專利名稱：一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝。
背景技術(shù)：
目前熒光粉生產(chǎn)大都需要經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)，陶瓷坩堝可作為其燒結(jié)時用的容器。對 于釔鋁石榴石(YAG)等需要還原的熒光粉來說，燒結(jié)步驟可在高溫管式爐中通入還原氣體 還原，也可在密閉的坩堝內(nèi)利用碳粉等生成CO作為還原劑。以上兩種方法各有優(yōu)勢，其中， 后一種方法可在簡單、廉價的高溫箱式爐中使用。但傳統(tǒng)的雙層坩堝成倒“凸”字形，燒結(jié) YAG時，碳粉放置在底層，而待燒結(jié)的YAG粉放置在第二層上，因第二層空間有限，無法滿足 工業(yè)生產(chǎn)的需求。CN1308503C中公開了一種用于鋰氣氛氣相傳輸平衡方法的坩堝，該坩堝是A1203 陶瓷坩堝，由坩堝、架角、中間隔板和坩堝蓋構(gòu)成，在該坩堝內(nèi)安置該架角，在該架角上放置 該中間隔板，該中間隔板上開設(shè)有若干通氣孔和供樣品放置的細(xì)槽，坩堝蓋的邊沿設(shè)有與 坩堝的周邊相配合的環(huán)行凹槽。這樣的坩堝對于晶體生長的氣相傳輸平衡方法有用，但是 對于YAG這種粉體物料的氣相傳輸并不適合，不能使物料的氣氛保持一致。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有可用于還原氣體氣氛平衡的坩堝無法滿足 生產(chǎn)對于物料承載空間的問題。本實用新型提供一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，該坩堝包括坩堝本體、坩堝 蓋，所述坩堝還含有位于坩堝壁上、可用于承托物料燒結(jié)容器的數(shù)個卡槽或突起，所述卡槽 的個數(shù)為大于等于2的整數(shù)，突起的個數(shù)為大于等于4的雙數(shù)。當(dāng)承托物料燒結(jié)容器的為卡槽時，物料燒結(jié)容器(如燒舟)可以直接卡入卡槽內(nèi)， 從而得以固定。當(dāng)承托物料燒結(jié)容器的為突起時，物料燒結(jié)容器(如燒舟)可架設(shè)于兩個突起之 間。本實用新型提供的坩堝能在整個蓋實的密閉環(huán)境中分層放置不同原料進(jìn)行燒結(jié)， 且有利于擴(kuò)大燒結(jié)原料與還原氣體的接觸面積從而有利于燒結(jié)反應(yīng)的發(fā)生。能應(yīng)用在普通 的箱式電爐中，且使用方便，適合工業(yè)化生產(chǎn)。

圖1為本實用新型的一種設(shè)有突起的坩堝的正面剖視示意圖；圖2為與實用新型坩堝配合使用的燒舟的俯視圖；圖3為圖2中A-A向剖視示意圖；圖4為本實用新型的一種設(shè)有突起的坩堝配合燒舟使用狀態(tài)的側(cè)面剖視示意圖；圖5為圖1中配合燒舟使用狀態(tài)的正面剖視示意圖；[0014]圖6為本實用新型的一種設(shè)有卡槽的坩堝配合燒舟使用狀態(tài)的正面剖視示意圖；圖7為本實用新型的另一種設(shè)有卡槽的坩堝配合燒舟使用狀態(tài)的正面剖視示意 圖；其中，附圖標(biāo)記11、坩堝本體；12、突起；13、坩堝蓋；14、卡槽；2、放置還原碳粉的空間。
具體實施方式
為了使本實用新型所解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下 結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施 例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，該坩堝包括坩堝本體11、坩堝蓋13，所述坩 堝還含有位于坩堝壁上、可用于承托物料燒結(jié)容器的數(shù)個卡槽14或突起12，所述卡槽的個 數(shù)為大于等于2的整數(shù)，突起的個數(shù)為大于等于4的雙數(shù)。所述物料燒結(jié)容器為本領(lǐng)域的技術(shù)人員公知的各種耐燒結(jié)溫度同時又不與物料 發(fā)生反應(yīng)的容器，比如燒舟。所述燒舟3的俯視圖如圖2所示，為中間設(shè)有凹槽的陶瓷體； 所述圖3為圖2中A-A向剖視示意圖。燒舟3中間的凹槽可用于盛放燒結(jié)物料，如待燒結(jié) 的YAG粉。坩堝本體11的形狀為本領(lǐng)域的技術(shù)人員公知的各種形狀，本實用新型中的坩堝 本體的形狀可以為圓筒型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一種。優(yōu)選地，所述坩堝本體11的形狀為方盒型，坩堝本體的形狀為方盒型可以比較方 便設(shè)置卡槽或者突起的空間位置，方便物料燒結(jié)容器的取出和放置，同時，較大程度地合理 分化了坩堝內(nèi)的空間，有利于需要還原氣體氣氛平衡的情況，如燒結(jié)YAG時。所述坩堝本體的形狀為方盒型，所述數(shù)對突起分別對稱分布在坩堝的兩個相對的 壁上，突起所在的兩個壁均垂直于坩堝底面，坩堝蓋所在的平面與坩堝底面相平行。優(yōu)選 地，與突起所在的壁相鄰接的兩個平面分別為第一平面、第二平面，靠近第一平面設(shè)有相互 平行的數(shù)個第一排突起，靠近第二平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第二排突起，與第一排突起相 對的壁上對稱設(shè)有第三排突起，與第二排突起相對的壁上對稱設(shè)有第四排突起，所述沿第 一排突起的突起軌跡形成的直線為第一直線，沿第二排突起的突起軌跡形成的直線為第二 直線，第一直線與第二直線不相同且相互平行。突起成對分別對稱分布在坩堝的兩個相對 的壁上，如圖4或圖5所示，承托燒舟時，只要將燒舟架設(shè)在兩個對稱分布的突起之間即可， 燒舟的兩端被突起承托住，燒舟的中間架設(shè)于坩堝的空間中，燒舟比較穩(wěn)定，而且燒舟非常 容易放置。所述圖1為本實用新型的突起對稱分布在坩堝的兩個相對的壁上的一種坩堝的 正面剖視示意圖；作為本實用新型公開的坩堝的一種實施方式，如圖1所示，該坩堝中的突 起個數(shù)為8個；圖5為上述坩堝配合燒舟使用狀態(tài)的正面剖視示意圖，從圖5中可以看出 燒舟架設(shè)在兩個對稱分布的突起之間，各燒舟在空間上相互平行。與突起所在的某個壁相 鄰接的兩個平面分別為第一平面、第二平面，如圖4所示，靠近第一平面(即圖4中的左邊 2個突起，)設(shè)有相互平行的2個第一排突起(即圖4中的左邊2個相互平行的突起，也即 圖1中左邊2個未被剖開的突起)，靠近第二平面設(shè)有相互平行的2個第二排突起(即圖4中的右邊2個相互平行的突起，也即圖1中左邊2個被剖開的突起)，與第一排突起相對 的壁上對稱設(shè)有第三排突起，與第二排突起相對的壁上對稱設(shè)有第四排突起，所述沿第一 排突起的突起軌跡形成的直線為第一直線，沿第二排突起的突起軌跡形成的直線為第二直 線，第一直線與第二直線不相同且相互平行。即第一排突起與第二排突起在空間上相互交 錯，如圖4所示為上述坩堝配合燒舟使用狀態(tài)的側(cè)面剖視示意圖；從圖4中可以清楚地看出 第一排突起與第二排突起在空間上相互交錯。所述坩堝本體的形狀為方盒型，所述數(shù)個卡槽均設(shè)在坩堝的一個壁上(如圖6所 示)或均勻分布在兩個相對的壁上(如圖7所示)，卡槽所在的壁垂直于坩堝底面，坩堝蓋 所在的平面與坩堝底面相平行。優(yōu)選地，與卡槽所在的壁相鄰接的兩個平面分別為第一平 面、第二平面，靠近第一平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第一排卡槽，靠近第二平面設(shè)有相互平行 的數(shù)個第二排卡槽，所述沿第一排卡槽的卡槽軌跡形成的直線為第一直線，沿第二排卡槽 的卡槽軌跡形成的直線為第二直線，第一直線與第二直線不相同且相互平行。所述的卡槽 14如圖6所示，燒結(jié)容器燒舟被卡在卡槽內(nèi)得以固定，圖6中的卡槽14的個數(shù)為3個，其 中，第一排卡槽的個數(shù)為1個，第二排卡槽的個數(shù)為2個。所述的卡槽14如圖7所示，燒結(jié) 容器燒舟被卡在卡槽內(nèi)得以固定，圖7中的卡槽14均勻分布在兩個相對的壁上，卡槽的個 數(shù)為4個，其中，第一排卡槽的個數(shù)為2個，第二排卡槽的個數(shù)為2個。所述卡槽或突起在所在的壁上延伸的長度占所在壁長度的1/4-2/5 ；優(yōu)選為2/5， 如圖4所示，此時，燒舟比較容易放置；卡槽或突起在所在的壁上延伸的長度占所在壁長度 最好不超過1/2，超過1/2，那么就不能設(shè)置成兩排突起或凹槽了，那么燒結(jié)空間的設(shè)置就 不能更大限度地排布物料燒結(jié)容器。所述卡槽的個數(shù)優(yōu)選為大于等于3的整數(shù)，突起的個數(shù)優(yōu)選為大于等于8的雙數(shù)； 卡槽或者突起的個數(shù)越多，那么坩堝的空間被劃分地越多，越有利于放置更多的物料，但是 因物料燒結(jié)容器有一定的高度，所以可以根據(jù)坩堝的空間而適當(dāng)?shù)卦O(shè)置突起或卡槽的個 數(shù)。具體的來說，燒結(jié)容器的高度比垂直方向上兩相鄰的突起高度差要小一些，燒結(jié)容器的 的寬度要小于坩堝內(nèi)部的長度才能方便燒結(jié)容器的自由取出，放入的順序是自下而上，先 放置最靠近坩堝底部的突起或者卡槽上的燒結(jié)容器，再逐漸放置高放置的燒結(jié)容器，放置 過程始終保持燒結(jié)容器的水平，取出順序則相反。下面就本實用新型的如圖1所示的一種設(shè)有突起的坩堝使用過程進(jìn)行描述。如圖 1所示，在一個帶密封蓋的底部為方型的坩堝中的上半部分設(shè)置四對寬度大約為正方形邊 長的2/5的突起。在熒光粉YAG燒結(jié)實驗，坩堝底部位置即圖4或圖5中標(biāo)注2的空間位 置中填充活性碳，并壓實；將燒舟按上述方法從最靠近坩堝底部的那一對突起處開始放置， 并在每一個放置穩(wěn)定后的燒舟中平鋪YAG燒結(jié)前驅(qū)體；平鋪完成后再放置上一層燒舟，直 至完全完成放置，蓋好坩堝蓋13，平穩(wěn)放置在普通高溫箱式爐中進(jìn)行燒結(jié)，得到Y(jié)AG。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本 實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型 的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，該坩堝包括坩堝本體(11)、坩堝蓋(13)，其特 征在于，所述坩堝還含有位于坩堝壁上、可用于承托物料燒結(jié)容器的數(shù)個卡槽(14)或突起 (12)，所述卡槽的個數(shù)為大于等于2的整數(shù)，突起的個數(shù)為大于等于4的雙數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述物料燒結(jié)容器為燒舟⑶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，坩堝本體(11)的形狀為圓筒 型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述坩堝本體的形狀為方盒 型，所述數(shù)對突起分別對稱分布在坩堝的兩個相對的壁上，突起所在的兩個壁均垂直于坩 堝底面，坩堝蓋所在的平面與坩堝底面相平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，與突起所在的壁相鄰接的兩 個平面分別為第一平面、第二平面，靠近第一平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第一排突起，靠近第 二平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第二排突起，與第一排突起相對的壁上對稱設(shè)有第三排突起， 與第二排突起相對的壁上對稱設(shè)有第四排突起，所述沿第一排突起的突起軌跡形成的直線 為第一直線，沿第二排突起的突起軌跡形成的直線為第二直線，第一直線與第二直線不相 同且相互平行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述坩堝本體的形狀為方盒 型，所述數(shù)個卡槽均設(shè)在坩堝的一個壁上，卡槽所在的壁垂直于坩堝底面，坩堝蓋所在的平 面與坩堝底面相平行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述坩堝本體的形狀為方盒 型，所述數(shù)個卡槽均勻分布在坩堝的兩個相對的壁上，卡槽所在的壁垂直于坩堝底面，坩堝 蓋所在的平面與坩堝底面相平行。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，與卡槽所在的壁相鄰接的兩 個平面分別為第一平面、第二平面，靠近第一平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第一排卡槽，靠近第 二平面設(shè)有相互平行的數(shù)個第二排卡槽，所述沿第一排卡槽的卡槽軌跡形成的直線為第一 直線，沿第二排卡槽的卡槽軌跡形成的直線為第二直線，第一直線與第二直線不相同且相 互平行。
9.根據(jù)權(quán)利要求4-8任意一項所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述卡槽或突起 在所在的壁上延伸的長度占所在壁長度的1/4-2/5。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-8任意一項所述的用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，所述卡槽的個 數(shù)為大于等于3的整數(shù)，突起的個數(shù)為大于等于8的雙數(shù)。
專利摘要本實用新型提供了一種用于還原氣體氣氛平衡的坩堝，該坩堝包括坩堝本體(11)、坩堝蓋(13)，其特征在于，所述坩堝還含有位于坩堝壁上、可用于承托物料燒結(jié)容器的數(shù)個卡槽(14)或突起(12)，所述卡槽的個數(shù)為大于等于2的整數(shù)，突起的個數(shù)為大于等于4的雙數(shù)。本實用新型提供的坩堝能在整個蓋實的密閉環(huán)境中分層放置不同原料進(jìn)行燒結(jié)，且有利于擴(kuò)大燒結(jié)原料與還原氣體的接觸面積從而有利于燒結(jié)反應(yīng)的發(fā)生。能應(yīng)用在普通的箱式電爐中，且使用方便，適合工業(yè)化生產(chǎn)。
文檔編號F27D5/00GK201779995SQ20102021337
公開日2011年3月30日 申請日期2010年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月31日
發(fā)明者周芳享, 陳秋繪 申請人:比亞迪股份有限公司