專利名稱：包括具有交叉波紋規(guī)整填料的塔的蒸餾設(shè)備以及增加蒸餾設(shè)備的容量的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種包括具有交叉波紋規(guī)整填料的塔的蒸餾設(shè)備，并涉及一種增加蒸餾設(shè)備的容量的方法。優(yōu)選地，該設(shè)備用于低溫蒸餾。
背景技術(shù)：
已知在低溫蒸餾設(shè)備內(nèi)采用規(guī)整填料以分離空氣氣體或者分離含有氫和一氧化碳的混合物(EP-A-837 031)。
交叉波紋填料由被稱為“單元(pack)”的模塊組成，每個模塊都由一疊交替地朝一個方向和另一個方向傾斜布置的波紋帶(板條)形成。這些帶穿孔或不穿孔，且由通常是金屬板的平滑的或帶紋理的板制成。在GB-A-1 004 046和CA-A-1 095 827中描述了該帶的示例。
在蒸餾塔中，帶位于基本垂直的平面上。從一個單元至下一單元，單元一般繞塔的軸線轉(zhuǎn)動90°，已顯示這些方向上的變化會在單元之間的界面處導(dǎo)致滿溢，該滿溢限制了該塔所能處理的負(fù)荷。
已提出各種用于抑制此滿溢的裝置。特別地，WO-A-97/16247公開了一種其母線(generatrices)在每個端部處彎曲以在單元的上下邊緣處垂直的波紋。
專利EP-A-0 707 885中公開了另一種對波紋進(jìn)行變型以減小模塊下邊緣處以及可能地上邊緣處的阻力的方法。例如，單元的底部可包括比其中央部更多的穿孔、處于單元底部的波紋的高度小于處于其中央?yún)^(qū)域的波紋的高度、或者單元的下端包括切口。
同具有未變型界面的常規(guī)填料相比，具有變型界面的填料對任何分配不均更敏感。另外，當(dāng)單元的液體載荷增大時，具有變型界面的特定填料的容量的增量減小。因為在高液體載荷時一個相位(phase)被另一相位占據(jù)，所以還會觀察到效率損耗。
在基于低壓降標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計的塔(例如，通常設(shè)計成具有最大壓降為2mbar/m的氬氣塔)中，由具有變型界面的填料提供的增量(通常為CV的10％)與滿溢時的可能增量(CV的30％)相比顯著降低。
在這種類型的塔中，通過界面變型使所提供的(容量的)增量減小，且分配不均的風(fēng)險高。
具有未變型界面的單元是一種具有波紋的交叉波紋規(guī)整填料的單元，其中，該單元在其整個高度上都具有基本相同的幾何構(gòu)造且下端處沒有切口。
具有變型界面的單元是一種具有波紋的交叉波紋規(guī)整填料的單元，其中，該單元具有位于其內(nèi)側(cè)且構(gòu)成其高度的至少50％的中央?yún)^(qū)域以及向下延伸到其下端的下部區(qū)域，與中央?yún)^(qū)域相比，單元的下部區(qū)域被變型，使得與中央?yún)^(qū)域內(nèi)的氣流阻力相比，下部區(qū)域內(nèi)的氣流阻力減小。
具有變型界面的單元是一種具有波紋的交叉波紋規(guī)整填料的單元，其中，該單元具有位于其內(nèi)側(cè)且構(gòu)成其高度的至少50％的中央?yún)^(qū)域、向下延伸到該單元下端的下部區(qū)域以及向上延伸到該單元上端的上部區(qū)域，與中央?yún)^(qū)域相比，單元的下部和上部區(qū)域被變型，使得與中央?yún)^(qū)域內(nèi)的氣流阻力相比，下部和上部區(qū)域內(nèi)的氣流阻力減小。
以上文獻(xiàn)中所提到的填料優(yōu)選具有范圍從250m2/m3至900m2/m3的比表面積。根據(jù)一優(yōu)選實施例，該填料是具有光滑表面的穿孔填料。
優(yōu)選地，具有變型界面的單元是一種如上所述但還包括向上延伸至其上端的上部區(qū)域的單元，與中央?yún)^(qū)域相比，單元的上部區(qū)域被變型，使得與中央?yún)^(qū)域內(nèi)的氣流阻力相比，上部區(qū)域內(nèi)的氣流阻力減小。
可以設(shè)想在EP-A-0 707 885中公開的所有減小阻力的方式。
優(yōu)選地，波紋在下部區(qū)域(并且可能地在上部區(qū)域)具有變型的幾何構(gòu)造，使該波紋的母線在一個(每個)端部處彎曲，從而在單元的下邊緣(以及上邊緣)處垂直。當(dāng)然，下部區(qū)域可同時包括其它能夠減小對單元內(nèi)氣流阻力的變型。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種分離設(shè)備，該設(shè)備可以克服已知設(shè)備的缺點，并且尤其可以通過巧妙地使具有變型界面的填料與不具有變型界面的填料分開而利用具有變型界面的填料的優(yōu)點本身，同時減小其負(fù)面影響。
本發(fā)明的一個方面提供一種可選地用于低溫蒸餾的蒸餾設(shè)備，該設(shè)備包括塔系統(tǒng)以及用于將可選地經(jīng)過冷卻和凈化的待分離的流送入該塔系統(tǒng)的塔內(nèi)的裝置，塔的至少一個填料部設(shè)計成在使用時(i)以低于速率比閾值的速率比操作，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，所述至少一個填料部包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面，該設(shè)備的特征在于，塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的至少一個填料部包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面。
例如，速率比閾值可以是1.05，載荷比閾值可以是400l/h/dm2。當(dāng)然，也可以設(shè)想其它值。
優(yōu)選的，塔的設(shè)計成在使用時以低于速率比閾值的回流速率比和/或以高于載荷比閾值的載荷比操作的填料部包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面；塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的回流速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的填料部包括規(guī)整填料，該填料的單元具有至少一個變型界面。
該設(shè)備可以是這樣的低溫空氣蒸餾設(shè)備，即，其包括相互熱聯(lián)接的中壓塔和低壓塔、選擇性地在處于該中壓與低壓之間的中間壓力下操作的中間壓塔、用于自中壓塔向中間壓塔進(jìn)料的裝置以及用于將空氣至少輸送至中壓塔的裝置，在該設(shè)備中，對于中壓塔和/或低壓塔以及選擇性地中間壓塔，塔的至少一個下填料部包括具有未變型界面的單元，至少一個上填料部包括具有變型界面的單元。
該設(shè)備可以是這樣的低溫空氣蒸餾設(shè)備，即，其包括氬氣塔、相互熱聯(lián)接的中壓塔和低壓塔、用于將空氣輸送至至少中壓塔的裝置以及用于將來自低壓塔的富氬氣體輸送至氬氣塔的裝置，在該設(shè)備內(nèi)，氬氣塔的至少一個填料部，優(yōu)選該氬氣塔的全部填料部包括一個或多個具有未變型界面的單元，而低壓塔或中壓塔的至少一個填料部包括具有變型界面的單元。
該設(shè)備可以是這樣的低溫空氣蒸餾設(shè)備，即，其包括混合塔、相互熱聯(lián)接的中壓塔和低壓塔、用于將空氣輸送至至少中壓塔的裝置以及用于將空氣和來自低壓塔的富氧液體輸送至混合塔的裝置，在該設(shè)備內(nèi)，混合塔的至少一個填料部，優(yōu)選該混合塔的全部填料部包括具有未變型界面的單元，而低壓塔或中壓塔的至少一個填料部包括具有變型界面的單元。
該設(shè)備可以是用于蒸餾主要包括一氧化碳和/或氫和/或氮和/或甲烷的混合物的低溫空氣蒸餾設(shè)備，該設(shè)備包括甲烷洗滌塔和/或氮洗滌塔和/或蒸餾塔和/或汽提塔的。該類型的設(shè)備可包括甲烷洗滌塔、汽提塔、用于將混合物輸送至甲烷洗滌塔的裝置以及用于將液體自甲烷洗滌塔的底部輸送至汽提塔的頂部的裝置，在該設(shè)備中，汽提塔包括至少一個具有未變型界面的單元，洗滌塔包括至少一個具有一個或多個變型界面的單元。
優(yōu)選的，塔的至少一個填料部設(shè)計成在使用時(i)以低于速率比閾值的速率比操作，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，所述至少一個填料部僅包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面；塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的至少一個填料部僅包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面。
本發(fā)明的另一方面提供一種在包括塔系統(tǒng)的設(shè)備內(nèi)進(jìn)行的可選地用于低溫蒸餾的蒸餾方法，包括如下步驟a)將經(jīng)冷卻和凈化的待分離的流輸送至塔系統(tǒng)的塔內(nèi)；b)在塔系統(tǒng)內(nèi)分離該流以形成富含混合物的至少一種成分的流體，塔的至少一個填料部(i)以低于速率比閾值的速率比操作，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，且包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面，其特征在于，塔的至少一個填料部以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作，并包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面。
本發(fā)明的另一方面提供一種增加可選地用于低溫蒸餾的蒸餾設(shè)備的至少一個塔的容量的方法，該蒸餾設(shè)備包括通過更換特定單元或具有一個或多個變型界面的單元的塔盤而僅包括具有未變型界面的單元或塔盤的塔系統(tǒng)，該方法包括如下步驟將具有一個或多個變型界面的單元安裝在至少一些填料部內(nèi)且優(yōu)選僅安裝在設(shè)計用于以高于速率比閾值的回流速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的填料部內(nèi)，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比。
優(yōu)選的，具有一個或多個變型界面的單元不安裝在設(shè)計用于以低于速率比閾值的回流速率比和/或以高于載荷比閾值的載荷比操作的至少一些且優(yōu)選全部填料部內(nèi)，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比。
例如，至多位于塔的上部(載荷氣體最多的部分)、優(yōu)選僅位于頂部的填料部的填料單元被一個或多個具有一個或多個變型界面的單元更換，而具有未變型界面的單元留在塔的下部。


參照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明-圖1示出包括中壓塔和低壓塔的低溫蒸餾空氣分離單元(裝置)；-圖2示出包括中壓塔、低壓塔和氬氣塔的低溫蒸餾空氣分離單元；-圖3示出包括中壓塔、低壓塔和混合塔的低溫蒸餾空氣分離單元；-圖4示出包括單個塔的低溫蒸餾空氣分離單元；以及-圖5示出用于分離主要成分包括氫、一氧化碳、甲烷以及可能的氮的混合物的分離單元。
具體實施例方式
圖1示出經(jīng)由冷凝器/再沸器(reboiler)5與低壓塔3熱聯(lián)接的中壓塔1，該冷凝器/再沸器5冷凝中壓塔的塔頂?shù)⑹菇?jīng)冷凝的氮作為回流返回該中壓塔。
氣態(tài)空氣7被送入中壓塔1的底部，液態(tài)空氣9也被送入中壓塔1的底部。在兩種空氣的入口之間是填料部A。
從中壓塔的頂部回收不同純度的液態(tài)氮流。來自該(中壓)塔頂?shù)牧?1被輸送至低壓塔的頂部，來自中壓塔中間位置的流13被輸送至低壓塔3的中間位置。
液態(tài)進(jìn)氣9和液態(tài)排出氮13經(jīng)由填料部B分開，液態(tài)排出氮13和11經(jīng)由填料部C分開。
富液流15從中壓塔1的底部輸送至低壓塔3的中間位置，填料部D將低壓塔的底部與富液流進(jìn)入的位置分開。
第二液態(tài)空氣流17被送至低壓塔。填料部E將富進(jìn)液15與液態(tài)進(jìn)氣17分開。填料部F將進(jìn)氣17與液態(tài)進(jìn)氮13分開，填料部G將液態(tài)進(jìn)氮11和13分開。
應(yīng)理解的是，將液態(tài)氮13送至塔頂是選擇性的，因而填料部F和G(以及相應(yīng)的B和C)可形成單個的填料部。類似的，液態(tài)進(jìn)氣17是選擇性的，因而填料部E和F可形成單個的填料部；液態(tài)進(jìn)氣9是選擇性的，因而填料部A和B可形成單個的填料部。
然而，來自鼓風(fēng)渦輪機(jī)的氣態(tài)空氣流可代替液態(tài)進(jìn)氣17。
根據(jù)本發(fā)明，在中壓塔內(nèi)，填料部A包括具有未變型界面的填料，填料部B和C包括具有變型界面的填料?；蛘撸袎核蓛H包括塔盤。
根據(jù)本發(fā)明，在低壓塔內(nèi)，填料部D包括具有未變型界面的填料，填料部E，F(xiàn)和G包括具有變型界面的填料。
圖2示出一雙塔，該雙塔與圖1的不同之處在于低壓塔連接到一氬氣塔。結(jié)果，填料部D被分開以形成三個填料部D1、D2和D3。
填料部D1將低壓塔的底部與用于氬氣塔21且富氬氣體的出氣25以及來自氬氣塔的底部進(jìn)液27分開。
填料部D2位于填料部D1上方。
部分富液流被輸送至氬氣塔21的塔頂冷凝器31，在那里其部分汽化，從而產(chǎn)生汽化的富液流35和未汽化的富液流37，兩種流在填料部D2與填料部D3之間的位置處被送入低壓塔內(nèi)。
剩余的富液流被輸送至填料部D3上方。
至少填料部D1僅包括具有未變型界面的單元。優(yōu)選地，填料部D2僅包括具有未變型界面的單元，甚至更優(yōu)選地，填料部D3僅包括具有未變型界面的單元。
填料部E，F(xiàn)和G僅包括具有變型界面的單元。
在氬氣塔本身內(nèi)具有兩個填料部H和I，在填料部I的上方回收富氬流。兩填料部H和I僅包括具有一個或多個未變型界面的單元。選擇性地，填料部H包括具有一個未變型界面的單元，填料部I包括具有一個或多個變型界面的單元。
圖3與圖1的不同之處在于其包括混合塔41。該底部被供以空氣流39且頂部被供以在泵45中泵送的液態(tài)氧43的塔包括兩個填料部J和K。氣態(tài)氧47作為塔41的塔頂餾出物產(chǎn)出。底部液體49與富液流混合并被輸送至低壓塔。相當(dāng)?shù)母灰毫?1被從填料部J和K之間回收、膨脹并被輸送至低壓塔。
填料部K(載荷液體最多的填料部)和選擇性地填料部J包括具有未變型界面的單元，而雙塔的填料部中的至少一些包括具有變型界面的單元。優(yōu)選地，用于雙塔的填料的類型如針對圖1所述，即對于中壓塔，填料部A包括具有未變型界面的填料，填料部B和C包括具有一個或多個變型界面的填料；對于低壓塔，填料部D包括具有未變型界面的填料，填料部E、F和G僅包括具有一個或多個變型界面的單元。選擇性地，中壓塔可僅包括塔盤。
圖4示出單塔空氣分離裝置。單塔1被供以氣態(tài)空氣流7。富液流15作為塔底餾出物從該塔被回收并被輸送至塔頂冷凝器/再沸器5，富液流15在該塔頂冷凝器/再沸器5中汽化。塔頂?shù)囊徊糠衷诶淠?再沸器5內(nèi)冷凝。氣態(tài)氮流13作為產(chǎn)品被從塔頂下方的幾個塔盤回收。該塔包括兩個填料部，A位于氣態(tài)氮13的回收處下方，C位于該回收處上方。填料部A包括至少一個單元，該一個或多個單元是具有一個或多個變型界面的填料單元，而填料部C包括至少一個單元，該一個或多個單元具有一個未變型界面。
圖5示出用于分離氫、一氧化碳和甲烷的混合物的三塔裝置。該混合物1在3中凈化、在換熱器5內(nèi)冷卻并被輸送至甲烷洗滌塔7。來自該洗滌塔的底部餾出物液體13經(jīng)膨脹并被輸送至汽提塔19的頂部。然后，來自該汽提塔的底部餾出物液體23在蒸餾塔27內(nèi)被分離為富含一氧化碳的氣體31和富含甲烷的液體28，至少一些富含甲烷的液體28再循環(huán)到洗滌塔7內(nèi)。該裝置通過使塔19、27的塔底升溫并使塔27的頂部冷卻的一氧化碳循環(huán)保持冷卻，該循環(huán)包括壓縮機(jī)35和渦輪機(jī)41，該壓縮機(jī)也用于壓縮產(chǎn)品37。
洗滌塔7包括具有一個或多個變型界面的單元L、M、N和O，蒸餾塔27包括兩個具有一個或多個變型界面的單元Q、R。而汽提塔19僅包括具有未變型界面的單元P。
在如圖1和2所示的空氣分離雙塔中，當(dāng)希望對具有塔盤的塔或者具有未變型界面單元的塔進(jìn)行變型時，優(yōu)選在填料部F，G內(nèi)安裝具有變型界面的填料單元。
權(quán)利要求
1.一種可選地用于低溫蒸餾的蒸餾設(shè)備，包括塔系統(tǒng)(1，3，7，19，21，27，41)以及用于將可選地經(jīng)過冷卻和凈化的待分離的流送入該塔系統(tǒng)的塔內(nèi)的裝置，塔的至少一個填料部(A，D，D1，D2，D3，H，I，J，K，P)設(shè)計成在使用時(i)以低于速率比閾值的速率比操作，所述速率比是所述填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，所述載荷比是所述填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，所述至少一個填料部(A，D，D1，D2，D3，H，I，J，K，P)包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面，該設(shè)備的特征在于，塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的至少一個填料部(B，C，E，F(xiàn)，G，I，J，L，M，N，O，Q，R)包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面，該速率比閾值是1.05，所述載荷比閾值是400l/h/dm2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，塔的設(shè)計成在使用時以低于速率比閾值的回流速率比和/或以高于載荷比閾值的載荷比操作的填料部包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面；塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的回流速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的填料部包括規(guī)整填料，該填料的單元具有至少一個變型界面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的低溫空氣蒸餾設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括相互熱聯(lián)接的中壓塔(1)和低壓塔(3)、選擇性地在處于該中壓與該低壓之間的中間壓力下操作的中間壓塔、用于自中壓塔向中間壓塔進(jìn)料的裝置以及用于將空氣至少輸送至中壓塔的裝置，在所述設(shè)備中，對于中壓塔和/或低壓塔以及選擇性地中間壓塔，塔的至少一個下填料部包括具有未變型界面的單元，至少一個上填料部包括具有變型界面的單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2和3中任一項所述的低溫空氣蒸餾設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括相互熱聯(lián)接的中壓塔(1)和低壓塔(3)、氬氣塔(21)、用于將空氣輸送至至少中壓塔的裝置以及用于將來自低壓塔的富氬氣體輸送至氬氣塔的裝置，在該設(shè)備內(nèi)，氬氣塔的至少一個填料部，優(yōu)選該氬氣塔的全部填料部包括一個或多個具有未變型界面的單元，而低壓塔或中壓塔的至少一個填料部包括具有變型界面的單元。
5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的低溫空氣蒸餾設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括相互熱聯(lián)接的中壓塔(1)和低壓塔(3)、混合塔(41)、用于將空氣輸送至至少中壓塔的裝置以及用于將空氣和來自低壓塔的富氧液體輸送至混合塔的裝置，在該設(shè)備內(nèi)，混合塔的至少一個填料部，優(yōu)選混合塔的全部填料部包括具有未變型界面的單元，而低壓塔或中壓塔的至少一個填料部包括具有變型界面的單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的低溫空氣蒸餾設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備用于蒸餾主要包括一氧化碳和/或氫和/或氮和/或甲烷的混合物，該設(shè)備包括甲烷洗滌塔(7)和/或氮洗滌塔和/或蒸餾塔(27)和/或汽提塔(19)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括甲烷洗滌塔(7)、汽提塔(19)、用于將混合物輸送至甲烷洗滌塔的裝置以及用于將液體自甲烷洗滌塔的底部輸送至汽提塔的頂部的裝置，在所述設(shè)備中，汽提塔包括至少一個具有未變型界面的單元，洗滌塔包括至少一個具有一個或多個變型界面的單元。
8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，塔的至少一個填料部設(shè)計成在使用時(i)以低于速率比閾值的速率比操作，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，所述至少一個填料部僅包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面；塔的設(shè)計成在使用時以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的至少一個填料部僅包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面。
9.一種在包括塔系統(tǒng)(1，3，7，19，21，27，41)的設(shè)備內(nèi)進(jìn)行的可選地用于低溫蒸餾的蒸餾方法，包括如下步驟a)將經(jīng)冷卻和凈化的待分離的流輸送至塔系統(tǒng)的塔內(nèi)；b)在塔系統(tǒng)內(nèi)分離該流以形成富含混合物的至少一種成分的流體，塔的至少一個填料部(A，D，D1，D2，D3，H，I，J，K，P)(i)以低于速率比閾值的速率比操作，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比；和/或(ii)以高于載荷比閾值的載荷比操作，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，且包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有未變型界面，其特征在于，塔的至少一個填料部以高于速率比閾值的速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作，并包括規(guī)整填料，該填料的一個或多個單元具有至少一個變型界面，該速率比閾值是1.05，該載荷比閾值是400l/h/dm2。
10.一種增加可選地用于低溫蒸餾的蒸餾設(shè)備的至少一個塔(1，3，7，19，21，27，41)的容量的方法，該蒸餾設(shè)備包括通過更換特定單元或具有一個或多個變型界面的單元的塔盤而僅包括具有未變型界面的單元或塔盤的塔系統(tǒng)，該方法包括如下步驟將具有一個或多個變型界面的單元安裝在至少一些填料部(B，C，E，F(xiàn)，G，I，J，L，M，N，O，Q，R)內(nèi)且優(yōu)選安裝在設(shè)計成以高于速率比閾值的回流速率比和/或以低于載荷比閾值的載荷比操作的那些填料部內(nèi)，該速率比是填料部的實際回流速率與最小回流速率的比，該載荷比是填料部的下行液體流率與填料部的橫截面積的比，該速率比閾值是1.05，該載荷比閾值是400l/h/dm2。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的增加容量的方法，其特征在于，用一個或多個具有一個或多個變型界面的單元更換至多位于塔的上部一載荷氣體最多的部分、優(yōu)選僅位于頂部的填料部(F，G)內(nèi)的填料單元，具有未變型界面的單元留在塔的下部。
全文摘要
本發(fā)明涉及包括具有交叉波紋規(guī)整填料的塔的蒸餾設(shè)備以及增加蒸餾設(shè)備的容量的方法。該蒸餾設(shè)備包括塔系統(tǒng)(1，3)以及用于將待分離的流(7，9)輸送至所述系統(tǒng)中的一個塔(1)內(nèi)的裝置的蒸餾設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明，如果在操作單元內(nèi)的速率比低于速率比閾值和/或載荷比高于載荷比閾值，所述速率比是單元的實際回流速率與最小回流速率的比，所述載荷比是單元的下行液流率與截面積的比，那么一個塔的至少一個填料部(A，D)包括由具有未變型界面的單元組成的規(guī)整填料。此外，塔的設(shè)計用于以高于速率比閾值的速率比和/或低于載荷比閾值的載荷比操作的至少一個填料部(C，G)包括由具有至少一個未變型界面的單元組成的規(guī)整填料。
文檔編號F25J3/02GK1784581SQ200480012584
公開日2006年6月7日 申請日期2004年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月9日
發(fā)明者R·杜貝迪爾, F·茹達(dá)斯 申請人:液體空氣喬治洛德方法利用和研究的具有監(jiān)督和管理委員會的有限公司