一種晶片烘干裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種晶片烘干裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在晶片的制造過程中，表面會(huì)有油污、化學(xué)藥劑、蠟、金屬的殘留，清洗站用于將這些殘留物清洗掉，清洗后的晶片需要進(jìn)行烘干?，F(xiàn)有的烘干裝置為普通烤箱，對晶片的單一位置烘干，使晶片受熱不均，導(dǎo)致晶片的一面烘干不到位，而另一面容易烤壞。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型提供了一種晶片烘干裝置，它結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，能夠使晶片表面均勻受熱，晶片的兩面均能烘干到位且不會(huì)被烤壞，解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。
[0004]本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:它包括工作臺(tái)、一個(gè)主動(dòng)齒輪和若干個(gè)從動(dòng)齒輪，所述主動(dòng)齒輪和從動(dòng)齒輪均可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在工作臺(tái)上，主動(dòng)齒輪與從動(dòng)齒輪嚙合，若干個(gè)從動(dòng)齒輪均布在主動(dòng)齒輪周圍；所述主動(dòng)齒輪通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，主動(dòng)齒輪上安裝有紅外線烤燈；所述從動(dòng)齒輪上安裝有晶片托架，所述晶片托架上設(shè)有晶片容置凹槽。
[0005]所述從動(dòng)齒輪有六個(gè)。
[0006]所述紅外線烤燈為圓柱形。
[0007]所述工作臺(tái)的底部設(shè)有支腿。
[0008]所述支腿上設(shè)有帶駐剎的萬向輪。
[0009]所述工作臺(tái)的一側(cè)設(shè)有推拉支架。
[0010]本實(shí)用新型采用上述方案，在烘烤過程中能夠使晶片表面均勻受熱，晶片的兩面均能烘干到位且不會(huì)被烤壞。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2為圖1的俯視圖。
[0013]圖中:1、工作臺(tái)，2、主動(dòng)齒輪，3、從動(dòng)齒輪，4、驅(qū)動(dòng)電機(jī)，5、紅外線烤燈，6、晶片托架，7、支腿，8、萬向輪，9、推拉支架，10、晶片。
【具體實(shí)施方式】
[0014]為能清楚說明本方案的技術(shù)特點(diǎn)，下面通過【具體實(shí)施方式】，并結(jié)合其附圖，對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)闡述。
[0015]如圖1?圖2所示，本實(shí)用新型包括工作臺(tái)1、一個(gè)主動(dòng)齒輪2和六個(gè)從動(dòng)齒輪3，主動(dòng)齒輪2和從動(dòng)齒輪3均可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在工作臺(tái)1上，主動(dòng)齒輪2與從動(dòng)齒輪3嚙合，六個(gè)從動(dòng)齒輪3均布在主動(dòng)齒輪2周圍。主動(dòng)齒輪2通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)4驅(qū)動(dòng)，主動(dòng)齒輪2上安裝有紅外線烤燈5，紅外線烤燈5為圓柱形。從動(dòng)齒輪3上安裝有晶片托架6，晶片托架6上設(shè)有晶片容置凹槽。工作臺(tái)1的底部設(shè)有支腿7，支腿7上設(shè)有帶駐剎的萬向輪8。工作臺(tái)1的一側(cè)設(shè)有推拉支架9。
[0016]使用時(shí)，將晶片10插入晶片容置凹槽中，啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)4，驅(qū)動(dòng)電機(jī)4帶動(dòng)主動(dòng)齒輪2旋轉(zhuǎn)，主動(dòng)齒輪2帶動(dòng)從動(dòng)齒輪3旋轉(zhuǎn)，從而帶動(dòng)晶片10旋轉(zhuǎn)，使晶片10表面均勻受熱，從而使晶片10的兩面均能烘干到位且不會(huì)被烤壞。
[0017]另外，由于支腿7上設(shè)有帶駐剎的萬向輪8，工作臺(tái)1的一側(cè)設(shè)有推拉支架9，工作人員可以推動(dòng)推拉支架9將本實(shí)用新型輕松的移動(dòng)到需要的地方，增加了本實(shí)用新型使用的便捷性。
[0018]上述【具體實(shí)施方式】不能作為對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制，對于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，對本實(shí)用新型實(shí)施方式所做出的任何替代改進(jìn)或變換均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0019]本實(shí)用新型未詳述之處，均為本技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)人員的公知技術(shù)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶片烘干裝置，其特征在于:包括工作臺(tái)(1)、一個(gè)主動(dòng)齒輪(2)和若干個(gè)從動(dòng)齒輪(3)，所述主動(dòng)齒輪(2)和從動(dòng)齒輪(3)均可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在工作臺(tái)(1)上，主動(dòng)齒輪(2)與從動(dòng)齒輪(3)嚙合，若干個(gè)從動(dòng)齒輪(3)均布在主動(dòng)齒輪(2)周圍；所述主動(dòng)齒輪(2)通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)驅(qū)動(dòng)，主動(dòng)齒輪(2)上安裝有紅外線烤燈(5);所述從動(dòng)齒輪(3)上安裝有晶片托架(6)，所述晶片托架(6)上設(shè)有晶片容置凹槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片烘干裝置，其特征在于:所述從動(dòng)齒輪(3)有六個(gè)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片烘干裝置，其特征在于:所述紅外線烤燈(5)為圓柱形。4.根據(jù)權(quán)利要求1?3任一所述的晶片烘干裝置，其特征在于:所述工作臺(tái)(1)的底部設(shè)有支腿(7)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶片烘干裝置，其特征在于:所述支腿(7)上設(shè)有帶駐剎的萬向輪(8)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶片烘干裝置，其特征在于:所述工作臺(tái)(1)的一側(cè)設(shè)有推拉支架(9)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種晶片烘干裝置。它包括工作臺(tái)、一個(gè)主動(dòng)齒輪和若干個(gè)從動(dòng)齒輪，所述主動(dòng)齒輪和從動(dòng)齒輪均可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在工作臺(tái)上，主動(dòng)齒輪與從動(dòng)齒輪嚙合，若干個(gè)從動(dòng)齒輪均布在主動(dòng)齒輪周圍；所述主動(dòng)齒輪通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，主動(dòng)齒輪上安裝有紅外線烤燈；所述從動(dòng)齒輪上安裝有晶片托架，所述晶片托架上設(shè)有晶片容置凹槽。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，能夠使晶片表面均勻受熱，晶片的兩面均能烘干到位且不會(huì)被烤壞。
【IPC分類】F26B23/04, F26B25/02, F26B11/00
【公開號(hào)】CN205037695
【申請?zhí)枴緾N201520799159
【發(fā)明人】劉樹奇, 呂堯池
【申請人】山東百利通亞陶科技有限公司
【公開日】2016年2月17日
【申請日】2015年10月16日