專利名稱：改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板干燥系統(tǒng)，特別是涉及一種利用高頻振動裝置霧化異丙酮， 并藉由氣體流量控制裝置與層流裝置的使用，以有效地提升干燥基板表面的效果的一種改 良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法。
背景技術(shù)：
在晶圓(wafer)干燥制程當中，其最常使用的技術(shù)為Marangoni干燥法。 Marangoni干燥法以惰性氣體，例如氮氣，混合霧狀的有機溶劑，例如異丙酮(Isopropyl Alcohol, IPA)，當?shù)獨馀c異丙酮混合體與晶圓表面接觸之時，通過異丙酮與浸泡晶圓的去 離子水(Deionization Water,DIff)之間表面張力的差異，使得殘留于晶圓表面的水分子脫 離晶圓表面，而被拉入去離子水之內(nèi)，以達到干燥晶圓表面的效果。請參閱圖1，是現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)，現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)3是運用 Marangoni干燥法所組裝而成，其主要包括一干燥槽31、一異丙醇儲存槽32、一去離子水 注入裝置33、一排水裝置；34、一氮氣輸入裝置35、一輸送管36、及一加熱裝置37。而使用現(xiàn) 有習知的晶圓干燥系統(tǒng)3進行一晶圓38的干燥，其動作可歸納如下首先，將該晶圓38置 入該干燥槽31內(nèi)；接著，通過該去離子水注入裝置33注入去離子水于干燥槽31內(nèi)；然后， 通過該氮氣輸入裝置35將氮氣輸入該異丙醇儲存槽32之內(nèi)，以利用氮氣將異丙酮經(jīng)由該 輸送管36運送至該加熱裝置37 ；加熱裝置37會將氮氣與異丙酮的混合體加熱成為蒸氣狀 態(tài)；接著，經(jīng)由輸送管36繼續(xù)將蒸氣狀態(tài)的氮氣與異丙酮混合體送進干燥槽31內(nèi)，以使得 干燥槽31內(nèi)布滿蒸氣狀態(tài)的氮氣與異丙酮混合體；然后，將干燥槽31內(nèi)的晶圓38緩緩舉 離去離子水的液面；當?shù)獨馀c異丙酮混合體與晶圓38表面接觸之時，此時，由于晶圓38表 面的異丙酮濃度大于去離子水的異丙酮濃度，因此，利用異丙酮的表面張力小于浸泡晶圓 38的去離子水表面張力的特性，使得殘留于晶圓38表面的水分子脫離晶圓38表面，而被吸 進去離子水之內(nèi)，達到了干燥晶圓38表面的功效。上述現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)為目前業(yè)界所常用的晶圓干燥系統(tǒng)，雖然因其構(gòu)造 簡單且應用原理易懂，而被普遍地使用，然而，其仍具有許多缺點1.使用加熱裝置加熱異丙酮與氮氣的混合體，使其成為蒸氣狀態(tài)，雖可氣化異丙 酮而有效地提升干燥晶圓的效果，然而，加熱裝置的設備成本過高。2.異丙酮具有引火特性，故，加熱異丙酮是有安全上的疑慮。由此可見，上述現(xiàn)有的基板干燥系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷， 而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不費盡心思來謀求解決之 道，但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上 述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設一種新型的改良的基板干燥 系統(tǒng)及干燥基板的方法，實屬當前重要研發(fā)課題之一，亦成為當前業(yè)界極需改進的目標。有鑒于上述現(xiàn)有的基板干燥系統(tǒng)存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制 造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型的改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法，能夠改進一般現(xiàn)有的基板干燥系統(tǒng)，使其 更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計，并經(jīng)過反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實 用價值的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，克服現(xiàn)有的基板干燥系統(tǒng)存在的缺陷，而提供一種新型 的改良的基板干燥系統(tǒng)，所要解決的技術(shù)問題是使其有效地提升干燥晶圓的效果，以達到 同時降低設備成本與其運轉(zhuǎn)成本，并解決加熱異丙酮所需承擔安全上的問題，非常適于實用。本發(fā)明的另一目的在于，提供一種新型的改良的干燥基板的方法，所要解決的技 術(shù)問題是使用具有高頻振動裝置的改良基板干燥系統(tǒng)，以有效地執(zhí)行基板的干燥流程，從 而更加適于實用。本發(fā)明的再一目的在于，提供一種新型的改良的干燥基板的方法，所要解決的技 術(shù)問題是使用具有高頻振動裝置的改良基板干燥系統(tǒng)，并通過氣體流量控制裝置與層流裝 置，以有效地執(zhí)行基板的干燥流程，從而更加適于實用。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出 的一種改良的基板干燥系統(tǒng)，可應用于干燥一基板，其包括一基板容置槽，可將該基板容置其中；一第一液體容置槽，裝設于該基板容置槽的一第一側(cè)邊，以容置一第一液體；一高頻振動裝置，設置于該第一液體容置槽的內(nèi)部，該高頻振動裝置可產(chǎn)生高頻 振動以將該第一液體霧化成為一霧化第一液體；一第二液體注入裝置，裝設于基板容置槽的一第二側(cè)邊，通過該第二液體注入裝 置可輸入具有一適當溫度的一第二液體于基板容置槽內(nèi)，以浸泡基板，使得基板保持中溫 狀態(tài)；一第一排放裝置，裝設于基板容置槽的一第三側(cè)邊，該第三側(cè)邊與第一側(cè)邊及第 二側(cè)邊為相鄰邊，該第一排放裝置用以緩慢地排放該第二液體；一第二排放裝置，裝設于基板容置槽的第三側(cè)邊，該第二排放裝置用以全速地排 放第二液體；一氣體輸入裝置，連接于第一液體容置槽，通過該氣體輸入裝置可輸入一第一氣 體于第一液體容置槽，該第一氣體可將該霧化第一液體運送入已注有第二液體的基板容置 槽內(nèi)，當控制第一排放裝置與第二排放裝置的排放速率，而將第二液體從基板容置槽內(nèi)排 放出去時，基板表面的水分子受到霧化第一液體與第二液體的表面張力差距的影響，而被 拉入第二液體之內(nèi)，達到了干燥基板表面的效果；及一有機氣體排放裝置，裝設于基板容置槽的第二側(cè)邊，該有機氣體排放裝置可于 基板干燥完成之后，將霧化第一液體及第一氣體排出基板容置槽。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的基板容置槽更包括一第一偵測裝置，裝 設于基板容置槽的槽壁，當該第二液體被注入于基板容置槽之時，通過該第一偵測裝置可 偵測第二液體的一第一準位；一第二偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第一偵測裝置的下方，當通過該第一排放裝置緩慢地排放第二液體之時，該第二偵測裝置可偵測第 二液體的一第二準位；及一第三偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第二偵測裝置 的下方，當通過該第二排放裝置高速地排放第二液體之時，該第三偵測裝置可偵測第二液 體的一第三準位。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一液體可為下列任一種異丙醇、甲
醇、與乙醇。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第二液體為去離子水。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一氣體為一潔凈干燥的氣體。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的高頻振動裝置為一超音波產(chǎn)生器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第二偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第三偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的適當溫度的范圍為25° 65°C。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中更包括一氣體流量控制裝置，裝設于該基板容 置槽內(nèi)部，且其位于該第一液體容置槽與基板容置槽的連接處，以控制該第一氣體所運送 的該霧化第一液體進入基板容置槽的流量；及一層流裝置，裝設于基板容置槽的內(nèi)部，當該 基板被置入基板容置槽內(nèi)之時，該層流裝置位于基板的上方，當?shù)谝粴怏w運送霧化第一液 體進入基板容置槽內(nèi)之后，霧化第一液體可通過層流裝置，而均勻地分布于基板的表面。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的基板容置槽更包括一第一偵測裝置，裝 設于基板容置槽的槽壁，且位于該層流裝置的下方，當該第二液體被注入于基板容置槽的 時，通過該第一偵測裝置可偵測第二液體的一第一準位；一第二偵測裝置，裝設于基板容置 槽的槽壁，且位于第一偵測裝置的下方，當通過該第一排放裝置緩慢地排放第二液體之時， 該第二偵測裝置可偵測第二液體的一第二準位；及一第三偵測裝置，裝設于基板容置槽的 槽壁，且位于第二偵測裝置的下方，當通過該第二排放裝置高速地排放第二液體之時，該第 三偵測裝置可偵測第二液體的一第三準位。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一液體可為異丙醇、甲醇、或乙醇。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第二液體為去離子水。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一氣體為一潔凈干燥的氣體。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的高頻振動裝置為一超音波產(chǎn)生器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第一偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第二偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的第三偵測裝置可為一氣體背壓式液位偵 測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的適當溫度的范圍為25° 65°C。
前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的層流裝置可為下列任一種一具有多個 孔狀的板子以及多個噴嘴。前述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其中所述的流量控制裝置可為一單向流量控制閥與 一操作流量控制閥。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的 一種改良的干燥基板的方法，該方法包括(1)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；(2)將一第二液體注入該基板容置槽；(3) 一高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧化 成為一霧化第一液體；(4)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；(5)等待若干時間，而使霧化第一液體均勻分布于基板容置槽內(nèi)；(6)利用一第一排放裝置與一第二排放裝置以排出第二液體；(7)利用一有機氣體排放裝置將基板容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排出；及(8)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取出。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的該步驟( 更包括以下步驟(21) 一第二液體注入裝置注入具有一適當溫度的該第二液體于該基板容置槽 內(nèi)；(22) 一第一偵測裝置判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則執(zhí)行步驟 (23)，若否，則重復執(zhí)行步驟(21)；及(23)該第二液體注入裝置停止第二液體的注入。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的該步驟(4)更包括以下步驟(41) 一氣體輸入裝置輸入一第一氣體于該第一液體容置槽內(nèi)；及(42)藉由該第一氣體將該霧化第一液體運送進入該基板容置槽內(nèi)。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的該步驟(6)更包括以下步驟(61)使用該第一排放裝置緩慢地排放該第二液體；(62) 一第二偵測裝置判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步驟，若否，則重復執(zhí)行步驟(61)；(63)關(guān)閉該高頻振動裝置與該氣體輸入裝置，以停止運送該霧化后第一液體進入 該基板容置槽；(64)同時使用一第二排放裝置以全速地排放第二液體；(65) 一第三偵測裝置判斷第二液體是否到達一第三準位，若是，則執(zhí)行步驟，若否，則重復執(zhí)行步驟(64)；及(66)關(guān)閉該第一排放裝置與該第二排放裝置。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的該第二液體為一去離子水。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一液體可為異丙醇、甲醇、或乙醇。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一氣體為潔凈干燥的氣體。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的高頻振動裝置為一超音波產(chǎn)生器。
前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第二偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第三偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的適當溫度的范圍為25° 65°C。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題另外再采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提 出的一種改良的干燥基板的方法，該方法包括(10)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；(20)將一第二液體注入該基板容置槽；(30) 一高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧 化成為一霧化第一液體；(40)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；(50)等待若干時間，使得霧化第一液體通過一層流裝置，而能夠更加地均勻分布 于基板容置槽內(nèi)；(60)利用一第一排放裝置與一第二排放裝置以排出第二液體；(70)利用一有機氣體排放裝置將基板容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排出；及(80)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取出。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的步驟00)更包括以下步驟(201) 一第二液體注入裝置注入具有一適當溫度的該第二液體于該基板容置槽 內(nèi)；(202) 一第一偵測裝置判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則執(zhí)行步驟 (203)，若否，則重復執(zhí)行步驟(201)；及(203)該第二液體注入裝置停止第二液體的注入。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的步驟00)更包括以下步驟(401) 一氣體輸入裝置輸入一第一氣體于該第一液體容置槽內(nèi)；(402)藉由該第一氣體將該霧化第一液體運送進入該基板容置槽內(nèi)；及(403)啟動一氣體流量控制裝置，以控制霧化第一液體進入基板容置槽的流量。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的步驟(60)更包括以下步驟(601)使用該第一排放裝置緩慢地排放該第二液體；(602) 一第二偵測裝置判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步驟 (603)，若否，則重復執(zhí)行步驟(601)；(603)關(guān)閉該高頻振動裝置、該氣體流量控制裝置、與該氣體輸入裝置，以停止運 送該霧化后第一液體進入該基板容置槽；(604)同時使用一第二排放裝置以全速地排放第二液體；(605) 一第三偵測裝置判斷第二液體是否到達一第三準位，若是，則執(zhí)行步驟 (606)，若否，則重復執(zhí)行步驟(604)；及
(606)關(guān)閉該第一排放裝置與該第二排放裝置。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第二液體為一去離子水。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一液體可為異丙醇、甲醇、或乙醇。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一氣體為潔凈干燥的氣體。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的高頻振動裝置為一超音波產(chǎn)生器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第一偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第二偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的第三偵測裝置可為一氣體背壓式液位 偵測器與一光反射式液位偵測器。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的適當溫度的范圍為25° 65°C。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的層流裝置可為下列任一種一具有多 個孔狀的板子以及多個噴嘴。前述的改良的干燥基板的方法，其中所述的流量控制裝置可為一單向流量控制閥 與一操作流量控制閥。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上可知，為達到上述目 的，本發(fā)明提供了一種改良的基板干燥系統(tǒng)，利用高頻振動裝置以霧化異丙酮，并藉由氣體 流量控制裝置有效地控制霧化異丙酮進入基板容置槽的流量，且利用層流裝置可使得進入 基板容置槽內(nèi)的霧化異丙酮均勻分布于基板表面，可有效地提升干燥晶圓的效果，以達到 同時降低設備成本與其運轉(zhuǎn)成本，并解決加熱異丙酮所需承擔安全上的問題。本發(fā)明提供一種改良的干燥基板的方法，該方法可使用具有高頻振動裝置的改良 基板干燥系統(tǒng)，以有效地執(zhí)行基板的干燥流程。本發(fā)明提供一種改良的干燥基板的方法，該方法可使用具有高頻振動裝置的改良 基板干燥系統(tǒng)，并通過氣體流量控制裝置與層流裝置，以有效地執(zhí)行基板的干燥流程。因此，為了達到上述主要目的的功效，本案發(fā)明人研發(fā)出一種改良的基板干燥系 統(tǒng)，其包括一基板容置槽；一第一液體容置槽；一高頻振動裝置；一第二液體注入裝置；一 第一排放裝置；一第二排放裝置；一氣體輸入裝置；一氣體流量控制裝置；一層流裝置；及 一有機氣體排放裝置。并且，為了達到上述另一目的所述的功效，本案發(fā)明人研發(fā)出一種改良的干燥基 板的方法，該方法包括(1)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；( 將一第二液體注入該基板 容置槽；C3) —高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧化 成為一霧化第一液體；(4)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；( 等待若干時間，使 得霧化第一液體能夠均勻分布于基板容置槽內(nèi)；(6)利用一第一排放裝置與一第二排放裝 置以排出第二液體；(7)利用一有機氣體排放裝置將基板容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排 出；及(8)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取出。另外，為了達到上述再一目的所述的功效，本案發(fā)明人研發(fā)出一種改良的干燥基 板的方法，該方法包括(10)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；00)將一第二液體注入該基 板容置槽；(30) —高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧化成為一霧化第一液體；(40)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；(50)等待若干 時間，使得霧化第一液體通過一層流裝置，而能夠均勻分布于基板容置槽內(nèi)；(60)利用一 第一排放裝置與一第二排放裝置以排出第二液體；(70)利用一有機氣體排放裝置將基板 容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排出；及(80)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取
出ο借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法至少具有下列 優(yōu)點及有益效果1.本發(fā)明是利用高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動以霧化異丙酮，霧化異丙酮具有較大 的霧狀粒子，可增加異丙酮與基板的接觸面積，而可提升干燥基板表面的效果。2.相較于現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)，本發(fā)明使用高頻振動裝置替代加熱裝置，降 低加熱設備的成本與其運轉(zhuǎn)成本，亦同時解決了加熱異丙酮所需負擔的安全上的風險。3.本發(fā)明使用氣體流量控制裝置，其可控制霧化第一液體其進入基板容置槽內(nèi)的 流量，以避免基板容置槽內(nèi)的霧化第一液體濃度過高，而使得基板容置槽內(nèi)產(chǎn)生不安定的 狀態(tài)，另外，通過層流裝置可使得霧化第一液體均勻地分布于基板的表面，更加地提升基板 干燥的效果。綜上所述，本發(fā)明有關(guān)于一種改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法。該改良的 基板干燥系統(tǒng)包括一基板容置槽、一第一液體容置槽、一高頻振動裝置、一第二液體注入 裝置、一第一排放裝置、一第二排放裝置、一氣體輸入裝置、一氣體流量控制裝置、一層流裝 置、及一有機氣體排放裝置。該改良的干燥基板的方法，可使用該高頻振動裝置以霧化一第 一液體，并通過該氣體流量控制裝置與該層流裝置，以有效地執(zhí)行一基板的干燥。本發(fā)明在 技術(shù)上有顯著的進步，并具有明顯的積極效果，誠為一新穎、進步、實用的新設計。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠 更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。


圖1是現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)。圖2是一種改良的基板干燥系統(tǒng)的第一實施例架構(gòu)圖。圖3是改良的基板干燥系統(tǒng)的第二實施例的架構(gòu)圖。圖4是一種改良的干燥基板方法的第一實施方法流程圖。圖5是步驟002)的詳細步驟流程圖。圖6是步驟004)的詳細步驟流程圖。圖7是步驟006)的詳細步驟流程圖。圖8是改良的干燥基板方法的第二實施方法流程圖。圖9是步驟(802)的詳細步驟流程圖。圖10是步驟(804)的詳細步驟流程圖。圖11是步驟(806)的詳細步驟流程圖。1 改良的基板干燥系統(tǒng)11 基板容置槽
111層流裝置
112氣體流量控制裝置
113第一偵測裝置
114第二偵測裝置
115第三偵測裝置
116第一側(cè)邊
117第二側(cè)邊
118第三側(cè)邊
12 第一液體容置槽
13 高頻振動裝置
14 第二液體注入裝置
15 第一排放裝置
16 第二排放裝置
17 氣體輸入裝置
18 有機氣體排放裝置
2:基板
3 現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)
31 干燥槽
32 異丙醇儲存槽
33 去離子水注入裝置
34 排水裝置
35 氮氣輸入裝置
36 輸送管
37 加熱裝置
38 晶圓
401 408 方法步驟
4021 4023 方法步驟
4041 4042 方法步驟
4061 4066 方法步驟
801 808 方法步驟
8021 8023 方法步驟
8041 8043 方法步驟
8061 8066 方法步驟
具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合 附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法其具體實 施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點及功效，在以下配合參考圖式的較佳實施例的詳細說明中將可清楚的呈現(xiàn)。為了方便說明，在以下的實施例中，相同的元件以相同 的編號表示。請參閱圖2，是一種改良的基板干燥系統(tǒng)的第一實施例架構(gòu)圖，該改良的基板干燥 系統(tǒng)可應用于干燥一基板2，其包括一基板容置槽11，可將該基板2容置其中；一第一液體容置槽12，是裝設于該基板容置槽11的一第一側(cè)邊116，以容置一第 一液體，該第一液體可為異丙醇(Isopropyl Alcohol，IPA)、甲醇、或乙醇，而于第一實施例 中，是使用異丙醇以作為第一液體；一高頻振動裝置13，設置于該第一液體容置槽12的內(nèi)部，該高頻振動裝置13為一 超音波產(chǎn)生器，故，高頻振動裝置13能夠以高頻振動的方式產(chǎn)生一高頻振波，利用該高頻 振波可將該第一液體霧化成為一霧化第一液體，即成為霧化異丙酮，霧化異丙酮相較于蒸 氣的異丙酮，具有較大的異丙酮粒子，而能夠提高異丙酮與該基板2接觸的面積；一第二液體注入裝置14，裝設于該基板容置槽11的一第二側(cè)邊117，通過該第二 液體注入裝置14可輸入具有一適當溫度的一第二液體于基板容置槽11內(nèi)，以浸泡該基板 2，使得基板2保持中溫狀態(tài)；于該改良的基板干燥系統(tǒng)1的第一實施例架中，該第二液體為 去離子水(Deionization Water，DIW)，且其所具有的該適當溫度的范圍為25° 65°C ；一第一排放裝置15，裝設于該基板容置槽11的一第三側(cè)邊118，該第三側(cè)邊與基 板容置槽11的該第一側(cè)邊116、及該第二側(cè)邊117為相鄰邊，該第一排放裝置15用以緩慢 地排放該第二液體；—第二排放裝置16，裝設于該基板容置槽11的該第三側(cè)邊118，該第二排放裝置 16用以全速地排放該第二液體；一氣體輸入裝置17，連接于該第一液體容置槽12，通過該氣體輸入裝置17可輸入 一第一氣體于第一液體容置槽12，該第一氣體為一潔凈干燥的氣體，于第一實施例之中，選 用氮氣作為第一氣體，利用氮氣可將該霧化第一液體運送入已注有該第二液體的該基板容 置槽11內(nèi)。由于該基板2浸泡于具有該適當溫度的第二液體內(nèi)，因此，保持中溫狀態(tài)的基 板2，其與霧化第一液體間具有一溫度差，該溫度差更增加了霧化第一液體與第二液體間表 面張力值的差距，因此，當控制該第一排放裝置15與該第二排放裝置16的排放速率，而將 第二液體從基板容置槽11內(nèi)排放出去時，基板2表面的水分子受到霧化第一液體與第二液 體之間的表面張力差的影響，而被拉入第二液體之內(nèi)，達到了干燥基板2表面的效果；及一有機氣體排放裝置18，裝設于該基板容置槽11的該第二側(cè)邊117，該有機氣體 排放裝置18可于該基板2干燥完成之后，將該霧化第一液體以及該第一氣體排出基板容置 槽11，以避免因為霧化第一液體與第一氣體于基板容置槽11內(nèi)的濃度過高，而發(fā)生危險的 情事。另外，該基板容置槽11更包括了 一第一偵測裝置113、一第二偵測裝置114、及一 第三偵測裝置115。該第一偵測裝置113可為一氣體背壓式液位偵測器或者一光反射式液 位偵測器，若第一偵測裝置113為該氣體背壓式液位偵測器，則裝設于該基板容置槽11的 內(nèi)部槽壁，若第一偵測裝置113為該氣體背壓式液位偵測器，則裝設于基板容置槽11的外 部槽壁；而于本實施例之中，第一偵測裝置113為氣體背壓式液位偵測器，因此其被裝設于 基板容置槽11的內(nèi)部槽壁，當該第二液體被注入于基板容置槽11之時，通過第一偵測裝置113可偵測第二液體的一第一準位，以避免注入過多的第二液體。該第二偵測裝置114亦 為氣體背壓式液位偵測器，因此，第二偵測裝置114裝設于基板容置槽11的內(nèi)部槽壁，且位 于第一偵測裝置113的下方，當通過該第一排放裝置15緩慢地排放第二液體之時，第二偵 測裝置114可偵測第二液體的一第二準位，而當?shù)诙后w于基板容置槽11內(nèi)達到該第二準 位的高度時，此時，即可停止運送該霧化第一液體進入基板容置槽11內(nèi)。該第三偵測裝置 115亦為氣體背壓式液位偵測器，因此，第三偵測裝置115裝設于基板容置槽11的內(nèi)部槽 壁，且位于第二偵測裝置114的下方，當通過該第二排放裝置16高速地排放第二液體之時， 第三偵測裝置115可偵測第二液體的一第三準位，而當?shù)诙后w于基板容置槽11內(nèi)達到該 第三準位的高度時，此時，即可關(guān)閉第一排放裝置15與該第二排放裝置16以停止排放第二 液體。上述該改良的基板干燥系統(tǒng)的第一實施例，利用該超音波產(chǎn)生器以高頻振動的方 式產(chǎn)生一高頻振波，利用該高頻振波將異丙酮(IPA)霧化，其取代了現(xiàn)有習知技術(shù)利用加 熱異丙酮而使得異丙酮變成蒸氣的方法，因此，改良的基板干燥系統(tǒng)不僅節(jié)省了加熱設備 的成本其運轉(zhuǎn)成本(RurmingCost)，亦同時解決了加熱異丙酮所需負擔的風險。并且，霧化 異丙酮具有顆粒較大的霧狀粒子，因此加大了異丙酮與該基板2的接觸面積，再者，由于基 板2被浸泡在具有該適當溫度(25°C 65°C)的去離子水之中，使得基板維持中溫狀態(tài)，因 此，更拉大了霧化異丙酮與去離子水之間，表面張力的差距，而能夠有效地利用表面張力差 以提升基板2的干燥效果。另外，請參閱圖3，是改良的基板干燥系統(tǒng)的第二實施例的架構(gòu)圖，該改良的基板 干燥系統(tǒng)1的第二實施例的大部分組成元件皆與第一實施例相同，然而，相較于第一實施 例，于第二實施例之中，更包括一氣體流量控制裝置112與一層流裝置111。該氣體流量 控制裝置112裝設于該基板容置槽11內(nèi)部，且位于該第一液體容置槽12與基板容置槽11 的連接處。氣體流量控制裝置112可為一單向流量控制閥或一操作流量控制閥，以控制該 第一氣體所運送的該霧化第一液體進入基板容置槽11的流量，以避免瞬間注入過多的霧 化第一液體，而導致基板容置槽11內(nèi)的不安定狀態(tài)。該層流裝置111則裝設于基板容置槽 11的內(nèi)部，當該基板2被置入基板容置槽11之內(nèi)時，該層流裝置111位于基板2的上方。 于第二實施例之中，層流裝置111為一具有多個孔狀的板子，因此，當該第一氣體運送該霧 化第一液體進入基板容置槽11內(nèi)之后，霧化第一液體將通過層流裝置111，而能夠更加均 勻地分布于基板2的表面，而使得干燥基板2的效果更加提升。且，除了具有多個孔狀的板 子的設計外，層流裝置111亦可被設計成為一個具有多個噴嘴的裝置，其皆能夠使得霧化 第一液體均勻地分布于基板表面。因此，通過上述對于本發(fā)明的第一實施例與第二實施例的詳細說明，可以得知第 二實施例對于基板2的干燥效果優(yōu)于第一實施例，而這是因為第二實施例增加了氣體流量 控制裝置112與層流裝置111之故，然而，于實施本發(fā)明之時，若實施人因為設備成本上的 考量，而無法實施本發(fā)明的第二實施例之時，第一實施例仍為一個設備成本低廉，且具有良 好干燥效果的基板干燥系統(tǒng)。上述對于該改良的基板干燥系統(tǒng)1的第一實施例與第二實施例，已作了相當完整 的說明，然而，由于不同的基板干燥系統(tǒng)會有不同的干燥基本的方法，因此，第一實施例與 第二實施例分別有第一實施方法與第二實施方法，請參閱同時參閱圖2與圖4，其中，圖4是一種改良的基板干燥方法的第一實施方法流程圖，該改良的基板干燥方法，包括以下步 驟首先，執(zhí)行步驟G01)，將一基板2置入一基板容置槽11內(nèi)；接著，執(zhí)行步驟 002)，將一第二液體注入該基板容置槽11 ；然后，執(zhí)行步驟G03)，一高頻振動裝置13產(chǎn)生 高頻振動，以將一第一液體容置槽12內(nèi)的一第一液體，霧化成為一霧化第一液體；接著，執(zhí) 行步驟G04)，將該霧化第一液體運送進入基板容置槽11 ；然后，執(zhí)行步驟G05)，等待若干 時間，使得霧化第一液體能夠均勻分布于基板容置槽11內(nèi)；接著，執(zhí)行步驟006)，利用一 第一排放裝置15與一第二排放裝置16以排出第二液體；完成步驟(406)之后，接著，執(zhí)行 步驟007)，利用一有機氣體排放裝置18將基板容置槽11內(nèi)多余的霧化第一液體排出；以 及，執(zhí)行步驟G08)，完成該基板2的干燥，將基板2由基板容置槽11內(nèi)取出。于上述該改 良的基板干燥方法中，該第一液體為異丙醇，且，該第二液體為去離子水，而該高頻振動裝 置13則為一超音波產(chǎn)生器，如此，藉由上述步驟001)至步驟008)，即可使用改良的基板 干燥系統(tǒng)1的第一實施例，以完成基板2的干燥。然而，如上述該改良的基板干燥方法，請再同時參閱圖2與圖5，其中，圖5是步驟 (402)的詳細步驟流程圖，步驟(40 更包括了以下詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(4021)，一第二液體注入裝置14注入具有一適當溫度的該第二液 體于該基板容置槽11內(nèi)，其中，該適當溫度的范圍為25° 65°C;接著，執(zhí)行步驟(4022)， 一第一偵測裝置113判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則表示所注入的第二液體 已經(jīng)足夠，則執(zhí)行步驟(4023)，該第二液體注入裝置停止第二液體的注入；若否，則重復執(zhí) 行步驟0021)，以持續(xù)注入第二液體，直到第二液體到達該第一準位為止。另外，請參閱圖2與圖6，其中，圖6是步驟004)的詳細步驟流程圖，如上述該改 良的基板干燥方法，步驟(404)更包括了以下詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(4041)，一氣體輸入裝置17輸入一第一氣體于該第一液體容置槽 12內(nèi)，其中，該第一氣體為潔凈干燥的氮氣；以及，執(zhí)行步驟(4042)，藉由第一氣體將該霧 化第一液體運送進入該基板容置槽11內(nèi)。請再同時參閱圖2與圖7，圖7是步驟006)的詳細步驟流程圖，其中，步驟(406) 更包括了以下詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(4061)，使用該第一排放裝置15緩慢地排放該第二液體；接著，執(zhí) 行步驟(4062)，一第二偵測裝置114判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步驟 (4063)，關(guān)閉該高頻振動裝置13與該氣體輸入裝置17，以停止運送該霧化后第一液體進入 該基板容置槽11 ；若否，則重復執(zhí)行步驟(4061)，以繼續(xù)排放第二液體，直到第二液體達到 該第二準位為止；步驟完成之后，接著，執(zhí)行步驟(4064)，同時使用一第二排放裝置 16以全速地排放第二液體；然后，執(zhí)行步驟(4065)，一第三偵測裝置115判斷第二液體是否 到達一第三準位，若是，則表示第二液體的排放量已達到方法預設的最低準位，因此可執(zhí)行 步驟(4066)，關(guān)閉該第一排放裝置15與該第二排放裝置16;于步驟0065)中，若否，則重 復執(zhí)行步驟G064)，以繼續(xù)排放第二液體，直到第二液體達到方法預設的最低準位為止。另外，該改良的基板干燥方法更包括第二實施方法，第二實施方法針對上述該改 良的基板干燥系統(tǒng)1的第二實施例所設計的一種改良的干燥基板方法，請參閱圖8，該改良 的干燥基板方法的第二實施方法流程圖，并同時參閱圖3，第二實施方法包括以下步驟
首先，執(zhí)行步驟(801)，將一基板2置入一基板容置槽11內(nèi)；接著，執(zhí)行步驟 (802)，將一第二液體注入該基板容置槽11 ；然后，執(zhí)行步驟(803)，一高頻振動裝置13產(chǎn)生 高頻振動，以將一第一液體容置槽12內(nèi)的一第一液體，霧化成為一霧化第一液體；接著，執(zhí) 行步驟(804)，將該霧化第一液體運送進入基板容置槽11 ；然后，執(zhí)行步驟(805)，等待若干 時間，使得霧化第一液體通過一層流裝置111，而能夠更加地均勻分布于基板容置槽11內(nèi)； 接著，執(zhí)行步驟(806)，利用一第一排放裝置15與一第二排放裝置16以排出第二液體，于第 二液體被排出的過程里，由于霧化第一液體與第二液體間具有表面張力差，因此，該基板2 表面的水分子將被拉入第二液體內(nèi)，而被排出于基板容置槽11之外；完成步驟(806)之后， 接著，執(zhí)行步驟(807)，利用一有機氣體排放裝置18將基板容置槽11內(nèi)多余的霧化第一液 體排出；以及，執(zhí)行步驟(808)，完成基板2的干燥，將基板2由基板容置槽11內(nèi)取出。如 此，藉由上述步驟(801)至步驟(808)，即可使用上述該改良的基板干燥系統(tǒng)1的第二實施 例，以完成基板2的干燥。且，相同于第一實施方法，該第一液體為異丙醇，該第二液體則為去離子水，該第 一氣體為潔凈干燥的氮氣，而該高頻振動裝置13為一超音波產(chǎn)生器。然而，不同于第一實 施方法，于第二實施方法中，必須使用到該層流裝置111，其為一具有多個孔狀的板子，該霧 化第一液體將通過層流裝置111，而能夠更加均勻地分布于該基板2的表面，而使得基板2 的干燥效果提升。另外，于上述該改良的基板干燥方法的第二實施方法中，請參閱圖3與圖9，圖9是 步驟(802)的詳細步驟流程圖，其中，步驟(80 更包括以下詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(8021)，一第二液體注入裝置14注入具有一適當溫度的該第二液 體于該基板容置槽11內(nèi)，該適當溫度的范圍為25° 65°C ；接著，執(zhí)行步驟(8022)，一第 一偵測裝置113判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則執(zhí)行步驟(8023)，該第二液體 注入裝置14停止第二液體的注入；若否，則重復執(zhí)行步驟(8021)，直到第二液體的準位高 度達到該第一準位為止。請繼續(xù)參閱圖3與圖10，圖10是步驟(804)的詳細步驟流程圖，其中，步驟(804) 更包括以下詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(8041)，一氣體輸入裝置17輸入一第一氣體于該第一液體容置槽 12內(nèi)，該第一氣體為氮氣；接著，執(zhí)行步驟(8042)，藉由該第一氣體將該霧化第一液體運送 進入該基板容置槽11內(nèi)；以及，執(zhí)行步驟(8043)，啟動一氣體流量控制裝置112，以控制霧 化第一液體進入基板容置槽11的流量。其中，該氣體流量控制裝置112可為一單向流量控 制閥或一操作流量控制閥，然而，于第二實施方法中，氣體流量控制裝置112的功用在于控 制霧化第一液體進入基板容置槽11的流量，使其更有利于上述步驟(805)的執(zhí)行。請再參閱圖11，是步驟(806)的詳細步驟流程圖，于第二實施方法之中，步驟 (806)更包括了以下的詳細步驟首先，執(zhí)行步驟(8061)，使用該第一排放裝置15緩慢地排放該第二液體；接著， 執(zhí)行步驟(8062)，一第二偵測裝置114判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步 驟(8063)，關(guān)閉該高頻振動裝置13、該氣體流量控制裝置112、與該氣體輸入裝置17，以停 止運送該霧化后第一液體進入該基板容置槽11 ；若否，則重復執(zhí)行步驟(8061)，以持續(xù)排 出第二液體，直到其準位到達該第二準位為止；接著，執(zhí)行步驟(8064)，同時使用一第二排放裝置16以全速地排放第二液體；然后，執(zhí)行步驟(8065)，一第三偵測裝置115判斷第二 液體是否到達一第三準位，若是，則表示第二液體的準位已經(jīng)到達該第三準位，即本方法所 設計第二液體的最低準位，則可則執(zhí)行步驟(8066)，關(guān)閉該第一排放裝置15與該第二排放 裝置16 ；若否，則重復執(zhí)行步驟(8064)，以持續(xù)排出第二液體，直到其準位到達第三準位為止。上述已經(jīng)詳細且完整地揭露該改良的基板干燥系統(tǒng)及其干燥基板的方法，其中包 括了第一實施例、第二實施例、第一實施方法、及第二實施方法，因此，綜合上述，本發(fā)明具 有下列的優(yōu)點1、本發(fā)明是利用高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動以霧化異丙酮，霧化異丙酮具有較大 的霧狀粒子，可增加異丙酮與基板的接觸面積，而可提升干燥基板表面的效果。2、相較于現(xiàn)有習知的晶圓干燥系統(tǒng)，本發(fā)明使用高頻振動裝置替代加熱裝置，降 低加熱設備的成本與其運轉(zhuǎn)成本，亦同時解決了加熱異丙酮所需負擔的安全上的風險。3、本發(fā)明使用氣體流量控制裝置，其可控制霧化第一液體其進入基板容置槽內(nèi)的 流量，以避免基板容置槽內(nèi)的霧化第一液體濃度過高，而使得基板容置槽內(nèi)產(chǎn)生不安定的 狀態(tài)，另外，通過層流裝置可使得霧化第一液體均勻地分布于基板的表面，更加地提升基板 干燥的效果。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖 然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人 員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾 為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì) 對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種改良的基板干燥系統(tǒng)，可應用于干燥一基板，其特征在于其包括 一基板容置槽，可將該基板容置其中；一第一液體容置槽，裝設于該基板容置槽的一第一側(cè)邊，以容置一第一液體； 一高頻振動裝置，設置于該第一液體容置槽的內(nèi)部，該高頻振動裝置可產(chǎn)生高頻振動 以將該第一液體霧化成為一霧化第一液體；一第二液體注入裝置，裝設于基板容置槽的一第二側(cè)邊，通過該第二液體注入裝置 可輸入具有一適當溫度的一第二液體于基板容置槽內(nèi)，以浸泡基板，使得基板保持中溫狀 態(tài)；一第一排放裝置，裝設于基板容置槽的一第三側(cè)邊，該第三側(cè)邊與第一側(cè)邊及第二側(cè) 邊為相鄰邊，該第一排放裝置用以緩慢地排放該第二液體；一第二排放裝置，裝設于基板容置槽的第三側(cè)邊，該第二排放裝置用以全速地排放第 二液體；一氣體輸入裝置，連接于第一液體容置槽，通過該氣體輸入裝置可輸入一第一氣體于 第一液體容置槽，該第一氣體可將該霧化第一液體運送入已注有第二液體的基板容置槽 內(nèi)，當控制第一排放裝置與第二排放裝置的排放速率，而將第二液體從基板容置槽內(nèi)排放 出去時，基板表面的水分子受到霧化第一液體與第二液體的表面張力差距的影響，而被拉 入第二液體之內(nèi)，達到了干燥基板表面的效果；及一有機氣體排放裝置，裝設于基板容置槽的第二側(cè)邊，該有機氣體排放裝置可于基板 干燥完成之后，將霧化第一液體及第一氣體排出基板容置槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的基板容置槽更 包括一第一偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，當該第二液體被注入于基板容置槽之時， 通過該第一偵測裝置可偵測第二液體的一第一準位；一第二偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第一偵測裝置的下方，當通過該第 一排放裝置緩慢地排放第二液體之時，該第二偵測裝置可偵測第二液體的一第二準位；及一第三偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第二偵測裝置的下方，當通過該第 二排放裝置高速地排放第二液體之時，該第三偵測裝置可偵測第二液體的一第三準位。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一液體為下 列任一種異丙醇、甲醇、與乙醇。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第二液體為去 離子水。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一氣體為一 潔凈干燥的氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的高頻振動裝置 為一超音波產(chǎn)生器。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一偵測裝置 為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第二偵測裝置 為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第三偵測裝置 為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的適當溫度的 范圍為25° 65°C。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中更包括一氣體流量控制裝置，裝設于該基板容置槽內(nèi)部，且其位于該第一液體容置槽與基板 容置槽的連接處，以控制該第一氣體所運送的該霧化第一液體進入基板容置槽的流量；及一層流裝置，裝設于基板容置槽的內(nèi)部，當該基板被置入基板容置槽內(nèi)之時，該層流裝 置位于基板的上方，當?shù)谝粴怏w運送霧化第一液體進入基板容置槽內(nèi)之后，霧化第一液體 可通過層流裝置，而均勻地分布于基板的表面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的基板容置槽 更包括一第一偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于該層流裝置的下方，當該第二液體 被注入于基板容置槽的時，通過該第一偵測裝置可偵測第二液體的一第一準位；一第二偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第一偵測裝置的下方，當通過該第 一排放裝置緩慢地排放第二液體之時，該第二偵測裝置可偵測第二液體的一第二準位；及一第三偵測裝置，裝設于基板容置槽的槽壁，且位于第二偵測裝置的下方，當通過該第 二排放裝置高速地排放第二液體之時，該第三偵測裝置可偵測第二液體的一第三準位。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一液體為 異丙醇、甲醇、或乙醇。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第二液體為 去離子水。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一氣體為 一潔凈干燥的氣體。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的高頻振動裝 置為一超音波產(chǎn)生器。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第一偵測裝 置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第二偵測裝 置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的第三偵測裝 置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的適當溫度的 范圍為25° 65°C。
21.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的層流裝置為 下列任一種一具有多個孔狀的板子以及多個噴嘴。
22.根據(jù)權(quán)利要求12所述的改良的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于其中所述的流量控制裝 置為一單向流量控制閥與一操作流量控制閥。
23.一種改良的干燥基板的方法，其特征在于該方法包括(1)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；(2)將一第二液體注入該基板容置槽；(3)一高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧化成為 一霧化第一液體；(4)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；(5)等待若干時間，而使霧化第一液體均勻分布于基板容置槽內(nèi)；(6)利用一第一排放裝置與一第二排放裝置以排出第二液體；(7)利用一有機氣體排放裝置將基板容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排出；及(8)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取出。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的該步驟 (2)更包括以下步驟(21)一第二液體注入裝置注入具有一適當溫度的該第二液體于該基板容置槽內(nèi)；(22)一第一偵測裝置判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則執(zhí)行步驟(23)，若 否，則重復執(zhí)行步驟；及(23)該第二液體注入裝置停止第二液體的注入。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的該步驟 (4)更包括以下步驟(41)一氣體輸入裝置輸入一第一氣體于該第一液體容置槽內(nèi)；及(42)藉由該第一氣體將該霧化第一液體運送進入該基板容置槽內(nèi)。
26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的該步驟 (6)更包括以下步驟(61)使用該第一排放裝置緩慢地排放該第二液體；(62)一第二偵測裝置判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步驟(63)，若 否，則重復執(zhí)行步驟(61)；(63)關(guān)閉該高頻振動裝置與該氣體輸入裝置，以停止運送該霧化后第一液體進入該基 板容置槽；(64)同時使用一第二排放裝置以全速地排放第二液體；(65)一第三偵測裝置判斷第二液體是否到達一第三準位，若是，則執(zhí)行步驟(66)，若 否，則重復執(zhí)行步驟(64)；及(66)關(guān)閉該第一排放裝置與該第二排放裝置。
27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的該第二液 體為一去離子水。
28.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一液體 為異丙醇、甲醇、或乙醇。
29.根據(jù)權(quán)利要求25所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一氣體 為潔凈干燥的氣體。
30.根據(jù)權(quán)利要求23所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的高頻振動 裝置為一超音波產(chǎn)生器。
31.根據(jù)權(quán)利要求M所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一偵測裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
32.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第二偵測 裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
33.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第三偵測 裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
34.根據(jù)權(quán)利要求M所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的適當溫度 的范圍為25° 65°C。
35.一種改良的干燥基板的方法，其特征在于該方法包括(10)將一基板置入一基板容置槽內(nèi)；(20)將一第二液體注入該基板容置槽；(30) 一高頻振動裝置產(chǎn)生高頻振動，以將一第一液體容置槽內(nèi)的一第一液體，霧化成 為一霧化第一液體；(40)將該霧化第一液體運送進入基板容置槽；(50)等待若干時間，使得霧化第一液體通過一層流裝置，而能夠更加地均勻分布于基 板容置槽內(nèi)；(60)利用一第一排放裝置與一第二排放裝置以排出第二液體；(70)利用一有機氣體排放裝置將基板容置槽內(nèi)多余的霧化第一液體排出；及(80)完成該基板的干燥，將基板由基板容置槽內(nèi)取出。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的步驟00) 更包括以下步驟(201)一第二液體注入裝置注入具有一適當溫度的該第二液體于該基板容置槽內(nèi)；(202)一第一偵測裝置判斷第二液體是否到達一第一準位，若是，則執(zhí)行步驟003)， 若否，則重復執(zhí)行步驟O01)；及(203)該第二液體注入裝置停止第二液體的注入。
37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的步驟00) 更包括以下步驟(401)—氣體輸入裝置輸入一第一氣體于該第一液體容置槽內(nèi)；(402)藉由該第一氣體將該霧化第一液體運送進入該基板容置槽內(nèi)；及(403)啟動一氣體流量控制裝置，以控制霧化第一液體進入基板容置槽的流量。
38.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的步驟(60) 更包括以下步驟(601)使用該第一排放裝置緩慢地排放該第二液體；(602)一第二偵測裝置判斷第二液體是否到達一第二準位，若是，則執(zhí)行步驟(603)， 若否，則重復執(zhí)行步驟(601)；(603)關(guān)閉該高頻振動裝置、該氣體流量控制裝置、與該氣體輸入裝置，以停止運送該 霧化后第一液體進入該基板容置槽；(604)同時使用一第二排放裝置以全速地排放第二液體；(605)一第三偵測裝置判斷第二液體是否到達一第三準位，若是，則執(zhí)行步驟(606)， 若否，則重復執(zhí)行步驟(604)；及(606)關(guān)閉該第一排放裝置與該第二排放裝置。
39.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第二液體 為一去離子水。
40.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一液體 為異丙醇、甲醇、或乙醇。
41.根據(jù)權(quán)利要求37所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一氣體 為潔凈干燥的氣體。
42.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的高頻振動 裝置為一超音波產(chǎn)生器。
43.根據(jù)權(quán)利要求36所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第一偵測 裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
44.根據(jù)權(quán)利要求38所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第二偵測 裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
45.根據(jù)權(quán)利要求38所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的第三偵測 裝置為一氣體背壓式液位偵測器與一光反射式液位偵測器。
46.根據(jù)權(quán)利要求36所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的適當溫度 的范圍為25° 65°C。
47.根據(jù)權(quán)利要求35所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的層流裝置 為下列任一種一具有多個孔狀的板子以及多個噴嘴。
48.根據(jù)權(quán)利要求37所述的改良的干燥基板的方法，其特征在于其中所述的流量控制 裝置為一單向流量控制閥與一操作流量控制閥。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種改良的基板干燥系統(tǒng)及干燥基板的方法，該改良的基板干燥系統(tǒng)包括一基板容置槽、一第一液體容置槽、一高頻振動裝置、一第二液體注入裝置、一第一排放裝置、一第二排放裝置、一氣體輸入裝置、一氣體流量控制裝置、一層流裝置、及一有機氣體排放裝置。該改良的干燥基板的方法，可使用該高頻振動裝置以霧化一第一液體，并通過該氣體流量控制裝置與該層流裝置，以有效地執(zhí)行一基板的干燥。
文檔編號F26B5/16GK102062518SQ20091022149
公開日2011年5月18日 申請日期2009年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月17日
發(fā)明者張書省, 張欽淵, 曾義能, 蔡嘉雄, 謝洹圳 申請人:均豪精密工業(yè)股份有限公司