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一種高溫電隧道窯爐及其工作方法與流程

文檔序號:40531679發(fā)布日期:2024-12-31 13:46閱讀:17來源:國知局
一種高溫電隧道窯爐及其工作方法與流程

本發(fā)明屬于陶瓷燒結(jié),尤其是一種高溫電隧道窯爐及其工作方法。


背景技術(shù):

1、陶瓷燒成是陶瓷生坯在高溫下的致密化過程和現(xiàn)象的總稱。這一過程影響陶瓷的最終性能,包括其硬度、強度、密度、熱穩(wěn)定性以及外觀質(zhì)感。隨著溫度的上升和時間的延長,固體顆粒相互鍵聯(lián),晶粒長大,空隙(氣孔)和晶界逐漸減少,通過物質(zhì)的傳遞,其總體積收縮,密度增加,最后成為堅硬的具有某種纖維結(jié)構(gòu)的多晶燒結(jié)體。

2、在陶瓷燒結(jié)過程中,為了實現(xiàn)理想的燒結(jié)效果,必須精確控制燒結(jié)過程中的溫度曲線,需要根據(jù)原料特性、產(chǎn)品性能、尺寸公差要求等設(shè)定合適的燒結(jié)曲線,以確保燒結(jié)出的陶瓷制品既符合設(shè)計要求,又具備良好的性能穩(wěn)定性。

3、目前使用較為普遍的高溫電隧道窯爐結(jié)構(gòu)為雙孔逆向高溫電隧道窯爐,如圖1所示,單孔僅有3個控溫區(qū),陶瓷燒結(jié)曲線調(diào)整受限,無法滿足復(fù)雜曲線的設(shè)計需求,不利于產(chǎn)品質(zhì)量的保證;雙孔逆向高溫電隧道窯高溫區(qū)長期的工作電流在180~200a,在使用過程中硅鉬棒(加熱元件)故障率高;雙孔逆向高溫電隧道窯的溫區(qū)設(shè)計中,兩個窯孔中間位置的加熱棒排布交錯,且中間連通,溫區(qū)實際溫度會受另一窯孔相鄰區(qū)溫度的影響,導(dǎo)致窯爐有效截面溫度場均勻性為±5℃,差異較大;雙孔逆向高溫電隧道窯在運行過程中,爐體兩端區(qū)域為裝卸產(chǎn)品的工作區(qū)域,根據(jù)窯爐推進情況,工人需頻繁的裝卸產(chǎn)品,勞動強度大,影響生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種高溫電隧道窯爐及其工作方法,解決現(xiàn)有雙孔逆向高溫電隧道窯爐生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量低的問題。

2、為達到上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案予以實現(xiàn):

3、一種高溫電隧道窯爐,包括爐體和外循環(huán)線;

4、所述爐體內(nèi)開設(shè)有若干窯孔,若干所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,若干所述運行導(dǎo)軌的運行方向相同,所述外循環(huán)線的兩端分別與運行導(dǎo)軌的兩端連接,所述窯孔內(nèi)設(shè)置有若干控溫區(qū),若干所述窯孔的控溫區(qū)完全重合。

5、進一步的,所述窯孔內(nèi)的控溫區(qū)設(shè)置為6~8個,每個所述控溫區(qū)的溫度不同,所述控溫區(qū)內(nèi)的工作電流為120~140a。

6、進一步的,所述爐體的有效截面溫度場均勻性為±2℃。

7、進一步的,所述控溫區(qū)內(nèi)通過加熱棒進行加熱,所述加熱棒為硅鉬棒。

8、進一步的,所述外循環(huán)線上設(shè)置有循環(huán)軌道,所述循環(huán)軌道與運行導(dǎo)軌連接。

9、進一步的,所述爐體的外側(cè)設(shè)置有保溫層。

10、進一步的,所述爐體內(nèi)開設(shè)有兩個窯孔,兩個所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,所述窯爐設(shè)置有一條外循環(huán)線,兩條所述運行導(dǎo)軌的兩端分別連接外循環(huán)線的兩端。

11、進一步的,所述爐體內(nèi)開設(shè)有四個窯孔,四個所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,所述窯爐設(shè)置有兩條外循環(huán)線。

12、進一步的,所述窯爐設(shè)置有第一外循環(huán)線和第二外循環(huán)線,所述第一外循環(huán)線的兩端分別連接兩條運行導(dǎo)軌的兩端,所述第二外循環(huán)線的兩端分別連接另兩條運行導(dǎo)軌的兩端。

13、一種所述高溫電隧道窯爐的工作方法,包括:

14、啟動窯爐,運行導(dǎo)軌與外循環(huán)線開始運轉(zhuǎn),將陶瓷坯體放置在運行導(dǎo)軌上,運行導(dǎo)軌將陶瓷坯體平穩(wěn)、精準地送入窯孔內(nèi);

15、陶瓷坯體依次經(jīng)過控溫區(qū),進行陶瓷坯體的預(yù)熱與燒制;

16、燒制完成后,將陶瓷產(chǎn)品運送至外循環(huán)線上,冷卻后集中進行陶瓷產(chǎn)品的裝卸。

17、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:

18、本發(fā)明提供一種高溫電隧道窯爐,在爐體內(nèi)開設(shè)有若干窯孔,窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,使得陶瓷坯體可以沿著導(dǎo)軌平穩(wěn)、精準地移動。若干運行導(dǎo)軌的運行方向相同,將外循環(huán)線的兩端分別與運行導(dǎo)軌的兩端連接,形成了一個閉環(huán)的物料傳輸系統(tǒng)。使得陶瓷坯體可以在外循環(huán)線上進行集中裝卸,減少了人工操作次數(shù),提高了作業(yè)效率。窯孔內(nèi)設(shè)置有若干控溫區(qū),且若干窯孔的控溫區(qū)完全重合。使得整個爐體內(nèi)的溫度場更加均勻,有利于陶瓷產(chǎn)品在燒制過程中獲得一致的熱處理環(huán)境。同時,每個控溫區(qū)都可以獨立調(diào)節(jié)溫度,進一步提高了溫度控制的精確性,從而保證了陶瓷產(chǎn)品的質(zhì)量。本發(fā)明提供的多孔同向帶有外循環(huán)線、具有多溫度段控制的陶瓷燒結(jié)用高溫電隧道窯爐的技術(shù)方案簡單易行,可滿足復(fù)雜工藝曲線的應(yīng)用,提高了窯爐有效截面溫均性,降低了加熱元件的故障率,從而提高了陶瓷產(chǎn)品的質(zhì)量,同時降低了工人的勞動強度。本發(fā)明的高溫電隧道窯爐通過自動化物料傳輸、精準溫度控制以及高效隔熱,實現(xiàn)了陶瓷產(chǎn)品的高效、穩(wěn)定、均勻燒制,提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。



技術(shù)特征:

1.一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,包括爐體和外循環(huán)線;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述窯孔內(nèi)的控溫區(qū)設(shè)置為6~8個,每個所述控溫區(qū)的溫度不同,所述控溫區(qū)內(nèi)的工作電流為120~140a。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述爐體的有效截面溫度場均勻性為±2℃。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述控溫區(qū)內(nèi)通過加熱棒進行加熱,所述加熱棒為硅鉬棒。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述外循環(huán)線上設(shè)置有循環(huán)軌道,所述循環(huán)軌道與運行導(dǎo)軌連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述爐體的外側(cè)設(shè)置有保溫層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述爐體內(nèi)開設(shè)有兩個窯孔,兩個所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,所述窯爐設(shè)置有一條外循環(huán)線,兩條所述運行導(dǎo)軌的兩端分別連接外循環(huán)線的兩端。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述爐體內(nèi)開設(shè)有四個窯孔,四個所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,所述窯爐設(shè)置有兩條外循環(huán)線。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高溫電隧道窯爐,其特征在于,所述窯爐設(shè)置有第一外循環(huán)線和第二外循環(huán)線,所述第一外循環(huán)線的兩端分別連接兩條運行導(dǎo)軌的兩端,所述第二外循環(huán)線的兩端分別連接另兩條運行導(dǎo)軌的兩端。

10.一種權(quán)利要求1~9任一項所述高溫電隧道窯爐的工作方法,其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種高溫電隧道窯爐及其工作方法,包括爐體和外循環(huán)線;所述爐體內(nèi)開設(shè)有若干窯孔,若干所述窯孔內(nèi)均安裝有運行導(dǎo)軌,若干所述運行導(dǎo)軌的運行方向相同,所述外循環(huán)線的兩端分別與運行導(dǎo)軌的兩端連接,所述窯孔內(nèi)設(shè)置有若干控溫區(qū),若干所述窯孔的控溫區(qū)完全重合。本發(fā)明提供的多孔同向帶有外循環(huán)線、具有多溫度段控制的陶瓷燒結(jié)用高溫電隧道窯爐的技術(shù)方案簡單易行,可滿足復(fù)雜工藝曲線的應(yīng)用,提高了窯爐有效截面溫均性,降低了加熱元件的故障率,從而提高了陶瓷產(chǎn)品的質(zhì)量,同時降低了工人的勞動強度。

技術(shù)研發(fā)人員:楊樺,李拉練,盧煌,閻濤,曹李紅,張溶凱,高樂文,楊宗林
受保護的技術(shù)使用者:陜西寶光陶瓷科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/30
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