廢氣通道的制作方法
【專利摘要】一種封閉式熔煉爐（2）的廢氣通道（1），該廢氣通道（1）包括通向熔煉爐（2）的上部分的第一端部（3）和通向氣體凈化裝置（5）以用于將爐廢氣引導(dǎo)到氣體凈化裝置的第二端部（4）。廢氣通道包括適合于將加壓流體噴射到所述廢氣通道的內(nèi)表面的至少一個凈化噴嘴（6、7、8、9）。
【專利說明】廢氣通道
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及封閉式熔煉爐的廢氣通道。廢氣通道包括通向熔煉爐的上部分的第一端部和通向氣體凈化裝置以用于將爐廢氣引導(dǎo)到氣體凈化裝置的第二端部。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中廢氣通道被沉淀在通道壁的內(nèi)表面上的塵粒堵塞從而阻擋來自熔煉爐的廢氣的出射流是減小熔煉爐的操作時間比的最重要因素之一。圖2顯示在示例性狀態(tài)下的現(xiàn)有技術(shù)的廢氣通道I的堵塞狀態(tài)。當(dāng)然，應(yīng)當(dāng)理解在每個熔煉爐中堵塞模式可能不同。也稱為鵝頸管的廢氣通道I在廢氣流動的方向上包括大致直立的第一端部分12(其第一下端3連接到熔煉爐2)、彎曲部分13、傾斜部分14以及第二端部分15。從熔煉爐2離開的廢氣包含一氧化碳、氫、水和塵粒。沉淀塵粒的積累(即，堵塞17)尤其出現(xiàn)在傾斜部分14的下部分處并且也出現(xiàn)在鵝頸管I連接到洗滌器5處的第二端部分15中。在實踐中，當(dāng)熔煉爐是鉻鐵熔煉爐時，已證明取決于爐操作，廢氣通道需要以一定的時間間隔(典型地低于一個月)進行凈化。
[0003]每次的凈化操作導(dǎo)致大約I到2小時的生產(chǎn)中斷，這導(dǎo)致經(jīng)濟損失。爐越大，經(jīng)濟損失越大。
[0004]發(fā)明目的
[0005]本發(fā)明的目的是克服如上所述的現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]根據(jù)本發(fā)明，一種廢氣通道包括適合于將加壓流體噴射到所述廢氣通道的內(nèi)表面的至少一個凈化噴嘴。
[0007]本發(fā)明的優(yōu)點在于可以通過流體和/或氣體的噴射凈化廢氣通道去除積累的塵粒。待噴射的流體可以是液體和/或氣體。例如，水和氮氣是適合于該目的的流體?？梢赃B續(xù)地或周期性(例如，每天一次、每天兩次等)地噴射流體以保持廢氣通道干凈。可以避免堵塞并且可以減小爐的停工時間。需要更少的時間維護。廢氣通道中的附加噴嘴也減小廢氣溫度并且結(jié)合一些灰塵，因此使氣體凈化更高效。
[0008]在一個實施例中，所述氣體凈化裝置是包括具有上端的直立噴射文丘里管的文丘里洗滌器。所述廢氣通道的第二端部連接到所述文丘里管的上端。
[0009]在一個實施例中，所述廢氣通道是鵝頸管通道，所述鵝頸管通道在廢氣流動的方向上包括大致直立的第一端部分、彎曲部分、傾斜部分以及具有頂部的第二端部分，所述第一端部分的第一下端連接到所述熔煉爐。
[0010]在一個實施例中，所述廢氣通道包括第一凈化噴嘴，所述第一凈化噴嘴連接在所述彎曲部分的壁處并且適合于將加壓液體噴射到所述傾斜部分的內(nèi)表面上。
[0011]在一個實施例中，所述廢氣通道包括第二凈化噴嘴，所述第二凈化噴嘴連接在所述第二端部分的頂部處并且適合于將加壓液體噴射到所述第二端部分的內(nèi)表面和所述第二端部分與所述文丘里管之間的連接部上。
[0012]在一個實施例中，所述廢氣通道包括第三凈化噴嘴，所述第三凈化噴嘴連接在所述傾斜部分的上端處并且適合于將加壓液體噴射到所述傾斜部分的下壁部分的內(nèi)表面上。
[0013]在一個實施例中，所述廢氣通道包括多個第四凈化噴嘴，所述多個第四凈化噴嘴連接在所述傾斜部分處并且適合于將加壓氣體噴射到所述傾斜部分的下壁部分的內(nèi)表面上。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]被包括以提供本發(fā)明的更好理解的、構(gòu)成說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的優(yōu)選實施例并且有助于解釋本發(fā)明的原理。
[0015]圖1示意性地顯示熔煉爐、氣體凈化裝置和用于將離開熔煉爐的廢氣引導(dǎo)到氣體凈化裝置的廢氣通道；
[0016]圖2在橫截面中顯示現(xiàn)有技術(shù)的廢氣通道，廢氣通道的第一端部連接到熔煉爐并且第二端部連接到氣體凈化裝置；
[0017]圖3在橫截面中顯示本發(fā)明的第一實施例的廢氣通道，廢氣通道的第一端部連接到熔煉爐并且第二端部連接到氣體凈化裝置；以及
[0018]圖4在橫截面中顯示本發(fā)明的第二實施例的廢氣通道，廢氣通道的第一端部連接到熔煉爐并且第二端部連接到氣體凈化裝置。
【具體實施方式】
[0019]參考圖1，示意性地示出熔煉爐2、廢氣通道I和氣體凈化裝置5的布置。熔煉爐2是封閉式埋弧爐。經(jīng)由廢氣通道I離開的廢氣主要包含CO氣體和灰塵并且也包含氫和水。廢氣通道I包括通向熔煉爐2的上部分的第一端部3。廢氣通道I的第二端部4通向氣體凈化裝置5以用于將爐廢氣引導(dǎo)到氣體凈化裝置。
[0020]參考圖3和4，廢氣通道I包括適合于將加壓流體噴射到廢氣通道I的內(nèi)表面上的至少一個凈化噴嘴6、7、8、9。優(yōu)選地，布置有至少兩個凈化噴嘴。凈化噴嘴布置成沖洗廢氣通道I的整個內(nèi)表面。
[0021]廢氣通道I的第二端部4連接到氣體凈化裝置5。氣體凈化裝置5可以是包括直立噴射文丘里管10的文丘里洗滌器。文丘里管10包括收斂部段18、喉部19和發(fā)散部段20。用于噴射水射流的噴嘴21布置在喉部19中。文丘里管10具有上端11。廢氣通道I的第二端部4連接到文丘里管10的上端11。
[0022]如圖3和4中所見，廢氣通道I是鵝頸管通道。在廢氣流動的方向上廢氣通道I包括大致直立的第一端部分12,第一端部分的第一下端3連接到熔煉爐2。第一端部分12后面接著彎曲部分13，彎曲部分后面接著相對于豎直線成銳角的傾斜部分14。最后，傾斜部分14終止于具有頂部16的第二端部分15中。第二端部分15向下敞開并且將廢氣排出到文丘里管10的上端11。
[0023]參考圖3的實施例，顯示用于噴射加壓水的兩個凈化噴嘴6和7。第一凈化噴嘴6連接在彎曲部分13的壁處并且適合于將加壓水射流噴射到傾斜部分14的內(nèi)表面上。第二凈化噴嘴7連接在第二端部分15的頂部16處。第二凈化噴嘴7適合于將加壓水射流噴射到第二端部分15的內(nèi)表面和第二端部分15與文丘里管10之間的連接部上。水射流分離并且沖走積累在廢氣通道I的內(nèi)表面上的任何堵塞。待噴射的水的壓力可以為例如大約30巴。
[0024]參考圖4的實施例，顯示用于噴射加壓水的兩個凈化噴嘴7和8以及用于噴射氣體射流的多個凈化噴嘴9。第二凈化噴嘴7連接在第二端部分15的頂部16處。第二凈化噴嘴7適合于將加壓水射流噴射到第二端部分15的內(nèi)表面和第二端部分15與文丘里管10之間的連接部上。第三凈化噴嘴8連接在傾斜部分14的上端處。第三凈化噴嘴8適合于將加壓水射流噴射到傾斜部分14的下壁部分的內(nèi)表面上。待噴射的水的壓力可以為例如大約30巴。此外，廢氣通道I包括多個第四凈化噴嘴9。第四凈化噴嘴9連接在傾斜部分14處并且適合于將加壓氮氣噴射到傾斜部分14的下壁部分的內(nèi)表面上。水射流和氮氣射流分離并且沖走積累在廢氣通道I的內(nèi)表面上的任何堵塞。
[0025]圖3和4中所示的凈化噴嘴布置的任何組合也是可能的。噴嘴可以被控制成連續(xù)地或周期性地噴射。一些凈化噴嘴也可以連續(xù)地噴射，而其它凈化噴嘴周期性地噴射。凈化噴嘴6、7、8、9可以由控制閥(未顯示)控制以執(zhí)行周期性噴射循環(huán)。如果水用作待噴射的液體，則將水泵送到文丘里管中的噴嘴的相同泵可以用于將水泵送到凈化噴嘴。
[0026]如果不假設(shè)凈化噴嘴6、7、8、9連續(xù)地噴射，則當(dāng)它們未在噴射液體和/或氣體時它們必須放置在水冷卻套管的內(nèi)部的腔中以防止凈化噴嘴被損壞。
[0027]本領(lǐng)域的技術(shù)人員顯而易見，隨著技術(shù)的進步，本發(fā)明的基本思想可以以各種方式實現(xiàn)。本發(fā)明及其實施例因此不限于上述的例子；相反地，它們可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)變化。
【權(quán)利要求】
1.一種封閉式熔煉爐(2)的廢氣通道(1)，所述廢氣通道(I)包括通向所述熔煉爐(2)的上部分的第一端部(3)和通向氣體凈化裝置(5)以用于將爐廢氣引導(dǎo)到所述氣體凈化裝置的第二端部(4)，其特征在于，所述廢氣通道包括適合于將加壓流體噴射到所述廢氣通道的內(nèi)表面的至少一個凈化噴嘴(6、7、8、9 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣通道，其特征在于，所述氣體凈化裝置(5)是包括具有上端(11)的直立噴射文丘里管(10)的文丘里洗滌器，并且所述廢氣通道(I)的第二端部(4)連接到所述文丘里管(10)的上端(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的廢氣通道，其特征在于，所述廢氣通道(I)是鵝頸管通道，所述鵝頸管通道在廢氣流動的方向上包括大致直立的第一端部分(12)、彎曲部分(13)、傾斜部分(14)以及具有頂部(16)的第二端部分(15)，所述第一端部分的第一下端(3)連接到所述熔煉爐(2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的廢氣通道，其特征在于，所述廢氣通道(I)包括第一凈化噴嘴(6)，所述第一凈化噴嘴連接在所述彎曲部分(13)的壁處并且適合于將加壓液體噴射到所述傾斜部分(14)的內(nèi)表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的廢氣通道，其特征在于，所述廢氣通道(I)包括第二凈化噴嘴(7)，所述第二凈化噴嘴連接在所述第二端部分(15)的頂部(16)處并且適合于將加壓液體噴射到所述第二端部分(15)的內(nèi)表面和所述第二端部分(15)與所述文丘里管(10)之間的連接部上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中的一項或多項所述的廢氣通道，其特征在于，所述廢氣通道Cl)包括第三凈化噴嘴(8)，所述第三凈化噴嘴連接在所述傾斜部分(14)的上端處并且適合于將加壓液體噴射到所述傾斜部分(14)的下壁部分的內(nèi)表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中的一項或多項所述的廢氣通道，其特征在于，所述廢氣通道(I)包括多個第四凈化噴嘴(9)，所述多個第四凈化噴嘴連接在所述傾斜部分(14)處并且適合于將加壓氣體噴射到所述傾斜部分(14)的下壁部分的內(nèi)表面上。
【文檔編號】F27D25/00GK103608082SQ201280028823
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2012年6月14日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月29日
【發(fā)明者】O·佩卡拉 申請人:奧圖泰有限公司