專利名稱：一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于窯爐制造技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置。
背景技術(shù)：
在材料的燒結(jié)過(guò)程中，經(jīng)常采用氣氛保護(hù)窯爐作為主要的生產(chǎn)設(shè)備，在窯爐內(nèi)充入惰性氣體，將氧氣置換走，防止空氣的進(jìn)入影響產(chǎn)品品質(zhì)，但是在實(shí)際使用過(guò)程中，仍然存在著窯爐內(nèi)氧氣含量不易控制、產(chǎn)品質(zhì)量受影響的缺陷。為此，人們實(shí)用新型了一種爐內(nèi)氧氣含量直觀可視、便于控制的燒結(jié)裝置。如中國(guó)專利公布的一種磷酸鐵鋰燒結(jié)裝置專利號(hào):201120168035.8，包括窯爐，窯爐的爐膛內(nèi)頂部和底部均設(shè)有加熱元件，窯爐的中部設(shè)有與爐膛相通的控溫元件，窯爐的兩端均設(shè)有置換氣室，置換氣室上均設(shè)有氧含量檢測(cè)器。窯爐的前端上部設(shè)有排氣煙囪，排氣煙囪上設(shè)有微壓開(kāi)關(guān)。由于在燒結(jié)過(guò)程中窯爐內(nèi)的惰性氣體的氣壓要保持比外界的氣壓大5 50Pa，這樣燒結(jié)出來(lái)的產(chǎn)品水分含量才能達(dá)到要求。所以在排氣煙囪上設(shè)置微壓開(kāi)關(guān)，用于調(diào)節(jié)窯爐內(nèi)的氣壓，但是一般的控制煙囪口啟閉的蓋板較重，煙囪內(nèi)的氣壓沖開(kāi)蓋板需要較大的壓強(qiáng)，這樣難以使窯爐內(nèi)的氣壓保持在比外界氣壓大5 50Pa這么小的范圍內(nèi)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有的技術(shù)存在上述問(wèn)題，提出了一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，解決了難于控制窯爐內(nèi)的氣壓微大于大氣壓的技術(shù)問(wèn)題。本實(shí)用新型的目的可通過(guò)下列技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，窯爐包括爐膛和排氣管，其特征在于，本微正壓控制裝置包括處理器、能封蓋排氣管口部的蓋板，所述的蓋板鉸接在排氣管上，所述的蓋板和排氣管之間設(shè)有具有電執(zhí)行元件且能驅(qū)動(dòng)蓋板擺動(dòng)使排氣管處于截止或連通的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述的排氣管內(nèi)設(shè)有氣壓傳感器一，所述的排氣管外設(shè)有氣壓傳感器二，氣壓傳感器一、氣壓傳感器二和電執(zhí)行兀件均與處理器電聯(lián)接。氣壓傳感器一、氣壓傳感器二分別測(cè)量出窯爐內(nèi)的氣壓和外界的大氣壓，將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給處理器，處理器根據(jù)兩者的壓差值作出判斷，若壓差值在5 50Pa內(nèi)，則不作保持原狀；若壓差值在5 50Pa外，則處理器控制電執(zhí)行元件啟動(dòng)，驅(qū)動(dòng)蓋板使排氣管與外界連通，直到壓差值又回到合理數(shù)值后，關(guān)閉電執(zhí)行元件使蓋板由于重力而自動(dòng)關(guān)閉或控制電執(zhí)行元件驅(qū)動(dòng)蓋板關(guān)閉排氣管。本微正壓控制裝置自動(dòng)化程度高，控制精確，反應(yīng)及時(shí)，能夠使窯爐內(nèi)氣壓與大氣壓的壓差值保持在5 50Pa內(nèi)。在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括設(shè)在蓋板上的被吸件，所述的電執(zhí)行元件為固定在排氣管柱面上與被吸件位置相對(duì)的電磁鐵。處理器能接收和處理氣壓傳感器一、氣壓傳感器二的測(cè)量數(shù)據(jù)并根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)控制電磁鐵通斷電，電磁鐵通電后吸引被吸件靠近電磁鐵并帶動(dòng)蓋板擺動(dòng)，從而達(dá)到控制窯爐內(nèi)壓強(qiáng)的目的。 在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的蓋板具有向鉸接點(diǎn)方向的延伸部，所述的被吸件固定在延伸部上，所述的電磁鐵位于被吸件的下方。到電磁鐵通電后，被吸件向下運(yùn)動(dòng)，那么蓋板就向上翹起，打開(kāi)排氣管口。在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的被吸件為鐵塊或磁塊。在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的延伸部上設(shè)有使整個(gè)蓋板在鉸接點(diǎn)的兩側(cè)保持平衡的平衡塊。平衡塊使鉸接點(diǎn)兩側(cè)的蓋板部分達(dá)到平衡，實(shí)現(xiàn)氣壓的自動(dòng)微調(diào)。作為另一種方案，在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定在蓋板上的弧形齒條，所述的電執(zhí)行元件為固定在排氣管柱面上的電機(jī)，電機(jī)轉(zhuǎn)軸上套設(shè)有與弧形齒條嚙合的齒輪。處理器能接收和處理氣壓傳感器一、氣壓傳感器二的測(cè)量數(shù)據(jù)并根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)控制電機(jī)通斷電，電機(jī)通電帶動(dòng)齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)，齒輪又帶動(dòng)弧形齒條擺動(dòng)，從而帶動(dòng)蓋板繞鉸接點(diǎn)擺動(dòng)，使蓋板作打開(kāi)或關(guān)閉排氣管口的目的。在上述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置中，所述的排氣管口部為呈30° 60°傾斜的斜面，所述的蓋板中部鉸接在斜面較低端處。排氣管口部?jī)A斜，那么蓋板也傾斜設(shè)置，由于重力關(guān)系，使得蓋板容易較打開(kāi)，降低電執(zhí)行元件的功耗。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)氣壓傳感器調(diào)節(jié)蓋板的打開(kāi)和關(guān)閉，自動(dòng)化程度高，控制精確，反應(yīng)及時(shí)，能夠使氣氛保護(hù)窯爐內(nèi)氣壓與大氣壓的壓差值保持在5 50Pa內(nèi)。

圖1是實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，1、排氣管；2、蓋板；2a、延伸部；3、氣壓傳感器一 ；4、氣壓傳感器二 ；5、處理器；6、被吸件；7、電磁鐵；8、平衡塊；9、弧形齒條；10、齒輪；11、電機(jī)。
具體實(shí)施方式
以下是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本實(shí)用新型并不限于這些實(shí)施例。實(shí)施例一如圖1所示，窯爐包括爐膛和排氣管1，本氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置包括處理器5、能封蓋排氣管I 口部的蓋板2，蓋板2鉸接在排氣管I上，蓋板2和排氣管I之間設(shè)有具有電執(zhí)行元件且能驅(qū)動(dòng)蓋板2擺動(dòng)使排氣管I處于截止或連通的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；排氣管I內(nèi)設(shè)有氣壓傳感器一 3,排氣管I外設(shè)有氣壓傳感器二 4,氣壓傳感器一 3、氣壓傳感器二 4和電執(zhí)行元件均與處理器5電聯(lián)接。具體來(lái)說(shuō)，排氣管I豎直設(shè)置在爐膛上，為了方便蓋板2向上擺動(dòng)，將排氣管I 口部設(shè)為呈30° 45°傾斜的斜面，蓋板2中部鉸接在斜面較低端處。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括設(shè)在蓋板2上的被吸件6，電執(zhí)行元件為固定在排氣管I柱面上與被吸件6位置相對(duì)的電磁鐵7。蓋板2具有向鉸接點(diǎn)方向的延伸部2a，被吸件6固定在延伸部2a上，電磁鐵7位于被吸件6的下方。延伸部2a上設(shè)有使整個(gè)蓋板2在鉸接點(diǎn)的兩側(cè)保持平衡的平衡塊8，被吸件6可以為鐵塊或磁塊。[0021]工作原理如下:氣壓傳感器一 3、氣壓傳感器二 4分別測(cè)量出窯爐內(nèi)的氣壓和外界的大氣壓，將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給處理器5，處理器5根據(jù)兩者的壓差值作出判斷，若壓差值在5 50Pa內(nèi)，則不作保持原狀；若壓差值在5 50Pa外，則處理器5控制電磁鐵7啟動(dòng)，電磁鐵7吸引被吸件6，從而驅(qū)動(dòng)蓋板2使排氣管I與外界連通，直到壓差值又回到合理數(shù)值后，關(guān)閉電磁鐵7，蓋板2由于重力而自動(dòng)關(guān)閉排氣管I。實(shí)施例二如圖2所示，與實(shí)施例一的區(qū)別在于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，它包括固定在蓋板2上的弧形齒條
9,電執(zhí)行兀件為固定在排氣管I柱面上的電機(jī)11，電機(jī)11轉(zhuǎn)軸上套設(shè)有與弧形齒條9哨合的齒輪10。工作原理如下:氣壓傳感器一 3、氣壓傳感器4分別測(cè)量出窯爐內(nèi)的氣壓和外界的大氣壓，將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給處理器5，處理器5根據(jù)兩者的壓差值作出判斷，若壓差值在5 50Pa內(nèi)，則不作保持原狀；若壓差值在5 50Pa外，則處理器5控制電機(jī)11啟動(dòng)，電機(jī)11帶動(dòng)齒輪10及弧形齒條9轉(zhuǎn)動(dòng)，繼而驅(qū)動(dòng)蓋板2使排氣管I與外界連通。直到壓差值又回到合理數(shù)值后，控制電機(jī)11反轉(zhuǎn)，驅(qū)動(dòng)蓋板2向下轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)閉排氣管I。
權(quán)利要求1.一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，窯爐包括爐膛和排氣管(I)，其特征在于，本微正壓控制裝置包括處理器(5 )、能封蓋排氣管(I) 口部的蓋板(2 )，所述的蓋板(2 )鉸接在排氣管(I)上，所述的蓋板(2 )和排氣管(I)之間設(shè)有具有電執(zhí)行元件且能驅(qū)動(dòng)蓋板(2 )擺動(dòng)使排氣管(I)處于截止或連通的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述的排氣管(I)內(nèi)設(shè)有氣壓傳感器一(3)，所述的排氣管(I)外設(shè)有氣壓傳感器二( 4 ),氣壓傳感器一(3 )、氣壓傳感器二( 4 )和電執(zhí)行元件均與處理器(5)電聯(lián)接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括設(shè)在蓋板(2)上的被吸件(6)，所述的電執(zhí)行元件為固定在排氣管(I)柱面上與被吸件(6)位置相對(duì)的電磁鐵(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的蓋板(2)具有向鉸接點(diǎn)方向的延伸部(2a)，所述的被吸件(6)固定在延伸部(2a)上，所述的電磁鐵(7)位于被吸件(6)的下方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的被吸件(6)為鐵塊或磁塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的延伸部(2a)上設(shè)有使整個(gè)蓋板(2)在鉸接點(diǎn)的兩側(cè)保持平衡的平衡塊(8)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定在蓋板(2)上的弧形齒條(9)，所述的電執(zhí)行元件為固定在排氣管(I)柱面上的電機(jī)(11 )，電機(jī)(11)轉(zhuǎn)軸上套設(shè)有與弧形齒條(9)嚙合的齒輪(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4或6所述的氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，其特征在于，所述的排氣管(I)口部為呈30° 60°傾斜的斜面，所述的蓋板(2)中部鉸接在斜面較低端處。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置，屬于窯爐制造技術(shù)領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有的煙囪口的蓋板較重，煙囪內(nèi)的氣壓沖開(kāi)蓋板需要較大的壓強(qiáng)，難以保證窯爐內(nèi)的氣壓穩(wěn)定的問(wèn)題。本氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置包括處理器、能封蓋排氣管口部的蓋板，蓋板鉸接在排氣管上，蓋板和排氣管之間設(shè)有具有電執(zhí)行元件且能驅(qū)動(dòng)蓋板擺動(dòng)使排氣管處于截止或連通的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；排氣管內(nèi)設(shè)有氣壓傳感器一，排氣管外設(shè)有氣壓傳感器二，氣壓傳感器一、氣壓傳感器二和電執(zhí)行元件均與處理器電聯(lián)接。本氣氛保護(hù)窯爐的微正壓控制裝置利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)氣壓傳感器調(diào)節(jié)蓋板的打開(kāi)，自動(dòng)化程度高，控制精確，反應(yīng)及時(shí)。
文檔編號(hào)F27D19/00GK203011169SQ20122074908
公開(kāi)日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2012年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月31日
發(fā)明者李正斌, 趙杰 申請(qǐng)人:浙江美思鋰電科技有限公司