專利名稱：300mm立式氧化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于一種用于300mm硅片熱處理的氧化爐設(shè)備，具體的是 一種用于300mm硅片氧化處理的立式氧化爐中石英舟旋轉(zhuǎn)裝置。
背景技術(shù)：
氧化爐是給硅片進(jìn)行氧化、退火等熱處理工藝的半導(dǎo)體設(shè)備，現(xiàn)用的氧 化爐，大都是臥式結(jié)構(gòu)，其溫度均勻性及控溫精度不夠理想，操作和控制不 夠精確靈活，自動化程度低、生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量不夠高，不能適應(yīng)300mm 硅片的生產(chǎn)需求。因此，需要提出一種結(jié)構(gòu)改進(jìn)的立式氧化爐。在此前的立 式氧化爐的石英舟升降機(jī)構(gòu)上，石英舟在工藝過程中是不帶旋轉(zhuǎn)的，石英舟 在升降機(jī)構(gòu)上只做上升、下降運(yùn)動，造成硅片表面的溫度、氣體濃度均不夠 均勻，影響產(chǎn)品質(zhì)量。在300mm硅片生產(chǎn)線上影響尤為嚴(yán)重。因此，需要 對其進(jìn)行改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)問題，提出一種300mm立式氧 化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，該裝置結(jié)構(gòu)科學(xué)、設(shè)計新穎、完善適用，位置控制靈 活精確，有力地改善了硅片表面的溫度及氣體的均勻性狀態(tài)，大大提高了硅 片氧化膜的質(zhì)量。
本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的300mm立式氧化爐 石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于設(shè)有步進(jìn)電機(jī)，在石英舟的下方設(shè)有SiC轉(zhuǎn) 盤，在該SiC盤的底部中央設(shè)有固定軸，固定軸的下端設(shè)有帶輪，該帶輪通 過傳動帶與步進(jìn)電機(jī)傳動連接，做工藝時，SiC轉(zhuǎn)盤與保溫筒連接，帶動保 溫桶及舟旋轉(zhuǎn)，傳遞扭矩；在所述固定軸的下部設(shè)有舟旋轉(zhuǎn)定位裝置，控制 舟的精確位置；在固定軸的上部設(shè)有包裹在固定軸外圍的密封腔，密封腔設(shè) 有氮?dú)膺M(jìn)、出氣管與外面氮?dú)鈿庠催B通， 一定流量的高純氮?dú)馔ㄟ^密封腔， 使其壓力大于工藝腔的工藝氣體，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)密封；在所述SiC轉(zhuǎn)盤的下面設(shè)有爐門，在該爐門中設(shè)有水冷卻腔；爐門底部固定設(shè)有軸罩，該軸罩包覆在 密封腔的外面，并在軸罩的底端與所述SiC轉(zhuǎn)盤的固定軸之間設(shè)有密封環(huán)； 在爐門下面垂直設(shè)有數(shù)個緩沖器，該緩沖器為圓柱體，圓柱體里面垂直設(shè)有 頂柱，在該頂柱下面設(shè)有壓簧，緩沖器沿圓周均勻分部，調(diào)節(jié)舟的平衡，使 之保持水平，同時避免工藝門關(guān)閉時石英門板與石英管法蘭之間的壓緊力過 大；在爐門四周下面設(shè)有密封擋板，防止微量工藝氣體流入微環(huán)境。
本實(shí)用新型的旋轉(zhuǎn)裝置具有結(jié)構(gòu)完善，密封性能好，位置控制精確，能 保證硅片溫度及氣流的均勻，從而提高硅片加工質(zhì)量的優(yōu)點(diǎn)。

圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明實(shí)施例參見附
圖，300mm立式氧化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于設(shè)有步進(jìn)電機(jī)2，石 英舟的下方設(shè)有SiC材料制成的轉(zhuǎn)盤1，在該SiC轉(zhuǎn)盤的底部中央設(shè)有固定 軸l.l，固定軸的下端設(shè)有帶輪1.2，該帶輪通過傳動帶2.1與步進(jìn)電機(jī)傳動 連接；在所述固定軸的下部設(shè)有舟旋轉(zhuǎn)定位裝置3，在固定軸的上部設(shè)有包 裹在固定軸外圍，采用聚四氟乙烯制成的密封腔4，密封腔設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)出氣 管4.1與外面氮?dú)鈿庠催B通，在所述SiC轉(zhuǎn)盤的下面設(shè)有爐門5，在該爐門 中設(shè)有水冷卻腔5.1，爐門底部固定設(shè)有軸罩5.2，該軸罩包覆在密封腔的外 面，并在軸罩的底端與所述SiC轉(zhuǎn)盤的固定軸之間設(shè)有密封環(huán)5.3;在爐門 下面設(shè)有三個緩沖器6，該緩沖器為圓柱體，圓柱體里面垂直設(shè)有頂柱6.1， 在該頂柱下面設(shè)有壓簧6.2;在爐門四周下面還設(shè)有密封擋板7。
權(quán)利要求1、一種300mm立式氧化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于設(shè)有步進(jìn)電機(jī)(2)，在石英舟的下方設(shè)有SiC轉(zhuǎn)盤(1)，在該SiC盤的底部中央設(shè)有固定軸(1.1)，固定軸的下端設(shè)有帶輪(1.2)，該帶輪通過傳動帶(2.1)與步進(jìn)電機(jī)傳動連接；在所述固定軸的下部設(shè)有舟旋轉(zhuǎn)定位裝置(3)，在固定軸的上部設(shè)有包裹在固定軸外圍的密封腔(4)，密封腔設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)、出氣管(4.1)與外面氮?dú)鈿庠催B通；在所述SiC轉(zhuǎn)盤的下面設(shè)有爐門(5)，在該爐門中設(shè)有水冷卻腔(5.1)，爐門底部固定設(shè)有軸罩(5.2)，該軸罩包覆在密封腔的外面，并在軸罩的底端與所述SiC轉(zhuǎn)盤的固定軸之間設(shè)有密封環(huán)(5.3)；在爐門下面設(shè)有數(shù)個緩沖器(6)，該緩沖器為圓柱體，圓柱體里面垂直設(shè)有頂柱(6.1)，在該頂柱下面設(shè)有壓簧(6.2)；在爐門四周下面還設(shè)有密封擋板(7)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種300mm立式氧化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，設(shè)有步進(jìn)電機(jī)，石英舟的下方設(shè)有SiC轉(zhuǎn)盤，在該SiC盤的底部中央設(shè)有固定軸，固定軸的下端設(shè)有帶輪，該帶輪通過傳動帶與步進(jìn)電機(jī)傳動連接；在固定軸的下部設(shè)有舟旋轉(zhuǎn)定位裝置，上部設(shè)有密封腔，密封腔設(shè)有進(jìn)出氣管，SiC轉(zhuǎn)盤的下面設(shè)有帶水冷卻腔爐門，爐門底部固定設(shè)有軸罩，在軸罩的底端與SiC轉(zhuǎn)盤的固定軸之間設(shè)有密封環(huán)；在爐門下面設(shè)有數(shù)個緩沖器，在爐門四周下面還設(shè)有密封擋板。本實(shí)用新型適用于300mm立式氧化爐石英舟的旋轉(zhuǎn)裝置，結(jié)構(gòu)完善，控制靈活，水平、垂直位置控制精確。從而使硅片受熱均勻，提高了硅片膜厚均勻性。
文檔編號F27B1/24GK201352059SQ20082012468
公開日2009年11月25日 申請日期2008年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月17日
發(fā)明者喆 王, 董金衛(wèi), 賽義德·賽迪, 趙星梅, 華 鐘 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司