專(zhuān)利名稱(chēng)：窯爐及其循環(huán)水冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及冷卻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種循環(huán)水冷卻裝置，本實(shí)用新型還涉及一種具有上述循環(huán)水冷卻裝置的窯爐。
背景技術(shù)：
窯爐是用耐火材料堆砌而成，用以煅燒物料或燒制成品的設(shè)備。由于窯爐在工作的過(guò)程中處于高溫狀態(tài)，窯爐的爐壁溫度很高需要對(duì)爐壁進(jìn)行冷卻，而且在生產(chǎn)的過(guò)程中還需要對(duì)燒制成的產(chǎn)品進(jìn)行出窯前的冷卻。在實(shí)際的生產(chǎn)過(guò)程中一般采用循環(huán)水對(duì)窯爐進(jìn)行冷卻。循環(huán)水將窯爐中熱量帶出后，在冷卻水池中進(jìn)行自身的冷卻后再次進(jìn)入到窯爐的冷卻系統(tǒng)中對(duì)窯爐進(jìn)行冷卻，循環(huán)水在循環(huán)過(guò)程以水泵作為動(dòng)力源。現(xiàn)有循環(huán)水冷卻裝置是冷卻水池，由于冷卻水池占地面積大，這對(duì)于土地成本越來(lái)越高的今天，無(wú)疑給廠家?guī)?lái)了較大的生產(chǎn)成本壓力。綜上所述，如何提供一種循環(huán)水冷卻裝置，以減少現(xiàn)有的循環(huán)水冷卻裝置的占地面積，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種循環(huán)水冷卻裝置，以減少現(xiàn)有的循環(huán)水冷卻裝置的占地面積。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案一種循環(huán)水冷卻裝置，包括進(jìn)水管和出水管，還包括與所述出水管相連通的底層集水盤(pán)；和與所述底層集水盤(pán)呈上下分布，且與所述進(jìn)水管的出水口相通的頂層集水盤(pán)，其上設(shè)置有落水口。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，還包括設(shè)置在所述底層集水盤(pán)和頂層集水盤(pán)之間的中間集水盤(pán)，其具有落水口。 優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述中間集水盤(pán)為多層。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述進(jìn)水管沿豎直方向依次穿過(guò)所述底層集水盤(pán)、中間集水盤(pán)和頂層集水盤(pán)。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述進(jìn)水管位于所述頂層集水盤(pán)、中間集水盤(pán)和底層集水盤(pán)的中心。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述頂層集水盤(pán)的面積小于所述中間集水盤(pán)的面積，所述中間集水盤(pán)的面積小于所述底層集水盤(pán)的面積。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述頂層集水盤(pán)、底層集水盤(pán)和中間集水盤(pán)通過(guò)貫穿其盤(pán)面的支撐桿相互連接。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，還包括設(shè)置在所述進(jìn)水管的出水端的圓錐頂蓋，其具有與所述進(jìn)水管的出水口相對(duì)的錐形阻水面。優(yōu)選的，上述循環(huán)水冷卻裝置中，所述圓錐頂蓋通過(guò)設(shè)置在所述進(jìn)水管上的支撐架與所述進(jìn)水管相連接。與現(xiàn)有的循環(huán)水冷卻裝置相比，本實(shí)用新型的主要改進(jìn)點(diǎn)是將循環(huán)水冷卻裝置的冷卻面向著空間發(fā)展，采用上下分布的頂層集水盤(pán)和底層集水盤(pán)對(duì)循環(huán)水進(jìn)行冷卻。本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置的工作過(guò)程如下進(jìn)水管將窯爐的冷卻系統(tǒng)中的循環(huán)水排出到頂層集水盤(pán)中，循環(huán)水通過(guò)頂層集水盤(pán)的落水口落入到底層集水盤(pán)上，經(jīng)過(guò)頂層集水盤(pán)和底層集水盤(pán)冷卻后的循環(huán)水通過(guò)出水管輸送到窯爐的冷卻系統(tǒng)中繼續(xù)對(duì)窯爐進(jìn)行冷卻。從上述工作過(guò)程可以看出，本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置通過(guò)空間上下分布的頂層集水盤(pán)和底層集水盤(pán)進(jìn)行循環(huán)水的冷卻，與現(xiàn)有的采用冷卻水池的冷卻裝置相比， 在保證與現(xiàn)有的冷卻水池具有相同的冷卻散熱面積的前提下，本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置減少了循環(huán)水冷卻裝置的占地面積。基于上述提供的循環(huán)水冷卻裝置，本實(shí)用新型還提供了一種窯爐，該窯爐具有上述任意一項(xiàng)所述的循環(huán)水冷卻裝置。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的循環(huán)水冷卻塔的結(jié)構(gòu)示意圖。圖 1 中進(jìn)水管1、圓錐頂蓋2、支撐架3、中間集水盤(pán)4、支撐桿5、出水管6、支腳7、頂層集水盤(pán)8、底層集水盤(pán)9。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種循環(huán)水冷卻裝置，減少了現(xiàn)有的循環(huán)水冷卻裝置的占地面積。下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參考附圖1，該圖示出了本實(shí)施例提供的循環(huán)水冷卻裝置的結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的循環(huán)水冷卻裝置包括進(jìn)水管1、出水管6、底層集水盤(pán)9 和頂層集水盤(pán)8，其中進(jìn)水管1將窯爐的冷卻系統(tǒng)中的循環(huán)水輸出到該循環(huán)水冷卻裝置中，出水管6將經(jīng)過(guò)冷卻的循環(huán)水再次輸送到窯爐的冷卻系統(tǒng)中對(duì)窯爐進(jìn)行冷卻；頂層集水盤(pán)8與底層集水盤(pán)9呈上下分布，其中底層集水盤(pán)9與出水管6相連通；進(jìn)水管1與頂層集水盤(pán)8相通，頂層集水盤(pán)8上設(shè)置有落水口，實(shí)現(xiàn)循環(huán)水向著底層集水盤(pán)9跌落。與現(xiàn)有的循環(huán)水冷卻裝置相比，本實(shí)用新型的主要改進(jìn)點(diǎn)是將循環(huán)水冷卻裝置的冷卻面向著空間發(fā)展，采用上下分布的頂層集水盤(pán)8和底層集水盤(pán)9對(duì)循環(huán)水進(jìn)行冷卻。 其冷卻工作過(guò)程如下進(jìn)水管1將窯爐中冷卻系統(tǒng)中的循環(huán)水輸送到頂層集水盤(pán)8中，循環(huán)水通過(guò)頂層集水盤(pán)8的落水口落入到底層集水盤(pán)9上，在頂層集水盤(pán)8和底層集水盤(pán)9冷卻后的循環(huán)水通過(guò)出水管6輸送到窯爐的冷卻系統(tǒng)中繼續(xù)對(duì)窯爐進(jìn)行冷卻。從上述工作過(guò)程可以得出，本實(shí)施例提供的循環(huán)水冷卻裝置通過(guò)空間上下分布的頂層集水盤(pán)8和底層集水盤(pán)9對(duì)循環(huán)水進(jìn)行冷卻，與現(xiàn)有的采用冷卻水池的冷卻裝置相比， 在保證與現(xiàn)有的冷卻水池具有相同的冷卻散熱面積的前提下，本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置減少了循環(huán)水冷卻裝置的占地面積。為了進(jìn)一步以較小的占地面積達(dá)到更大的冷卻散熱面積，本實(shí)施例中提供的循環(huán)水冷卻裝置還包括設(shè)置在底層集水盤(pán)9和頂層集水盤(pán)8之間的中間集水盤(pán)4，該中間集水盤(pán) 4具有落水口。優(yōu)選的，上述中間集水盤(pán)4具有多層。具體的生產(chǎn)過(guò)程中，可以根據(jù)對(duì)循環(huán)水的冷卻效果對(duì)上述中間集水盤(pán)4的數(shù)量進(jìn)行調(diào)節(jié)。進(jìn)水管1將窯爐的水冷系統(tǒng)中的循環(huán)水排到頂層集水盤(pán)8中，循環(huán)水通過(guò)頂層集水盤(pán)8中的落水口依次落入到位于頂層集水盤(pán)8下方的各層集水盤(pán)中，在各個(gè)集水盤(pán)中進(jìn)行冷卻，進(jìn)水管1可以有多種設(shè)置方式，只要保證其出水口將循環(huán)水輸送到頂層集水盤(pán)8中即可。例如，進(jìn)水管1可以設(shè)置在整個(gè)循環(huán)水冷卻裝置的一側(cè)，也可以設(shè)置在循環(huán)冷卻裝置的頂部。本實(shí)施例中提供了一種進(jìn)水管1的布置方式，具體為進(jìn)水管1沿著豎直方向依次穿過(guò)底層集水盤(pán)9、中間集水盤(pán)4和頂層集水盤(pán)8，該種將進(jìn)水管1依次穿過(guò)各層集水盤(pán)的布管方式，首先節(jié)省了整個(gè)循環(huán)水冷卻裝置的占用空間；其次，進(jìn)水管1與各層集水盤(pán)相接觸使得從頂層集水盤(pán)8落下的循環(huán)水可以預(yù)先對(duì)進(jìn)水管1中的高溫循環(huán)水進(jìn)行初步冷卻， 提高了冷卻效率。更為優(yōu)選的，上述進(jìn)水管1沿著豎直方向依次穿過(guò)底層集水盤(pán)9、中間集水盤(pán)4和頂層集水盤(pán)8的中心。如圖1所示，上述進(jìn)水管1依次穿過(guò)底層集水盤(pán)9、中間集水盤(pán)4和頂層集水盤(pán)8， 進(jìn)水管1的出水口背離頂層集水盤(pán)8，為了防止水流噴散過(guò)高，上述循環(huán)水冷卻裝置還包括位于進(jìn)水管1的出水端的圓錐頂蓋2，該圓錐頂蓋2具有與進(jìn)水管1的出水口相對(duì)的錐形阻水面，該圓錐頂蓋2使得水流快速地匯集到頂層集水盤(pán)8中。該圓錐頂蓋2可以設(shè)置在頂層集水盤(pán)8中，可以設(shè)置在進(jìn)水管1上，也可以設(shè)置在其它的場(chǎng)地安裝基礎(chǔ)面上。請(qǐng)參考附圖1，該圓錐頂蓋2設(shè)置在進(jìn)水管1的出水端，具體地，該圓錐頂蓋2通過(guò)設(shè)置在進(jìn)水管1 上的支撐架3與所述進(jìn)水管1相連接。上述實(shí)施例中的循環(huán)水冷卻裝置中，頂層集水盤(pán)8、中間集水盤(pán)4和底層集水盤(pán)9 的各個(gè)冷卻散熱面積沒(méi)有絕對(duì)的大小關(guān)系，只要保證循環(huán)水通過(guò)頂層集水盤(pán)8和中間集水盤(pán)4上的落水口下落即可。本實(shí)施例提供了一種具體形式，請(qǐng)參考附圖1，其中頂層集水盤(pán) 8的面積小于中間集水盤(pán)4的面積，中間集水盤(pán)4的面積小于底層集水盤(pán)9的面積，即各層集水盤(pán)呈塔狀分布，增加了整個(gè)循環(huán)水冷卻裝置空間分布的穩(wěn)定性。在循環(huán)水的冷卻過(guò)程中，循環(huán)水在各層集水盤(pán)中散熱，同時(shí)在跌落的過(guò)程中循環(huán)水在各層集水盤(pán)之間通過(guò)時(shí)，與各層集水盤(pán)之間的空氣接觸，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)了對(duì)循環(huán)水的冷卻，上述各層集水盤(pán)之間的間隙可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)中的冷卻效果具體調(diào)節(jié)。優(yōu)選的，上述實(shí)施例中提供的循環(huán)水冷卻裝置中，頂層集水盤(pán)8、底層集水盤(pán)9和中間集水盤(pán)4通過(guò)貫穿其盤(pán)面的支撐桿5相互連接。當(dāng)然上述各層集水盤(pán)還可以通過(guò)其他的連接件進(jìn)行連接。上述實(shí)施例中的底層集水盤(pán)9通過(guò)設(shè)置在其底部的支腳7進(jìn)行固定，具體的，上述支腳7為角鋼，其固定端上設(shè)置有連接法蘭，通過(guò)連接法蘭固定在地面上。當(dāng)然上述提供的循環(huán)水冷卻裝置還可以通過(guò)其他的方式進(jìn)行固定，并不限于此。基于上述實(shí)施例中提供的循環(huán)水冷卻裝置，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種窯爐，該窯爐具有上述實(shí)施例中任意一項(xiàng)提供的循環(huán)水冷卻裝置。對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種循環(huán)水冷卻裝置，包括進(jìn)水管(1)和出水管(6)，其特征在于，還包括與所述出水管(6)相連通的底層集水盤(pán)(9)；和與所述底層集水盤(pán)(9)呈上下分布，且與所述進(jìn)水管(1)的出水口相通的頂層集水盤(pán) (8)，其上設(shè)置有落水口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，還包括設(shè)置在所述底層集水盤(pán)(9)和頂層集水盤(pán)⑶之間的中間集水盤(pán)G)，其具有落水口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述中間集水盤(pán)(4)為多層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或者3所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述進(jìn)水管(1)沿豎直方向依次穿過(guò)所述底層集水盤(pán)(9)、中間集水盤(pán)(4)和頂層集水盤(pán)(8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述進(jìn)水管(1)位于所述頂層集水盤(pán)(8)、中間集水盤(pán)(4)和底層集水盤(pán)(9)的中心。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述頂層集水盤(pán)(8)的面積小于所述中間集水盤(pán)的面積，所述中間集水盤(pán)的面積小于所述底層集水盤(pán)(9)的面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述頂層集水盤(pán)(8)、底層集水盤(pán)(9)和中間集水盤(pán)⑷通過(guò)貫穿其盤(pán)面的支撐桿(5)相互連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，還包括設(shè)置在所述進(jìn)水管(1) 的出水端的圓錐頂蓋O)，其具有與所述進(jìn)水管(1)的出水口相對(duì)的錐形阻水面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的循環(huán)水冷卻裝置，其特征在于，所述圓錐頂蓋( 通過(guò)設(shè)置在所述進(jìn)水管(1)上的支撐架C3)與所述進(jìn)水管(1)相連接。
10.一種窯爐，其特征在于，該窯爐具有上述權(quán)利要求1-9中任意一項(xiàng)所述的循環(huán)水冷卻裝置。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種循環(huán)水冷卻裝置，包括進(jìn)水管(1)和出水管(6)，還包括與所述出水管(6)相連通的底層集水盤(pán)(9)；和與所述底層集水盤(pán)(9)呈上下分布，且與所述進(jìn)水管(1)的出水口相通的頂層集水盤(pán)(8)，其上設(shè)置有落水口。本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置通過(guò)空間上下分布的頂層集水盤(pán)和底層集水盤(pán)進(jìn)行循環(huán)水的冷卻，與現(xiàn)有的采用冷卻水池的冷卻裝置相比，在保證與現(xiàn)有的冷卻水池具有相同的冷卻散熱面積的前提下，本實(shí)用新型提供的循環(huán)水冷卻裝置減少了循環(huán)水冷卻裝置的占地面積。本實(shí)用新型還提供了一種窯爐。
文檔編號(hào)F27D9/00GK202083231SQ201120153280
公開(kāi)日2011年12月21日 申請(qǐng)日期2011年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月16日
發(fā)明者劉伏初, 劉元月, 李蔚霞 申請(qǐng)人:湖南陽(yáng)東磁性材料有限公司