專利名稱：一種硅片清洗干燥方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種硅片清洗干燥方法。
背景技術(shù)：
目前在硅片清洗中，主要采用離心甩動干燥和切水劑分離干燥。1 離心甩動干燥須要專人把潮濕的硅片從清洗槽中取出，且需要一臺提供壓縮空氣的油壓機，高壓氣體從中間吹擊四周硅片，保證水能從硅片上順利飛離。此方法每臺設(shè)備需要多一名員工操作，且在實際生產(chǎn)過程中很易將壓縮機機中的油經(jīng)過空氣噴射到硅片上，形成臟片。此臟片在目測檢測時很難發(fā)現(xiàn)，需要至電池端到酸液或者堿液中制絨后，方可顯現(xiàn)出來，產(chǎn)生的報廢片較多。且離心甩干機在拿放多晶硅片至其中時特別不方便，經(jīng)常造成不必要的破片。2 切水劑分離干燥首先切水劑為碳氫化合物，易燃易爆，使用時安全隱患很大， 使用后處理對壞境污染有一定影響，且需要人工每2小時對下部臟水排出，在槽中加入新切水劑(一般每升切水劑8到10人民幣，每洗1. 5萬片大約需要20升)；對勞動力有一定占用，生產(chǎn)投入較大。現(xiàn)在國內(nèi)外行業(yè)內(nèi)尚無同時解決清洗后硅片干燥所帶來的臟片無法檢測、勞動力浪費、無隱患生產(chǎn)以及成本較高的積極有效方法的報道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種硅片清洗干燥方法，消除生產(chǎn)過程中的安全隱患，降低生產(chǎn)成本，降低硅片清洗破片率、臟片率和后續(xù)電池加工的報廢率。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的方案是一種硅片清洗干燥方法，其特征是具體如下工藝步驟(一 )、對一多晶棒或單晶棒切片后，經(jīng)預清洗，清洗后的潮濕硅片進入清洗機；( 二)、在清洗機的末端清洗槽中加入70°C至80°C純水；(三)、將在清洗機中經(jīng)過前道清洗洗凈后的潮濕的硅片浸入70°C至80°C純水中 3至4分鐘，慢慢提出；(四)、進入烘箱中高溫風干為干燥硅片；(五)、干燥硅片經(jīng)過分選、測試等工序便可包裝成成品。本發(fā)明的有益效果是該硅片的清洗干燥方法根本技術(shù)革新在于1、使用熱純水代替了切水劑，從根本上消除了企業(yè)的安全隱患，降低了人員的工作量和在加切水劑時產(chǎn)生的不必要的破片，且使用后的純水可以直接排出，對環(huán)境無任何污染；2、通過使用熱水的方法使硅片變熱，從而進入烘箱時，更易干燥；3、通過使用純凈熱水，相當于增加了一道清洗，使發(fā)生臟片的概率更低，且通過使用水為清洗劑清洗，對油污等近乎無任何溶解性，當出現(xiàn)硅片車間經(jīng)常出現(xiàn)的油污片時，很易發(fā)現(xiàn)，降低硅片車間的臟片率，為硅片在電池端的良率進一步提供了保證。


下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明；圖1是本發(fā)明的用于硅片清洗干燥的純水加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1、加熱管、2.預加熱管，3、儲液箱，4、第7#槽。
具體實施例方式一種硅片清洗干燥方法，該生產(chǎn)方法如下(一 )、對一多晶棒或單晶棒切片后，送至預清洗進行清洗。預清洗一共四槽①第一槽采用0. 1 0. 2ΜΙ^噴淋水壓噴淋，主要為了把清水射進硅片之間，把硅片之間的砂漿進行一個初期的清洗；②第姊和3#槽采用清水溢流，并在槽底裝有超聲震板，主要為了把噴淋下來的還附在硅片表面的砂漿，溢流清洗；③第4#槽為脫膠槽，溶液為50%乳酸對50%清水，溶液多少按照槽的大小來定.主要為把硅片與玻璃板粘接的膠軟化，從而使硅片和玻璃板分離。( 二)、從預清洗出來后，預清洗操作員工把脫完膠的硅片抱入清洗機的插片槽。 清洗操作員工把待清洗硅片，插入片盒中，再按規(guī)定裝入鐵籃中，進入設(shè)備中進行清洗。清洗機一共7槽，當然在此并不限定只有7個槽①第1#和2#采用清水溢流，且在槽底裝有超聲震板。目的把片盒中，分開后硅片表面的砂漿進行清洗。②第3#和4#為清洗劑，清洗劑成分為ΥΖ-16和NaOH兩種，槽下裝有超聲震板。目的把硅片切割時，線痕紋理中的砂漿進行清洗。③第5#和6#槽為純水溢流，槽下裝有超聲震板。目的把硅片表面清洗后，殘留在硅片表面的清洗液清洗干凈。(三)、因清洗機采用為水溶液清洗，為了保證從純水中出來的硅片迅速蒸發(fā)烘干，不在硅片表面因長時間堆積，形成水印等臟片，把第6#槽洗凈的硅片，浸入到清洗機末道的第7#槽4的熱純水中。(四)、為保證第7#槽4為熱的純水，可在水槽下部加裝兩根加熱管1。(五)、為保證槽中純水在有一定溢流的情況下保持70°C至80°C，可以在進水口， 加裝一個儲液箱3，在儲液箱3中加入三到四根預加熱管2，使從管道中出來的冷純水，先經(jīng)過儲液箱3預加熱到一定溫度。(六)、為了使硅片從第7#槽4中出來時，盡可能多的，快速的把表面的水揮發(fā)，在第7#槽4后面加裝一個提拉電機，使硅片從第7#槽4出來時，慢慢上升，保證在硅片露出水面部分，水分蒸發(fā)時，下部浸在水中的部分，溫度并未降低。(七)、從第7#槽4熱純水中出來后進入烘箱中高溫風干為干燥硅片。(八)、從烘箱出來后經(jīng)分選、測試等工序便可包裝成成品。
權(quán)利要求
1. 一種硅片清洗干燥方法，其特征是 具體如下工藝步驟(一)、對一多晶棒或單晶棒切片后，經(jīng)預清洗，清洗后的潮濕硅片進入清洗機；(二)、在清洗機的末端清洗槽中加入70°c至80°C純水；(三)、將在清洗機中經(jīng)過前道清洗洗凈后的潮濕的硅片浸入70°C至80°C純水中3至 4分鐘，慢慢提出；(四)、進入烘箱中高溫風干為干燥硅片；(五)、干燥硅片經(jīng)過分選、測試等工序便可包裝成成品。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種硅片清洗干燥方法，其具體如下工藝步驟(一)、對一多晶棒或單晶棒切片后，經(jīng)預清洗，清洗后的潮濕硅片進入清洗機；(二)、在清洗機的末端清洗槽中加入70℃至80℃純水；(三)、將在清洗機中經(jīng)過前道清洗洗凈后的潮濕的硅片浸入70℃至80℃純水中3至4分鐘，慢慢提出；(四)、進入烘箱中高溫風干為干燥硅片；(五)、干燥硅片經(jīng)過分選、測試等工序便可包裝成成品。該硅片的清洗干燥方法根本技術(shù)革新在于1、使用熱純水代替了切水劑，從根本上消除了企業(yè)的安全隱患；2、通過使用熱水的方法使硅片變熱，從而進入烘箱時，更易干燥；3、通過使用純凈熱水，相當于增加了一道清洗，使發(fā)生臟片的概率更低。
文檔編號F26B3/06GK102313440SQ201110185248
公開日2012年1月11日 申請日期2011年7月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月4日
發(fā)明者葛榮保, 賀潔 申請人:常州天合光能有限公司