專利名稱：密封熱處理裝置及其機械手裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種熱處理裝置及其機械手裝置，尤其涉及一種密封熱處理裝 置及其機械手裝置。
背景技術(shù)：
在大多數(shù)的平板顯示設備的生產(chǎn)過程中，基本上都需要使用到熱處理裝置。 對于這些熱處理裝置，目前現(xiàn)有的密封材熱處理裝置的構(gòu)造如圖1所示，在框架
11的底部設置有加熱裝置14，在加熱裝置14的上面依次以一定間隔放置多層放 置基板用的裝載層12，相應地，在框架11的一側(cè)設置有和所述裝載層12相對應 的可控門13，所述可控門13為取放基板用的縫隙狀的開口，所述基板通過機械手 裝置放入和取出，基板在熱處理裝置中水平放置，被規(guī)定溫度的熱風包裹，通過 熱風進行相應的熱處理，也稱為燒成。在框架11的另一側(cè)設置有過濾網(wǎng)10。
由于基板是水平放置，機械手裝置取拿基板時受到其自身重量的影響，機械 手會出現(xiàn)彎曲，所以大部分現(xiàn)有技術(shù)的熱處理裝置，預測到機械手裝置的彎曲， 基板和基板之間的間距一般都不會很小，通常在70毫米到150毫米左右。近幾年 來，伴隨著平板顯示器件的大型化，作為被加熱物的基板也有進一步大型化的趨 勢，這勢必造成基板的重量更重，機械手的長度也更長，導致機械手的撓度和厚 度都顯著增大?；搴突逯g的間隔也就必須變得更大，從而帶來了熱處理裝 置大型化的問題。
通常，平板顯示器是在凈化房內(nèi)進行生產(chǎn)的，所以， 一旦裝置大型化，則相 應會帶來凈化房高度的增加，引起凈化房整體的運行成本上升。如果保持凈化房 高度不變，則需要降低裝載層的層數(shù)，擴大裝載層之間的間隔的結(jié)構(gòu)，導致熱處 理裝置的熱處理效率降低。
為了解決上述問題，公開號為CN1967118的中國專利公開了一種熱處理裝置，
能夠高密度加載被加熱物，進行熱處理，但是該裝置為了防止基板變形，同時要承 受較大重量，需要的滑動機構(gòu)數(shù)量和支撐腳比較多，增加了設備復雜性，且基板入口處的滑動機構(gòu)會影響到基板的放入，會降低節(jié)拍，影響熱處理效率；而設置支 撐腳處的基板顯示區(qū)內(nèi)，由于熱容的不同，容易出現(xiàn)顯示不均現(xiàn)象。

實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種熱處理裝置，能夠高密度的裝載 被加熱物，結(jié)構(gòu)簡單，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處理效率。
本實用新型所要解決的另一個技術(shù)問題是提供一種機械手裝置，為上述熱處理 裝置裝載被加熱物。
本實用新型為解決上述技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是提供一種密封熱處理裝 置，包括多層放置基板用的裝載層，加熱器，用于固定裝載層和加熱器的框架，所 述裝載層的左右兩側(cè)和底部設置有金屬夾，對每個裝載層，所述框架上設置有相對 應的可控門，所述加熱器設置在框架底部，其中，所述可控門設置在框架的頂端， 所述基板及裝載層在框架內(nèi)豎直放置。
上述密封熱處理裝置中，所述金屬夾的內(nèi)側(cè)可襯有耐高溫橡膠。 上述密封熱處理裝置中，所述密封熱處理裝置的左右底側(cè)可設置有熱風循環(huán)泵。
本實用新型為解決上述技術(shù)問題還提供一種用于上述的密封熱處理裝置的機 械手裝置，其中，所述機械手裝置包括兩根水平放置的平行導軌，所述導軌位于熱 處理裝置的前后兩側(cè)，所述平行導軌上豎立有兩個可以移動的機械手，所述機械手 上設置有滑槽及可以沿所述滑槽上下移動的支撐板，所述支撐板的末端設置有旋轉(zhuǎn)驅(qū) 動馬達，所述支撐板上設置有真空吸附孔。
本實用新型對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果本實用新型提供的熱處理裝置 通過在其頂端位置設置取放基板用的可控門，在設備內(nèi)部對應地以一定間隔裝載 多層基板，基板及裝載層在熱處理裝置內(nèi)采用豎直放置方式，基板的支撐主要在 左右兩側(cè)，基本不承受基板重量，數(shù)量可以很少，因此，本實用新型的熱處理裝 置結(jié)構(gòu)相對簡單；其次，本實用新型可控門位于頂端位置而基板的支撐主要在左 右兩側(cè)，支撐機構(gòu)不影響基板的放入，不影響熱處理效率；最后，由于基板顯示 區(qū)內(nèi)無任何支撐機構(gòu)，不容易出現(xiàn)顯示不均現(xiàn)象。此外，由于機械手是豎直將基 板放入裝載層，所以重力方向和基板的放入方向平行，因此，不會因為基板的重
4力造成機械手的翹曲，所以機械手的厚度也不需要太厚，有利于降低裝載層的間 隔距離，從而能夠高密度的裝載被加熱物，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處 理效率。


圖1是現(xiàn)有的密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實用新型的密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本實用新型的密封熱處理裝置及機械手裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本實用新型實施例的裝載層內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本實用新型實施例中的循環(huán)風向示意圖。
圖6是光刻墊料在彩膜基板上的位置示意圖。
圖7是重力不均原理說明圖。
圖中，
10 過濾網(wǎng)11框架12裝載層
13可控門14加熱器20密封熱處理裝置
21框架22裝載層23可控門
24加熱器25機械手裝置251導軌
252機械手253滑槽
26支撐板261真空吸附孔27驅(qū)動馬達
28金屬夾29熱風循環(huán)泵30基板
31遮光層32光刻墊料
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。
圖2是密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是本實用新型的密封熱處理裝置
及機械手裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
請參考圖2和圖3，密封熱處理裝置20包括多層放置基板30用的裝載層22，
加熱器24，用于固定裝載層22和加熱器24的框架21,以及用于取放基板30的機
5械手裝置25，所述框架21內(nèi)由金屬格分割成多個裝載層22，所述機械手裝置25 包括兩根水平放置的平行導軌251，所述導軌251位于熱處理裝置20的前后兩側(cè)， 所述平行導軌251上豎立有兩個可以移動的機械手252，所述機械手252上可設置 有滑槽253及可以沿所述滑槽253上下移動的支撐板26,所述支撐板26的末端設置 有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達27，所述支撐板26上可設置有真空吸附孔261。對每個裝載層22， 所述框架21上設置有相對應的可控門23,所述加熱器24設置在框架21底部，其 中所述可控門23設置在框架21的頂端，所述基板30及裝載層22在框架21內(nèi)豎直 放置。
圖4是本實用新型實施例的裝載層內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
請參照圖4，所述裝載層22的左右兩側(cè)和底部可設置有金屬夾28。所述金屬 夾28的內(nèi)側(cè)可襯有耐高溫橡膠。當基板30豎直放入此裝載層22后，各個金屬夾 28閉合，由于金屬夾28的內(nèi)側(cè)襯有橡膠，所以不容易造成基板30的破碎。同時 由于金屬夾28夾取的位置是基板30的周邊，所以不會在基板30的顯示區(qū)域造成 相應的顯示不均。由于基板30是豎直放置，所以不容易因為重力造成基板30彎 曲。然后機械手裝置25上的真空關(guān)閉，機械手252移出。由于機械手252是豎直 將基板30放入裝載層22，所以重力方向和基板30的放入方向平行，所以不會因 為基板30的重力造成機械手252的翹曲，所以機械手252的厚度也不需要太厚， 這些都非常有利于降低裝載層22的間隔距離。
初步估算裝載層22的厚度可以降低為
玻璃基板厚度+機械手對位精度+機械手本身厚度+運轉(zhuǎn)盈余度
大約為30毫米到40毫米之間，也就是說本實用新型的裝載密度大約是通常
設備的2倍以上?？筛呙芏鹊难b載加熱物。
圖5是本實用新型實施例中的循環(huán)風向示意圖。請參照圖5，在框架21的底
側(cè)設置有加熱器24，在框架21的左右底側(cè)設置有熱風循環(huán)泵29，最終得到如圖5
所示的循環(huán)風向。
另外，請參照圖6，在LCD顯示器件的制造工藝上，特別是大型液晶顯示器件， 通常在彩膜基板40的遮光層41上制作光刻墊料42來維持液晶盒的盒厚，得到的 顯示器件對比度較高，顯示效果較好，但是光刻墊料42的使用，也帶來了其他的 問題，最常出現(xiàn)的是重力不均現(xiàn)象，特別是在大型的顯示器件上。重力不均出現(xiàn)的原理請參照圖7:當顯示器件豎直放置，特別是豎直放置同時受高溫處理時，液 晶體積膨脹，在重力作用下，液晶向顯示器件的下方移動，造成底部液晶量偏多， 從而底部的盒厚偏大，當偏大到一定程度時，這種顯示不均就會表現(xiàn)出來。針對 這個問題， 一般都是通過精確的液晶滴下量來防止，但是確認液晶滴下量是否合 適，需要配置其他相應的設備，造成設備投資額增加。而本實用新型的熱處理裝
置由于將基板30在熱處理裝置內(nèi)豎直放置，所以在進行熱處理的同時，如果液晶 量有問題，在基板30取出時，是非常容易看出來的。所以不需要額外購買新的設 備。
根據(jù)垂直放入密封熱處理裝置的需求，可對機械手裝置25進行一定的改造， 請繼續(xù)參考圖7，首先在框架21的左右兩側(cè)設置有機械手252的移動導軌251， 對應這兩個導軌251的是兩個機械手252，其可以沿框架21兩邊的導軌251進行 移動，從而將基板30放入各個裝載層22當中。在兩個機械手253中間的是基板 30的支撐板26，其上方設置有真空吸附孔261，其和真空動力源相連接，在取基 板30時，真空吸附孔261的真空狀態(tài)為0n，在放下所搭載基板30時，真空吸附 孔261的吸附狀態(tài)為Off 。支撐板26可以沿兩機械手252之間的滑槽253上下移 動，而改變其高度；同時支撐板26的末端設置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達27，可以使支撐板 26由水平狀態(tài)變?yōu)榇怪睜顟B(tài)，從而完成將基板30豎直放入密封材熱硬化裝置的要 求。
本實用新型的硬化熱處理裝置的實際工作過程可以簡單描述如下 首先機械手裝置25的支撐板26為水平狀態(tài)，通過框架21兩側(cè)的導軌251移 動到上一道工序設備附近，通過機械手252將基板30放置于支撐板26上；支撐 板26通過導軌22移動到目標裝載層22，支撐板26上升，同時由水平狀態(tài)變?yōu)樨Q 直狀態(tài)；然后相應裝載層22的可控門23打開，支撐板26攜帶基板30進入裝載 層22;裝載層22內(nèi)的金屬夾具29關(guān)閉，基板30被固定，支撐板26移出，裝載 層22的可控門23關(guān)閉。
循環(huán)上述流程可以完成制品的生產(chǎn)。
雖然本實用新型已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本實用新型， 任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改 和完善，因此本實用新型的保護范圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。
權(quán)利要求1. 一種密封熱處理裝置，包括多層放置基板用的裝載層，加熱器，用于固定裝載層和加熱器的框架，所述裝載層的左右兩側(cè)和底部設置有金屬夾，對每個裝載層，所述框架上設置有相對應的可控門，所述加熱器設置在框架底部，其特征在于，所述可控門設置在框架的頂端，所述基板及裝載層在框架內(nèi)豎直放置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的密封熱處理裝置，其特征在于，所述金屬夾的內(nèi) 側(cè)襯有耐高溫橡膠。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的密封熱處理裝置，其特征在于，所述密封熱處理 裝置的左右底側(cè)設置有熱風循環(huán)泵。
4. 一種用于如權(quán)利要求1所述的密封熱處理裝置的機械手裝置，其特征在 于，所述機械手裝置包括兩根水平放置的平行導軌，所述導軌位于熱處理裝置的前 后兩側(cè)，所述平行導軌上豎立有兩個可以移動的機械手，所述機械手上設置有滑槽 及可以沿所述滑槽上下移動的支撐板，所述支撐板的末端設置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達，所述 支撐板上設置有真空吸附孔。
專利摘要本實用新型公開了一種密封熱處理裝置及其機械手裝置，該熱處理裝置包括多層放置基板用的裝載層，加熱器，用于固定裝載層和加熱器的框架，所述裝載層的左右兩側(cè)和底部設置有金屬夾，對每個裝載層，所述框架上設置有相對應的可控門，所述加熱器設置在框架底部，其中，所述可控門設置在框架的頂端，所述基板及裝載層在框架內(nèi)豎直放置。本實用新型提供的密封熱處理裝置及其機械手裝置能夠高密度的裝載被加熱物，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處理效率。
文檔編號F27B17/00GK201266014SQ200820152769
公開日2009年7月1日 申請日期2008年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月5日
發(fā)明者亮 徐 申請人:上海廣電光電子有限公司