專利名稱：炊具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種炊具，更具體地涉及一種能容易地清潔其烹飪室的炊具。
背景技術(shù)：
炊具是利用電或煤氣烹飪食物的家用器具。灶具通常包括容納及烹飪食物的烹飪 室。容納在烹飪室中的食物由設(shè)置在炊具中的加熱源進行加熱與烹飪。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題然而，傳統(tǒng)的烹飪室不能被容易地進行清潔。技術(shù)方案非常需要一種與傳統(tǒng)的炊具相比其烹飪室能夠被更容易進行清潔的炊具。在一個實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關(guān)閉烹飪室，并 且加熱源被設(shè)置成用于提供對烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內(nèi)表面上設(shè) 置搪瓷涂層(enamel coating)，該搪瓷涂層包括磷酸鹽基成分。在另一實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關(guān)閉烹飪室，并 且加熱源被設(shè)置成用于提供對烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內(nèi)表面上設(shè) 置搪瓷涂層，該搪瓷涂層包括五氧化二磷(P2O5)成分。此外，清潔設(shè)備將清潔水供給到烹飪 室內(nèi)部，控制單元控制加熱源和清潔設(shè)備的操作。在另一實施例中，炊具包括具有烹飪室的腔體。門選擇性地打開及關(guān)閉烹飪室。加 熱源提供對烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量。在烹飪室的內(nèi)表面上設(shè)置搪瓷涂層，該搪 瓷涂層包括五氧化二磷(P2O5)成分。蒸汽發(fā)生設(shè)備產(chǎn)生供給到烹飪室內(nèi)部的蒸汽，控制單 元控制加熱源和清潔設(shè)備的操作。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的炊具的第一實施例的立體圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第二實施例的示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第三實施例的示意圖；圖5是第三實施例中示出的高溫清潔水供給單元的豎向剖視圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第四實施例的示意圖；圖7和圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的炊具的第五實施例的主要部件的豎向剖視圖；以 及圖9是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第六實施例的示意圖。
具體實施例方式實現(xiàn)本發(fā)明的最佳模式將參考附圖，更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第一實施例。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的炊具的第一實施例的立體圖，圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一 實施例的示意圖。參考圖1和圖2，在炊具1的腔體10內(nèi)部設(shè)置烹飪室11。烹飪室11是烹飪食物的 場所。例如，烹飪室U可形成為六面體結(jié)構(gòu)，其中利用門14來打開該六面體結(jié)構(gòu)的前表面。烹飪室11能夠通過圍繞定中于炊具1下端的旋轉(zhuǎn)軸線拉動或推動門14，由門14 選擇性地打開及關(guān)閉?？刂破?5設(shè)置在腔體10的與炊具1的上部相對應(yīng)的前部上端?？刂破?5被設(shè) 置成包括輸入單元、輸出單元以及控制單元，其中，輸入單元接收操作炊具的操作信號，輸 出單元輸出關(guān)于炊具的操作情況的信息，控制單元控制炊具的操作。在此，控制單元尤其是 控制稍后將要描述的加熱源和/或清潔設(shè)備的操作。腔體10中設(shè)有一個或多個加熱源。加熱源提供用于對炊具1的烹飪室11內(nèi)部的 食物進行烹飪的熱量。在本實施例中，上加熱器17和下加熱器18安裝在烹飪室11的上部 和下部。上加熱器17和下加熱器18提供烹飪室11中的輻射熱。在該實施例中，對流設(shè)備 19安裝在烹飪室11的后表面上。對流設(shè)備19被設(shè)置成包括對流加熱器(未示出)和對流 風(fēng)扇(未示出)，并在利用對流風(fēng)扇使由對流加熱器加熱的空氣在烹飪室11內(nèi)循環(huán)時，提供 烹飪室11中的輻射熱。在可替代的實施例中，也可在烹飪室11中設(shè)置單獨的風(fēng)扇，該風(fēng)扇 吹送由上加熱器17和下加熱器18中的任一者加熱的空氣；或者也可在烹飪室11的后表面 上形成單獨的開口部，該開口部將對流加熱器的熱量輻射到烹飪室11的內(nèi)部。參考圖2的放大部分，在烹飪室11的內(nèi)部設(shè)置搪瓷涂層12。搪瓷涂層12可包含 磷酸鹽基成分，如五氧化二磷(P2O5)。包括五氧化二磷的磷酸鹽基成分改進了搪瓷涂層12 的抗腐蝕性、防銹性、耐高溫氧化性等。因此，在烹飪食物的過程中，容易去除附著于烹飪室 11的使用搪瓷涂層12的內(nèi)表面上的食物殘渣。例如，搪瓷涂層12可包含30%或更少的五 氧化二磷，優(yōu)選地，包含20%或更少的五氧化二磷。在腔體10的一側(cè)設(shè)置清潔設(shè)備，該清潔設(shè)備將高溫清潔水供給到烹飪室11的內(nèi) 部。高溫清潔水被供給到烹飪室11的內(nèi)部并被用于去除附著于烹飪室11的內(nèi)表面的食物 殘渣。清潔設(shè)備被設(shè)置成包括水箱21、加熱單元23、供給單元25、泵27和28以及管道29。清潔水儲存在水箱21中。水箱21可被可拆卸地安裝，以便在清潔水耗盡時容易 地補充清潔水。在可替代的實施例中，水箱21可從外部水源直接接收清潔水，或者可從包 含清潔水的單獨的容器接收清潔水。加熱單元23用于通過接收及加熱來自水箱21中的清潔水產(chǎn)生高溫清潔水。例如， 普通的熱水器(boiler)可用作加熱單元23。供給單元25用于將加熱單元23所加熱的高溫清潔水供給到烹飪室11的內(nèi)部。為 此，供給單元25安裝在烹飪室11的一側(cè)或伸入到烹飪室11的內(nèi)部，使得可將高溫清潔水 供給到烹飪室11的內(nèi)部。在該實施例中，使用兩個泵——第一泵27和第二泵28。第一泵27將水箱21中儲 存的清潔水輸送到加熱單元23。第二泵28用于將加熱單元23所加熱的高溫清潔水輸送及供給到供給單元25。然而，無需將泵設(shè)置成第一泵27和第二泵28。在可替代的實施例中， 可利用泵27和28中的僅一個泵來使水流經(jīng)管道29。在另一可替代的實施例中，加熱單元 23可與一個或多個泵一起被設(shè)置于水箱21中。管道29將水箱21連接至加熱單元23，并將熱單元23連接至供給單元25。通常， 較低溫度的清潔水流經(jīng)連接水箱21和加熱單元23的管道29，較高溫度的清潔水流經(jīng)連接 加熱單元23和供給單元25的管道29。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第一實施例的操作情況。首先，在烹飪室11內(nèi)部烹飪食物。如果在烹飪室11的內(nèi)部完成食物的烹飪，則從 烹飪室11中取出食物。同時，在烹飪過程中剩下的食物殘渣(例如，油等)可能附著到烹飪室11的內(nèi)表 面。因此，控制單元操作清潔設(shè)備來去除這些食物殘渣。更具體地，當?shù)谝槐?7被驅(qū)動時，儲存在水箱21中的清潔水通過管道29被輸送 到加熱單元23。被輸送到加熱單元23的清潔水由加熱單元23加熱，從而產(chǎn)生高溫清潔水。通過第二泵28將高溫清潔水輸送到供給單元25，其中高溫清潔水通過供給單元 25被供給到烹飪室11中。高溫清潔水從烹飪室11的內(nèi)表面上清洗掉食物殘渣或軟化食物 殘渣(這樣的食物殘渣可容易地擦去)，由此執(zhí)行對烹飪室11的清潔。在烹飪室11的內(nèi)壁上設(shè)置搪瓷涂層12，該搪瓷涂層12包括作為磷酸鹽基成分的 五氧化二磷。因此，可通過供給到烹飪室11內(nèi)部的高溫清潔水，容易地去除附著到烹飪室 11的內(nèi)壁的食物殘渣。本發(fā)明的模式在下文中，將參考附圖更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第二實施例。圖3是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第二實施例的示意圖。本實施例中與第一實施例中的 元件相同或相似的元件將使用圖1和圖2中的相同的附圖標記表示，并省略對它們的詳細 描述。參考圖3，烹飪食物的烹飪室11設(shè)置在腔體10內(nèi)。參考圖3的放大部分，在本實 施例的烹飪室11的內(nèi)表面上，按照與第一實施例相同或相似的方式，也設(shè)有搪瓷涂層12。在本實施例中，清潔水被供給到烹飪室11的內(nèi)部用以清潔烹飪室11，并通過至少 任一加熱源來加熱被供給到烹飪室11中的清潔水，所述加熱源可提供用于對烹飪室11內(nèi) 部的食物進行烹飪的熱量。因此，根據(jù)本實施例，可省略加熱清潔水的單獨的加熱源，例如，熱水器。更具體 地，清潔設(shè)備被設(shè)置成包括水箱31、供給單元33、泵35以及管道37。清潔水儲存在水箱31中。供給單元33將儲存在水箱31中的清潔水供給到烹飪 室11的內(nèi)部。泵35用于將儲存在水箱31中的清潔水輸送到烹飪室11的內(nèi)部。管道37 將水箱31連接至供給單元33。如果清潔水被供給到烹飪室11的內(nèi)部，控制單元(未示出)則控制加熱源中的至 少一個在預(yù)定時間內(nèi)進行操作。如果加熱源的操作結(jié)束或者加熱源的操作結(jié)束之后度過預(yù) 定的軟化時間(tempering time)，輸出單元輸出報告該情況的信號。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第二實施例的操作情況。首先，控制單元操作清潔設(shè)備來去除附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣。如果
6清潔設(shè)備被操作，泵35則被驅(qū)動。因此，在泵35的驅(qū)動下，儲存在水箱31中的清潔水流經(jīng) 管道37，從而通過供給單元33被供給到烹飪室11的內(nèi)部。如果清潔水被供給到烹飪室11的內(nèi)部，控制單元則控制加熱源(即，可能為上加 熱器17、下加熱器18以及對流設(shè)備19的至少一個加熱源)在預(yù)定的操作時間內(nèi)進行操作。 因此，被供給到烹飪室11中的清潔水由操作的加熱源進行加熱。同時，如果已度過加熱源的操作時間，S卩，加熱源的操作終止時，輸出報告該情況 的信號。如果加熱源的操作終止或者加熱源的操作終止之后度過預(yù)定的軟化時間，輸出單 元輸出報告該情況的信號。該信號向使用者報告加熱源的操作終止，和/或使附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食 物殘渣變?nèi)彳浀能浕瘯r間已度過。如果已度過軟化時間，使用者可擦拭清潔烹飪室11的內(nèi) 表面，從而完成對烹飪室11的清潔。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第三實施例。圖4是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第三實施例的示意圖，圖5是第三實施例的高溫清潔 水供給單元41的豎向剖視圖。本實施例中與第一實施例中的元件相同或相似的元件將使 用圖1和圖2中的相同的附圖標記表示，并省略對它們的詳細描述。參考圖4，烹飪食物的烹飪室11設(shè)置在腔體10內(nèi)。參考圖4的放大部分，在本實 施例的烹飪室11的內(nèi)表面上，按照與第一實施例相同或相似的方式，也設(shè)有搪瓷涂層12， 該搪瓷涂層12包括30%或更少的磷酸鹽基成分，優(yōu)選包括20%或更少的磷酸鹽基成分，例 如，五氧化二磷。在烹飪室11的底面形成聚水孔13A。聚水孔13A是被供給到烹飪室11內(nèi)部的清 潔水聚集在一起通過稍后所述的貯槽(sump)排出的場所。聚水孔13A可通過切下烹飪室 11的底面的一部分而形成。在本實施例中，聚水孔13A位于不會與下加熱器18重疊的區(qū) 域。同時，在腔體10的一側(cè)設(shè)置清潔設(shè)備，該清潔設(shè)備對附著到烹飪室11的內(nèi)表面的 食物殘渣進行清潔。更具體地，清潔設(shè)備被設(shè)置成包括供給單元41、貯槽43、過濾單元45、 加熱源47、泵48以及管道49。供給單元41可伸入到烹飪室11的內(nèi)部。供給單元41用于將高溫清潔水供給 到烹飪室11的內(nèi)部。在本實施例中，供給單元41設(shè)置在烹飪室11的頂部表面(ceiling surface)的中央部。然而，供給單元41的位置不局限于此。參考圖5，供給單元41被可旋轉(zhuǎn)地安裝在管道49的一端。在本實施例中，供給單 元41穿過烹飪室11的頂部表面的中央部，暴露至烹飪室11的內(nèi)部。供給單元41形成為 中空的柱形結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中下表面被遮擋而安裝在管道49的一端。供給單元41被可旋 轉(zhuǎn)地定中于管道49上。換言之，管道49成為使供給單元41定中的軸，供給單元41在該軸 上旋轉(zhuǎn)。另外，在供給單元41中形成多個供給孔42，高溫清潔水經(jīng)過這些供給孔42流出。 在本實施例中，在供給單元41處形成供給孔42，使得供給孔42與垂直于供給單元41的外 圓周表面的假想線形成預(yù)定的角度。在本實施例中，供給孔42相對于彼此水平地設(shè)置，并且這些供給孔42朝向相反方 向。在該位置中，流出供給孔42的高溫清潔水的力促使供給單元41以管道49為中心軸線旋轉(zhuǎn)。再參考圖4，貯槽43用于接收被供給到烹飪室11內(nèi)部用以清潔烹飪室11的內(nèi)壁 的清潔水。在本實施例中，貯槽43的位置低于烹飪室11的底面的中央部并處在聚水孔13A 的下方。然而，貯槽43的位置不局限于此。換言之，貯槽43的位置可依據(jù)聚水孔13A的位 置發(fā)生變化。在聚水孔13A與貯槽43之間設(shè)有過濾單元45。過濾單元45用于過濾聚集在聚水 孔13A的清潔水中所包含的異物(其可能是食物殘渣)。例如，具有預(yù)定結(jié)構(gòu)和尺寸的金屬 絲網(wǎng)(wire net)等可用作過濾單元45。因此，異物被大體去除的清潔水可聚集在貯槽43 中。同時，加熱源用于對聚集在貯槽43中的清潔水進行加熱。例如，鄰近貯槽43安裝 的加熱器47可用作加熱源。然而，如果具有任意形狀和設(shè)置在炊具的任何部位中的加熱器 能夠加熱聚集在貯槽43的清潔水，則它們也可用作加熱源。例如，加熱源可安裝在管道49 處。泵48用于將聚集在貯槽43中的清潔水輸送到供給單元41。換言之，聚集在貯槽 43中并被加熱成高溫的高溫清潔水由泵48輸送到供給單元41，以便由供給單元41供給到 烹飪室11的內(nèi)部。管道49用于將由貯槽43聚集并隨后由加熱器47加熱的高溫清潔水輸送到供給 單元41。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第三實施例的操作情況。如果控制單元操作清潔設(shè)備來去除附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣，首先， 泵48將聚集在貯槽43中的清潔水輸送到供給單元41。這時，由泵48輸送到供給單元41 的清潔水被輸送到加熱源，在加熱源中加熱清潔水。因此，高溫清潔水從加熱源中流出并通 過管道49流向供給單元41。同時，被輸送到供給單元41的高溫清潔水通過供給孔42被供給到烹飪室11的內(nèi) 部。供給單元41可旋轉(zhuǎn)地安裝在管道的一端，這些供給孔42相對于與供給單元41的外圓 周表面垂直的假想線成預(yù)定角度地供給高溫清潔水。因此，如果高溫清潔水通過供給孔42 被供給到烹飪室11的內(nèi)部，供給單元41則圍繞作為中心軸線的管道49旋轉(zhuǎn)。當供給單元41圍繞管道49旋轉(zhuǎn)時，從供給孔42中供給的高溫清潔水可被均勻地 噴灑在附著于烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣上。因此，可更有效地執(zhí)行對烹飪室11的清 潔。在下文中，將參考附圖更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第四實施例。圖6是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第四實施例的示意圖。本實施例中與第一實施例中的 元件相同或相似的元件使用圖1和圖2中的相同的附圖標記表示，并將省略對它們的詳細 描述。參考圖6，在本實施例中，在烹飪室11的內(nèi)表面上設(shè)置搪瓷涂層12，該搪瓷涂層12 包括磷酸鹽基成分，例如，包含30 %或更少的五氧化二磷(優(yōu)選地，包含20 %或更少的五氧 化二磷)的磷酸鹽基成分。這可視作與第一實施例中的情況相同或相似。在本實施例中，被供給到烹飪室11內(nèi)部的清潔水由加熱源進行加熱，所述加熱源 對烹飪室11內(nèi)部的食物進行烹飪。而且，被供給到烹飪室11內(nèi)部的清潔水未循環(huán)回到烹
8飪室11，而是被排出到外部。更具體地，為此，在本實施例中，清潔設(shè)備被設(shè)置成包括水箱 51、供給單元53、貯槽55、過濾器57、泵58以及管道59。清潔水儲存在水箱51中。供給單元53用于將儲存在水箱51中的清潔水供給到 烹飪室11的內(nèi)部。從供給單元53供給到烹飪室11內(nèi)部用以清潔烹飪室11的內(nèi)壁的清潔 水聚集在貯槽55中。貯槽55被設(shè)置在低于烹飪室11的底面的中央部的位置處，該位置與 形成在烹飪室11的底面上的聚水孔13A下方的位置相對應(yīng)。聚集在貯槽55中的清潔水， 例如通過傾空貯槽55的操作或通過連接到貯槽55的管道(未示出)等，而被排出到外部。泵58通過供給單元53將儲存在水箱51中的清潔水輸送到烹飪室11的內(nèi)部。管道59將水箱51連接到供給單元53。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第四實施例的操作情況。首先，控制單元操作清潔設(shè)備來去除附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣。如果 清潔設(shè)備被操作，泵58則被驅(qū)動。因此，在泵58的驅(qū)動下，儲存在水箱51中的清潔水流經(jīng) 管道59，從而通過供給單元53被供給到烹飪室11的內(nèi)部。如果清潔水被供給到烹飪室11的內(nèi)部，加熱源(即，可能為上加熱器17、下加熱器 18以及對流設(shè)備19的至少一個加熱源)操作。因此，被供給到烹飪室11內(nèi)部的清潔水由 操作的加熱源加熱，因而附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣被沖走或者被軟化，并隨后 被擦去，從而可實現(xiàn)對烹飪室11的清潔。同時，曾用于清潔烹飪室11的清潔水通過聚水孔13A聚集在貯槽55中。聚集在 貯槽55中的清潔水(S卩，曾用于清洗烹飪室的清潔水)通過傾空貯槽55的操作或通過連 接到貯槽55的管道，而被排出到外部。在下文中，將參考附圖更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第五實施例。圖7和圖8是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第五實施例的豎向剖視圖。對于本實施例中與 第一實施例中的元件相同或相似的元件，將省略對它們的詳細描述。參考圖7和圖8，在腔體10內(nèi)設(shè)置烹飪食物的烹飪室11。在烹飪室11的內(nèi)表面 上，按照與本發(fā)明的第一實施例相同或相似的方式，也設(shè)有搪瓷涂層12。供給單元61穿過開口部13B，該開口部13B通過切割烹飪室11的頂部表面的一部 分而形成。在此，蓋63和64應(yīng)當形成為具有至少大于供給單元61的水平截面的尺寸，稍 后將對其進行描述。供給單元61被安裝成選擇性地暴露至烹飪室11的內(nèi)部。換言之，供給單元61可 移動成暴露至烹飪室11的內(nèi)部，或被設(shè)置在上部位置(其在烹飪室11的外部)。供給單元 61形成為中空的柱形結(jié)構(gòu)，該柱形結(jié)構(gòu)的底面被遮擋。供給單元61可旋轉(zhuǎn)地居中安裝在管 道62的一端，高溫清潔水從管道62的這一端通過形成于供給單元61的多個供給孔(未示 出)排出。供給孔沿與垂直于供給單元61的外圓周表面的假想線成預(yù)定角度的方向，供給 高溫清潔水。這可視作與第一實施例中的情況相似。另外，第一蓋63和第二蓋64分別安裝在供給單元61的上方和下方。第一蓋63被 設(shè)置在供給單元61的上方，以便在供給單元61暴露至烹飪室11的內(nèi)部時覆蓋開口部13B。 第二蓋64被設(shè)置在供給單元61的下方，以便在供給單元61被設(shè)置在烹飪室11的外部時 覆蓋開口部13B。在本實施例中，第一蓋63和第二蓋64分別與供給單元61的上方或下方間隔開預(yù)
9定的距離。為此，第一蓋63在供給單元61的上表面上方的預(yù)定距離處被固定到管道62。 第二蓋64被固定到安裝桿65的、距供給單元61的下表面為預(yù)定長度的一端。在可替代的 實施例中，第一蓋63和第二蓋64可分別被固定到供給單元61的上表面和下表面。同時，第一密封構(gòu)件67和第二密封構(gòu)件68分別被設(shè)置在第一蓋63的下表面和第 二蓋64的卜.表面。第一密封構(gòu)件67用于密封烹飪室11的外部上表面與第一蓋63的下表 面之間的間隙。第二密封構(gòu)件68用于密封烹飪室11的頂部表面與第二蓋64的上表面之 間的間隙。第一密封構(gòu)件67和第二密封構(gòu)件68優(yōu)選地由耐熱材料制成，以便在烹飪室11 的內(nèi)部烹飪食物的過程中抵擋高溫。盡管圖中未示出，但可設(shè)置彈性構(gòu)件、驅(qū)動構(gòu)件以及驅(qū)動力傳遞構(gòu)件，從而使供給 單元61選擇性地暴露至烹飪室11的內(nèi)部。例如，彈性構(gòu)件提供將供給單元61拉出烹飪室 11使其位于烹飪室11外部的彈力。安裝在烹飪室11的外部上表面與第一蓋63的下表面 之間的螺旋彈簧(coil spring)可用作彈性構(gòu)件。驅(qū)動構(gòu)件提供驅(qū)動力，該驅(qū)動力使得供 給單元61被推入到烹飪室11中，從而暴露至烹飪室11的內(nèi)部。驅(qū)動力傳遞構(gòu)件將驅(qū)動構(gòu) 件的驅(qū)動力傳遞到供給單元61。例如，馬達可用作驅(qū)動構(gòu)件，將驅(qū)動構(gòu)件的驅(qū)動力傳遞到第 一蓋63的凸輪可用作為驅(qū)動力傳遞構(gòu)件。因此，如果驅(qū)動馬達被驅(qū)動，凸輪的一側(cè)使第一 蓋63向下移動，從而使供給單元61暴露至烹飪室11的內(nèi)部。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第五實施例的操作情況。首先，在烹飪室11內(nèi)部烹飪食物的過程中，供給單元61通過彈性構(gòu)件的彈力而被 設(shè)置在烹飪室11的外部。開口部13B由第二蓋64遮擋，并且由第二密封構(gòu)件68密封位于 烹飪室11的設(shè)有開口部13B的頂部表面與第二蓋64的上表面之間的間隙。因此，防止在 烹飪室11中烹飪食物的過程中，加熱的空氣從烹飪室11通過開口部13B泄漏。隨后，供給單元61通過開口部13B暴露至烹飪室11的內(nèi)部，以便沖走或軟化附著 到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣。更具體地，如果控制單元對驅(qū)動構(gòu)件進行驅(qū)動，驅(qū)動構(gòu) 件的驅(qū)動力則通過驅(qū)動力傳遞構(gòu)件而被傳遞給供給單元61。這使得供給單元61克服彈性 構(gòu)件的彈力而向下移動，以暴露至烹飪室11的內(nèi)部。在與本發(fā)明的第三實施例類似的結(jié)構(gòu)中，泵48 (參見圖4)將聚集在貯槽43 (參見 圖4)中的清潔水輸送到供給單元61。在貯槽43中，加熱源47 (參見圖4)對將被輸送到供 給單元61的清潔水進行加熱。被輸送到暴露至烹飪室11內(nèi)部的供給單元61的高溫清潔水，通過供給孔被供給 到烹飪室11的內(nèi)部。供給單元61可旋轉(zhuǎn)地安裝在管道62的一端，并且供給孔沿與垂直于 供給單元61的外圓周表面的假想線成預(yù)定角度的方向，供給高溫清潔水。因此，如果高溫 清潔水通過供給孔被供給到烹飪室11的內(nèi)部，由于高溫清潔水的推進力，供給單元61會以 管道62為中心旋轉(zhuǎn)。由于供給單元61如上所述地以管道62為中心旋轉(zhuǎn)，所以從供給孔供給的高溫清 潔水可均勻地清潔附著到烹飪室11的食物殘渣。因此，能更有效地執(zhí)行對烹飪室11的清潔。這時，開口部13B由第一蓋63遮蓋。而且，由第一密封構(gòu)件67密封位于烹飪室11 的設(shè)有開口部13B的外部上表面與第一蓋63之間的間隙。因此，防止通過供給孔供給的高 溫清潔水通過開口部13B泄漏到烹飪室11的外部。
另外，如果完成了通過供給單元61對附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣的清 洗，設(shè)置在供給單元61中的驅(qū)動構(gòu)件的驅(qū)動力會被停止。因此，如上所述，由于彈性構(gòu)件的 彈力，供給單元61會移到烹飪室11之外。在下文中，將參考附圖更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第六實施例。圖9是根據(jù)本發(fā)明的炊具的第六實施例的示意圖。本實施例中與第一實施例中的 元件相同或相似的元件使用圖1和圖2中的相同的附圖標記表示，并省略對它們的詳細描 述。參考圖9，在本實施例中，在烹飪室11的內(nèi)表面上設(shè)置搪瓷涂層12，搪瓷涂層12 包括磷酸鹽基成分，例如，包含30 %或更少的五氧化二磷(優(yōu)選地，包含20 %或更少的五氧 化二磷)的磷酸鹽基成分。這可視作與第一實施例中的情況相同或相似。在本實施例中，蒸汽被供給到烹飪室11的內(nèi)部，并通過所供給的蒸汽對烹飪室11 進行清潔。當然，被供給到烹飪室11內(nèi)部的蒸汽除用于清潔烹飪室11以外，還可用于對烹 飪室11內(nèi)部的食物進行烹飪。在本實施例中，設(shè)有蒸汽發(fā)生設(shè)備，其用于產(chǎn)生供給到烹飪室11內(nèi)部的蒸汽。蒸 汽發(fā)生設(shè)備被設(shè)置成包括水箱71、蒸汽發(fā)生單元73、供給單元75、泵77以及管道79。水儲存在水箱71中。水箱71可被可拆卸地安裝，以便補充水箱71中的水。在 可替代的實施例中，水箱71可從外部水源直接接收水，或者可從包含水的單獨的容器接收 水。蒸汽發(fā)生單元73用于通過接收及加熱來自水箱71中的水而產(chǎn)生蒸汽。為此，蒸 汽發(fā)生單元73可與本發(fā)明的第一實施例中的加熱單元23類似。然而，加熱單元23進行加 熱使清潔水的溫度升高，而蒸汽發(fā)生單元73進行加熱將水轉(zhuǎn)變?yōu)檎羝?。供給單元75將由蒸汽發(fā)生單元73產(chǎn)生的蒸汽供給到烹飪室11的內(nèi)部。泵77用于將儲存在水箱71中的水輸送到蒸汽發(fā)生單元73。管道79將水箱71連接到蒸汽發(fā)生單元73，并將蒸汽發(fā)生單元73連接到供給單元 75。在下文中，將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的炊具的第六實施例的操作情況。首先，如果控制單元操作蒸汽發(fā)生設(shè)備，泵77則被驅(qū)動。因此，在泵77的驅(qū)動下， 儲存在水箱71中的水流經(jīng)管道79，以便被供給到蒸汽發(fā)生單元73。蒸汽發(fā)生單元73加熱從水箱71供給的水來產(chǎn)生蒸汽。從蒸汽發(fā)生單元73產(chǎn)生 的蒸汽流經(jīng)管道79，以便通過供給單元75被供給到烹飪室11的內(nèi)部。同時，被供給到烹飪室11內(nèi)部的蒸汽還可用于清潔烹飪室11或用于對烹飪室11 內(nèi)部的食物進行烹飪。當被供給到烹飪室11內(nèi)部的蒸汽用于清潔烹飪室11時，被供給到 烹飪室11內(nèi)部的蒸汽使附著到烹飪室11的內(nèi)表面的食物殘渣變?nèi)彳洝Ｊ褂谜卟寥ビ晒┙o 到烹飪室11中的蒸汽軟化的食物殘渣，以便對烹飪室11進行清潔。盡管結(jié)合目前認為是可實施的示例性實施例描述了本發(fā)明，但是應(yīng)該認識到，本 發(fā)明并不局限于所公開的實施例，相反地，其旨在涵蓋在所附權(quán)利要求書的原理和范圍內(nèi) 的各種變型和等同設(shè)置方案。在如上所述的實施例中，盡管僅將上加熱器、下加熱器以及對流設(shè)備作為對烹飪 室內(nèi)部的食物進行烹飪的加熱源來進行了描述，但是還可設(shè)置其它的加熱源。例如，還可設(shè)置高頻加熱源(例如磁控管)，該高頻加熱源將微波供給到烹飪室的內(nèi)部。在如上所述的第二實施例中，輸出單元輸出報告已度過工作時間以及已度過軟化 時間的信號。然而，在本發(fā)明的其它實施例中，輸出單元還可輸出報告已度過加熱源或蒸汽 發(fā)生設(shè)備的工作時間和/或已度過工作時間后又度過軟化時間的信號。工業(yè)實用性利用根據(jù)本發(fā)明的實施例的炊具，可預(yù)期到以下效果。首先，烹飪室的內(nèi)表面涂覆有包括五氧化二磷(P2O5)的搪瓷。因此，在烹飪室內(nèi)部 烹飪食物的過程中，可容易對被食物殘渣等污染的烹飪室進行清潔。另外，可使用從清潔設(shè)備產(chǎn)生的高溫清潔水對烹飪室的內(nèi)部進行清潔。因此，可使 烹飪室的內(nèi)部保持得更干凈。
1權(quán)利要求
一種炊具，包括具有烹飪室的腔體；門，其選擇性地打開及關(guān)閉所述烹飪室；加熱源，其提供用于對所述烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量；以及搪瓷涂層，其被設(shè)置在所述烹飪室的內(nèi)表面上并包括磷酸鹽基成分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的炊具，其中所述搪瓷涂層包括五氧化二磷(P2O5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的炊具，其中所述搪瓷涂層包括20%的磷酸鹽基成分。
4.一種炊具，包括 具有烹飪室的腔體；門，其選擇性地打開及關(guān)閉所述烹飪室；加熱源，其提供用于對所述烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量；搪瓷涂層，其被設(shè)置在所述烹飪室的內(nèi)表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分；清潔設(shè)備，其將清潔水供給到所述烹飪室的內(nèi)部；以及控制單元，其控制所述加熱源和所述清潔設(shè)備的操作。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的炊具，其中所述清潔設(shè)備包括 儲存清潔水的水箱；以及供給單元，其將儲存在所述水箱中的清潔水供給到所述烹飪室的內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的炊具，其中被供給到所述烹飪室內(nèi)部的清潔水由用于烹飪食 物的所述加熱源或單獨的加熱源進行加熱。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的炊具，其中所述清潔設(shè)備包括 供給單元，其將清潔水供給到所述烹飪室的內(nèi)部；以及 貯槽，其使被供給到所述烹飪室內(nèi)部的清潔水聚集。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，其中被供給到所述烹飪室內(nèi)部的清潔水由所述加熱源 進行加熱。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，其中被供給到所述烹飪室中的清潔水由單獨的加熱源 進行加熱。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，其中聚集在所述貯槽中的清潔水由清潔設(shè)備再循環(huán) 到所述烹飪室的內(nèi)部，或者被排出到所述烹飪室的外部。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，還包括輸出單元，其在用于清潔所述烹飪室內(nèi)部的清潔設(shè)備的操作完成時輸出報告信號。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，還包括輸出單元，其在用于清潔所述烹飪室內(nèi)部的所述清潔設(shè)備的操作完成之后度過預(yù)定時 間時輸出報告信號。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，其中所述供給單元選擇性地暴露至所述烹飪室的內(nèi)部。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的炊具，其中所述供給單元在將清潔水供給到所述烹飪室內(nèi) 部的同時進行旋轉(zhuǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的炊具，其中所述供給單元在流出所述供給單元的清潔水的 推進下進行旋轉(zhuǎn)。
16.一種炊具，包括 具有烹飪室的腔體；門，其選擇性地打開及關(guān)閉所述烹飪室；加熱源，其提供用于對所述烹飪室內(nèi)部的食物進行烹飪的熱量；以及 搪瓷涂層，其被設(shè)置在所述烹飪室的內(nèi)表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分； 蒸汽發(fā)生設(shè)備，其產(chǎn)生被供給到所述烹飪室內(nèi)部的蒸汽；以及 控制單元，其控制所述加熱源和所述蒸汽發(fā)生設(shè)備的操作。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的炊具，其中所述蒸汽發(fā)生設(shè)備包括 儲存水的水箱；以及蒸汽發(fā)生單元，其通過加熱由所述水箱供給的水產(chǎn)生蒸汽。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的炊具，其中所述水箱可拆卸地安裝在所述腔體的一側(cè)。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的炊具，還包括輸出單元，其在用于清潔所述烹飪室內(nèi)部的蒸汽發(fā)生設(shè)備的操作完成時輸出報告信號。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的炊具，還包括輸出單元，其在用于清潔所述烹飪室內(nèi)部的蒸汽發(fā)生設(shè)備的操作完成之后度過預(yù)定時 間時輸出報告信號。
全文摘要
在烹飪室的內(nèi)表面上設(shè)置包含磷酸鹽基成分的搪瓷涂層，并使用高溫清潔水對烹飪室的內(nèi)表面進行清潔。因此，可更有效地執(zhí)行對烹飪室的清潔。
文檔編號F24C7/00GK101981383SQ200980110992
公開日2011年2月23日 申請日期2009年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月23日
發(fā)明者全容奭, 李映佑, 梁在卿, 金亮卿 申請人:Lg電子株式會社