前框架220和把手210。合乎需要地，中板260安裝于門板240處，從 而由冷卻風(fēng)扇420 (將對其進(jìn)行描述)產(chǎn)生的流經(jīng)由后部空間400和上 部空間300進(jìn)入門200，隨后在支架270 (將對其進(jìn)行描述)引導(dǎo)下在 中板260和前板220之間運(yùn)動。上述流通過門板240的出口 (未示出) 排出。
支架270從控制面板250的后側(cè)固定至門板240。支架270用于保 護(hù)各自包括電子部件的輸入感測單元230和控制面板250，以使它們免 受來自烹調(diào)腔100的熱量和微波、以及由冷卻風(fēng)扇420吹送的流的破 壞，并引導(dǎo)流而使得流在門板240和前板220之間運(yùn)動。
門框280容納于門板240內(nèi)，并被用以阻擋微波泄漏到烹調(diào)裝置外面。
阻流蓋290為用于朝著烹調(diào)腔100定位的門200的蓋子，并具有 形成在其上側(cè)、與前框架150的開口 151對應(yīng)的開口 291。開口 291優(yōu) 選地由微孔組成，從而在門200被打開的同時防止食物或雜質(zhì)進(jìn)入門 200。上部空間300為位于烹調(diào)腔100的上方、由外殼310限定的空間， 并包括加熱器320、導(dǎo)波器330、絕緣頂板340以及中繼襯底350?？?選地，也可設(shè)置用于照亮烹調(diào)腔100的燈(未示出)。
外殼310具有以一間距包圍烹調(diào)腔100的頂側(cè)和兩側(cè)的形狀，并 被連接至前框架150和后框架160。根據(jù)需要，外殼310可具有出口 311，從而已運(yùn)動到烹調(diào)腔IOO周圍和安裝于烹調(diào)裝置內(nèi)的加熱元件周 圍的流可被排到外界。
加熱器320的示例為卣素加熱器。由于上述加熱器320會受微波 的影響，因此，與由護(hù)套加熱器形成的加熱器120不同，將加熱器320 安裝于內(nèi)殼110的上側(cè)，從而將熱量從上向下供應(yīng)至烹調(diào)腔100內(nèi)。
導(dǎo)波器330從后部空間400延伸至上部空間300，并被用以將從磁 控管(未示出)產(chǎn)生的微波供應(yīng)至烹調(diào)腔100。為達(dá)到此目的，烹調(diào)腔 100的上表面處設(shè)置有端口 331 (參見圖2)。
絕緣頂板340防止由容納在內(nèi)殼110中的加熱器120所產(chǎn)生的熱 量傳遞到上部空間300，并具有覆蓋除加熱器320和導(dǎo)波器330之外的 烹調(diào)腔IOO上部的形狀。
中繼襯底350從上部空間300的一側(cè)安裝在絕緣頂板340上，并 與控制面板250互相配合以運(yùn)行包括安置于后部空間400的磁控管(將 對其進(jìn)行描述)的部件。
圖2示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例。參照 圖l和圖2，后部空間400為位于烹調(diào)腔IOO的后方、由蓋子410限定 的空間，并包括共同組成烹調(diào)裝置的部件室的冷卻風(fēng)扇420、對流加熱 器組件430、以及諸如磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460 之類的加熱元件。
13蓋子410被連接至后框架160或外殼310，以覆蓋上部空間300 和后部空間400，且蓋子410的下部被連接至底座610。蓋子410或底 座610的下部處設(shè)置有用于空氣進(jìn)入冷卻風(fēng)扇420的入口 411。
冷卻風(fēng)扇420沿著后部空間400的寬度方向而定位于后部空間400 的下部，并包括兩側(cè)上用以冷卻安裝于上側(cè)的部件的流產(chǎn)生單元421 和422。由于后部空間400、上部空間300和門200以連通的方式被構(gòu) 造，因此，能通過冷卻風(fēng)扇420冷卻烹調(diào)裝置的整個區(qū)域。另外，冷 卻風(fēng)扇420設(shè)置有分隔壁423，該分隔壁用于防止由冷卻風(fēng)扇420所產(chǎn) 生的流回流至冷卻風(fēng)扇420。分隔壁423具有以使得流流向后部空間 400上部的方式形成在兩側(cè)上的開口 424和425。流產(chǎn)生單元421和422 之間的空間426處設(shè)置有馬達(dá)(未示出)，該馬達(dá)用于驅(qū)動流產(chǎn)生單元 421禾口 422。
圖3和圖4示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其它 應(yīng)用示例。參照圖1-4，除了圖2所示的結(jié)構(gòu)，后部空間還設(shè)置有用于 將氣流導(dǎo)向磁控管440的流導(dǎo)向件441，以及用于將從磁控管440出來 的氣流引導(dǎo)至入口 112的流導(dǎo)向件442，入口 112形成在烹調(diào)腔100的 側(cè)面上。此結(jié)構(gòu)，尤其是流導(dǎo)向件442，使得穩(wěn)定并高效地將冷卻風(fēng)扇 420所產(chǎn)生的氣流導(dǎo)入烹調(diào)腔100、并有效冷卻作為其中一個核心部件 的磁控管成為可能。
對流加熱器組件430包括風(fēng)扇431、加熱器432、內(nèi)加熱器蓋433、 外加熱器蓋434以及馬達(dá)435。合乎需要地，將絕熱材料(未示出)安置 在內(nèi)加熱器蓋433和外加熱器蓋434之間。上述對流加熱器組件430 必須具有馬達(dá)435。由于馬達(dá)435從后部空間400向后突出而安裝，因 此后部空間400必須具有足夠深以至少容納馬達(dá)435的腔室?；趯?此空間的關(guān)注，可將烹調(diào)裝置的運(yùn)行過程中所使用的主要部件中的大 體積部件440、 450和/或460安置在后部空間400內(nèi)。這樣，即便損失
14了烹調(diào)腔100在縱向上的部分，但烹調(diào)腔100也能在側(cè)向和垂直方向
上擴(kuò)展。此外，通過利用盤子代替轉(zhuǎn)盤，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能改
變烹調(diào)腔100的高度、寬度和深度。而且，通過將冷卻風(fēng)扇420安置 于后部空間400的下部，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用后部空間400， 而且還能冷卻加熱元件440、 450和/或460。并且，通過將冷卻風(fēng)扇420 設(shè)置于后部空間400的下部，并使得后部空間400、上部空間300、門 200、烹調(diào)腔100以及側(cè)部空間500彼此連通，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置 的整個部分能由冷卻風(fēng)扇420有效冷卻。另外，由于冷卻風(fēng)扇420沿 著后部空間400的寬度方向而安裝，因此設(shè)置在后部空間400內(nèi)的諸 如對流加熱器組件430、磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460 之類的加熱元件能被有效冷卻，且流能運(yùn)動至上部空間300、側(cè)部空間 500和烹調(diào)腔IOO，并通過形成在烹調(diào)腔IOO下部處的底座上的出口 611 排出。同樣，通過設(shè)置分隔壁423和開口 424、 425，根據(jù)本發(fā)明的烹 調(diào)裝置能形成流徑和流，并有效地和選擇性地冷卻加熱元件。此外， 后框架160還可包括用于與側(cè)部空間500連通的開口 162。開口 162使 得從后部空間400至側(cè)部空間500的直接氣流成為可能，并產(chǎn)生至后 部空間400兩側(cè)的氣流，借此促進(jìn)冷卻處理并將氣流推動至后部空間 400的兩側(cè)上。
磁控管440、高壓變壓器450以及高壓電容器460為用在烹調(diào)裝置 的運(yùn)行中的主要部件，它們各自產(chǎn)生大量熱量。磁控管440安置在開 口 424的上方，而高壓變壓器450和高壓電容器460安置在開口 425 的上方?？筛淖冞@些加熱元件的布置。
側(cè)部空間500為位于烹調(diào)腔100兩側(cè)上、由外殼310限定的空間， 且側(cè)部空間500合乎需要地與上部空間300、后部空間400以及下部空 間600連通，并通過入口 112和出口 111與烹調(diào)腔100連通。由冷卻 風(fēng)扇420產(chǎn)生的流從后部空間400、上部空間300、烹調(diào)腔100、側(cè)部 空間500運(yùn)動而最終到達(dá)下部空間600。此時，在上部空間300內(nèi)運(yùn)動 并朝向側(cè)部空間500的流能將通過出口 111從烹調(diào)腔100出來的流導(dǎo)向至下部空間600。
下部空間600為位于烹調(diào)腔100下方、由底座610限定的空間。 底座610被連接至前框架150和后框架160以支承烹調(diào)裝置，底座610 包括出口611，從而將來源于冷卻風(fēng)扇420的流、以及烹調(diào)腔100內(nèi)產(chǎn) 生的氣味和熱量排出。盡管下部空間600由后框架160從后側(cè)限定， 但還是將底座610連接至后框架160上方的蓋子410。因此，底座610 還可用作限制后部空間400的下部的構(gòu)件。出口 611的位置并不特限 于此，因此，出口 611可位于出口 111的側(cè)面上，或優(yōu)選地位于底座 610的中心，以形成足夠長的流徑。由于熱空氣流通過出口 611排出， 因此不應(yīng)將烹調(diào)裝置安置在熱敏廚房用具上。為了防止上述廚房用具 受到過熱空氣的破壞，可以以一定距離將板(未示出)連接至底座610， 以便在橫向方向上排出熱量。
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。如附圖所示， 從后部空間400產(chǎn)生的流經(jīng)由上部空間300運(yùn)動至形成在烹調(diào)腔100 的兩側(cè)上的側(cè)部空間500，而流的一部分從開口 151流出，并流向門 200。同時，流的另一部分可通過形成在后框架160中的開口 162而流 向側(cè)部空間。到達(dá)上部空間400的流冷卻加熱器320和中繼襯底350。 合乎需要地，沿著流的方向?qū)⒅欣^襯底350設(shè)置到絕緣頂板340，從而 最小化對流的阻礙。經(jīng)過側(cè)部空間500的流轉(zhuǎn)向下部空間600，并通過 形成于底座610中心處的出口 611(參看圖l)排出。盡管對出口 610的 位置沒有特殊限制，但優(yōu)選地將出口 610定位在底座610的中心周圍， 這是因?yàn)殡S著流盡可能長時間地在烹調(diào)裝置內(nèi)部運(yùn)動或循環(huán)，會進(jìn)行 足量的熱交換。此時，為了保護(hù)安置烹調(diào)裝置的底表面，可以以一定 距離將保護(hù)板612連接至底座610，以便可在橫向上排出流。另外，經(jīng) 過側(cè)部空間500的流將通過烹調(diào)腔100的出口 111排出的流導(dǎo)向至下 部空間600。同時，經(jīng)過阻流蓋290的開口 291的氣流由支架270引導(dǎo) 而在前板220和中板260之間運(yùn)動，并通過形成在門板240的底面上 的出口 242排出。因而，由支架270覆蓋的輸入感測單元230 (參見圖l)和控制面板250 (參見圖l)能免受熱量和氣流的損害，中板260的一 側(cè)通過氣流來阻擋熱量(盡管氣流被支架270阻擋，但該氣流還是可 用于阻擋熱量傳遞至輸入感測單元230和控制面板240。)，而中板 260的另一側(cè)通過停滯空氣層來阻擋熱量。結(jié)果，從烹調(diào)腔100產(chǎn)生的 熱量被阻擋，且不會被傳遞至門200或把手210 (參見圖l)的外面。
如到現(xiàn)在為止所說明的，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能有效冷卻該烹調(diào)裝 置的后部空間。
此外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置也能冷卻該烹調(diào)裝置的后部空間和上部 空間。
而且，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能有效冷卻該烹調(diào)裝置的后部空間、上 部空間和門。
另外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能通過從后部空間下部運(yùn)動到后部空間 上部的流來冷卻該烹調(diào)裝置的后部空間。
并且，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用后部空間內(nèi)所形成的冷卻流徑的 流來除去烹調(diào)腔內(nèi)所產(chǎn)生的熱量和氣味。
同樣，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能有效冷卻由于將對流加熱器組件安裝 在烹調(diào)腔后方而必然形成的后部空間，并能通過所形成的冷卻流徑有 效地冷卻該后部空間。
而且，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置，可將諸如磁控管、高壓變壓器以 及高壓電容器等等之類的加熱元件布置于后部空間，并能對它們進(jìn)行 有效地冷卻。
此外，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置，可將冷卻風(fēng)扇安置于烹調(diào)裝置的后部空間的下部，以便能有效地冷卻沿著冷卻風(fēng)扇所形成的冷卻流徑 而布置主要部件。
而且，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能通過利用后部空間而增加烹調(diào)腔的高 度和寬度，并能有效冷卻該后部空間。
另外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能通過利用盤子代替轉(zhuǎn)盤、并通過利用 烹調(diào)裝置的后部空間而調(diào)節(jié)烹調(diào)腔的高度、寬度和深度。
盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員將 了解到本發(fā)明不應(yīng)限于所描述的優(yōu)選實(shí)施例，而且在由所附權(quán)利要求 所限定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)可作各種變更和改型。
權(quán)利要求
1. 一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑位于所述后部空間并從所述后部空間的下部延伸至所述后部空間的上部，以冷卻所述后部空間。
2. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括加熱構(gòu)件，所述加熱構(gòu)件包括位于所述后部空間的對流加熱器組 件、磁控管、高壓變壓器、以及高壓電容器中的至少兩個。
3. 如權(quán)利要求2所述的烹調(diào)裝置，其中所述冷卻流徑由至少兩個 單獨(dú)的子路徑組成，所述子路徑分別用于冷卻所述多個加熱構(gòu)件中的 至少兩個。
4. 如權(quán)利要求1所述的烹調(diào)裝置，還包括位于所述后部空間的下部的冷卻風(fēng)扇，用于產(chǎn)生流以形成所述冷 卻流徑。
5. 如權(quán)利要求4所述的烹調(diào)裝置，還包括位于所述冷卻流徑上的分隔件，用于防止所述冷卻風(fēng)扇上方的流 回流到所述冷卻風(fēng)扇下方。
6. 如權(quán)利要求2所述的烹調(diào)裝置，其中所述加熱構(gòu)件包括磁控管， 而所述烹調(diào)裝置包括位于所述冷卻流徑上的用于將流導(dǎo)向至所述磁控 管的流導(dǎo)向件。
7. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括 設(shè)置于所述烹調(diào)腔一側(cè)的入口；以及位于所述冷卻流徑上的流導(dǎo)向件，用于將流導(dǎo)向至所述入口。
8. 如權(quán)利要求6所述的烹調(diào)裝置，還包括 設(shè)置于所述烹調(diào)腔的一側(cè)的入口；以及流導(dǎo)向件，用于將從所述磁控管流出的流導(dǎo)向至所述入口。
9. 一種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間； 位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間；以及 從所述后部空間延伸至所述上部空間的冷卻流徑。
10. 如權(quán)利要求9所述的烹調(diào)裝置，還包括-冷卻風(fēng)扇，所述冷卻風(fēng)扇位于所述后部空間的下部并產(chǎn)生流以形 成所述冷卻流徑。
11. 如權(quán)利要求9所述的烹調(diào)裝置，還包括 位于所述后部空間的第一加熱構(gòu)件；以及位于所述上部空間的第二加熱構(gòu)件，第二加熱構(gòu)件比所述第一加 熱構(gòu)件產(chǎn)生更多的熱量。
12. 如權(quán)利要求9所述的烹調(diào)裝置，還包括加熱構(gòu)件，所述加熱構(gòu)件位于所述后部空間并包括對流加熱器組 件、磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器中的至少一個；以及 位于所述上部空間的加熱器。
13. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔的前方的門，包括控制面板； 位于所述烹調(diào)空間的后方的后部空間；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述后部空間的下部延伸至所述后部 空間的上部，以冷卻所述后部空間。
14. 如權(quán)利要求13所述的烹調(diào)裝置，還包括 位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間；以及其中所述門定位為覆蓋所述上部空間和所述烹調(diào)腔的前表面。
15. 如權(quán)利要求14所述的烹調(diào)裝置，還包括中繼襯底，所述中繼襯底位于所述上部空間并與所述控制面板協(xié)作。
16. 如權(quán)利要求13所述的烹調(diào)裝置，其中所述冷卻流徑從所述后 部空間延伸至所述門。
17. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括環(huán)繞所述后部空間的蓋子，所述冷卻流徑的入口形成在所述蓋子處。
18. 如權(quán)利要求1所述的烹調(diào)裝置，還包括 位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；以及底座，所述底座形成所述下部空間的下表面和所述后部空間的下 表面。
全文摘要
為了提供一種能有效冷卻烹調(diào)裝置的后部空間的烹調(diào)裝置，本發(fā)明公開了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔；后部空間，位于所述烹調(diào)腔后方；以及冷卻流徑，位于所述后部空間并從所述后部空間的下部延伸至所述后部空間的上部，以冷卻所述后部空間。通過此構(gòu)造，使得通過從所述后部空間的下部運(yùn)動至其上部的流來冷卻所述烹調(diào)裝置的所述后部空間成為可能。
文檔編號F24C7/02GK101512229SQ200680055809
公開日2009年8月19日 申請日期2006年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月12日
發(fā)明者李泰勛 申請人:Lg電子株式會社