技術(shù)特征：

1.一種將照明輻射(5)引導(dǎo)至物場(chǎng)(11_i)的投射曝光系統(tǒng)(1)的照明光學(xué)單元(17_i)，包含：

1.1.多個(gè)輻射反射組件，

1.2.其中所有輻射反射組件布置為使得在這些組件處以相同方式偏轉(zhuǎn)具有照明輻射(5)的光束(10_i)。

2.如權(quán)利要求1所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件包含第一分面鏡(28_i)、第二分面鏡(29_i)和至少一個(gè)其它反射鏡(37_i)，所述至少一個(gè)其它反射鏡布置在光束路徑中所述第二分面鏡(29_i)的下游或所述第一分面鏡(28_i)的上游。

3.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件在光束路徑的方向上，包含第一分面鏡(28_i)和第二分面鏡(29_i)以及精確的一個(gè)其它反射鏡(37_i)，所述其它反射鏡布置在該第二分面鏡(29_i)與該物場(chǎng)(11_i)之間的光束路徑中，或在該第一分面鏡(28_i)之前的光束路徑中。

4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述具有照明輻射(5)的光束(10_i)在所述輻射反射組件的每一個(gè)處偏轉(zhuǎn)一偏轉(zhuǎn)角度，任兩個(gè)偏轉(zhuǎn)角度之間的比不超過(guò)1.5。

5.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件導(dǎo)致所述具有照明輻射(5)的光束的總偏轉(zhuǎn)在從45°至135°的范圍中。

6.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元，其特征在于所有所述輻射反射組件布置為使得具有所述照明輻射(5)的光束(16_i)分別具有入射角(α_i)，其在所述輻射反射組件的每一個(gè)處不超過(guò)25°。

7.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件之一將所述輻射反射組件中的另一個(gè)成像至下游的投射光學(xué)單元(14_i)中的光瞳平面(40)中。

8.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于在所述照明輻射(5)的光束路徑中的所述輻射反射組件中的第一個(gè)實(shí)施為分面鏡(28_i)，其具有可切換分面(30)。

9.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的照明光學(xué)單元(17_i)，其特征在于所述光束路徑中所述輻射反射組件的前兩個(gè)布置為彼此相距一距離(d1)，該距離小于該光束路徑中所述輻射反射組件中第二個(gè)和第三個(gè)之間的距離(d2)。

10.一種光學(xué)系統(tǒng)(20_i)，包含：

10.1.照明光學(xué)單元(17_i)，用于引導(dǎo)照明輻射(5)至物場(chǎng)(11_i)，包含：

10.1.1.第一分面元件(28_i)，

10.1.2.第二分面元件(29_i)，以及

10.1.3.至少一個(gè)其它反射鏡(37_i)，

10.2.投射光學(xué)單元(14_i)，用于將該物場(chǎng)(11_i)成像在像場(chǎng)(23_i)中，

10.3.其中該至少一個(gè)其它反射鏡(37_i)實(shí)施和/或布置在該照明光學(xué)單元(17_i)的光束路徑中，

10.3.1.使得將該第二分面鏡(29_i)成像至該投射光學(xué)單元(14i)的光瞳平面中，或

10.3.2.在該第一分面元件(28_i)的上游，以及

10.4.其中該照明光學(xué)單元(17_i)的所有輻射反射組件布置為使得在這些組件處以相同方式偏轉(zhuǎn)具有照明輻射(5)的光束(10_i)。

11.一種照明系統(tǒng)(19)，包含

11.1.輻射源(4)，具有自由電子激光器(FEL)的形式，以及

11.2.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)的至少一個(gè)照明光學(xué)單元(17_i)。

12.如權(quán)利要求11所述的照明系統(tǒng)(19)，其特征在于該輻射源(4)實(shí)施和/或布置為使得其發(fā)出在水平方向上延伸的具有照明輻射(5)的光束。

13.一種投射曝光系統(tǒng)(1)，包含：

13.1.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)的至少一個(gè)照明光學(xué)單元(17_i)，以及

13.2.至少一個(gè)投射光學(xué)單元(14_i)，用于將該物場(chǎng)(11_i)成像至像場(chǎng)(23_i)中。

14.一種制造微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)組件的方法，包含下列步驟：

-提供基板，其上至少一部分施加有由感光材料制成的層，

-提供掩模母版(22_i)，其具有要成像的結(jié)構(gòu)，

-提供如權(quán)利要求13的投射曝光系統(tǒng)(1)，

-借助于該投射曝光系統(tǒng)(1)，將該掩模母版(22_i)的至少一部分投射至該基板的光敏層的區(qū)域上。

15.一種如權(quán)利要求14的方法制造的組件。