專利名稱：具有冷卻裝置的裝置及冷卻方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到一種致冷劑路徑構(gòu)造，特別涉及到一種進(jìn)行真空蒸鍍等的成膜時(shí)使用的真空槽的冷卻路徑的構(gòu)造。
背景技術(shù)：
一般情況下，進(jìn)行真空蒸鍍等的成膜時(shí)所使用的真空槽隨著槽內(nèi)的加熱機(jī)構(gòu)、蒸發(fā)源的溫度上升，真空槽的表面溫度上升到70～80℃。為了防止這種溫度上升對(duì)周邊設(shè)備、配線等的損壞，在真空槽壁面上通過銀焊、焊接直接安裝銅管、不銹鋼管等，并在其中使冷卻水、液化氣等致冷劑循環(huán)，從而進(jìn)行真空槽壁面的冷卻。并且，在真空槽內(nèi)外的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)等中也會(huì)產(chǎn)生溫度上升引起的問題，因此在需要冷卻的內(nèi)外機(jī)構(gòu)中通過管子等輸送致冷劑，并通過其進(jìn)行冷卻。這樣一來，在真空蒸鍍等的成膜裝置中，由于需要冷卻的部位存在多個(gè)，需要大量的冷卻用管，并且對(duì)此進(jìn)行施工需要較多的工時(shí)。
圖3是真空蒸鍍裝置，以下說明其薄膜形成的概要。
真空槽主體20中設(shè)有用于進(jìn)行真空排氣的真空槽開口21，在其中安裝由主泵22、主閥24、粗泵23、粗閥25、輔助閥26等構(gòu)成的排氣系統(tǒng)。在真空槽主體20內(nèi)的下部配置有電子槍30，將放入蒸鍍材料29的坩堝28、蒸鍍材料29加熱到蒸發(fā)溫度；擋板27，在蒸鍍結(jié)束時(shí)關(guān)閉，遮擋蒸鍍材料29。這些從真空槽主體20的外部通過坩堝機(jī)構(gòu)導(dǎo)入部46、電子槍導(dǎo)入部47等導(dǎo)入到真空槽內(nèi)。并且，在圖3中，配置有在加熱基板32時(shí)縮短升溫時(shí)間的鹵素加熱器31。在真空槽主體20內(nèi)的上部配置有搭載基板32的基板圓頂33、用于加熱基板32的基板加熱用加熱器34。在真空槽主體20的外部配置有基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35、基板加熱用加熱器導(dǎo)入部36等。
同圖所示的裝置具有在真空槽主體及需要冷卻的內(nèi)外機(jī)構(gòu)中使致冷劑循環(huán)、防止主體及各機(jī)構(gòu)升溫的裝置。致冷劑使用冷卻水，冷卻水從冷凍器37等冷卻水循環(huán)器流入到致冷劑輸入側(cè)歧管38，經(jīng)過管子42，傳送到各個(gè)需要冷卻的部位。在各需要冷卻的部位，溫度上升的冷卻水經(jīng)過管子42，從致冷劑輸出側(cè)歧管39返回到冷凍器37。并且，在冷卻水的分支點(diǎn)設(shè)有閥40，以便維修時(shí)使冷卻水可在各個(gè)部位停止，為了在因冷卻水路徑堵塞等冷卻水流量減小或停止時(shí)發(fā)出警報(bào)信號(hào)，在致冷劑輸出側(cè)歧管39上設(shè)置流量計(jì)41等。真空槽主體20的冷卻通過在真空槽主體冷卻管43內(nèi)流動(dòng)的冷卻水來進(jìn)行，上述真空槽主體冷卻管43是通過向真空槽主體20直接銀焊、焊接而安裝的銅制、不銹鋼制的冷卻管。
圖4表示用于進(jìn)行真空槽主體20的壁面冷卻而安裝的真空槽主體冷卻管43及各個(gè)部分的冷卻部的概況。真空槽主體20中，真空槽主體冷卻管43從真空槽主體冷卻管入口側(cè)接口44拉出，經(jīng)由真空槽側(cè)面、真空槽上面、真空槽底面、排氣系統(tǒng)連接部，返回到真空槽主體冷卻管出口側(cè)接口45。冷卻水在該冷卻管內(nèi)流動(dòng)，從而進(jìn)行真空槽主體20的冷卻。冷卻管的經(jīng)由順序等因裝置不同而不同，但基本構(gòu)造在任意的真空裝置中均相同。并且，向他基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35、基板加熱用加熱導(dǎo)入部36、坩堝機(jī)構(gòu)導(dǎo)入部46、及電子槍導(dǎo)入部47利用管子42流入冷卻水。通過和上述各部機(jī)構(gòu)相同的管子42冷卻水流入到真空槽主體冷卻管入口側(cè)接口44、及真空槽主體冷卻管出口側(cè)接口45。這些管子42與致冷劑歧管連接。
圖5(a)及圖5(b)是真空槽主體冷卻管43的安裝部剖視圖。圖5(a)是將銅管49通過銀焊50安裝到槽壁面48的例子，圖5(b)是將不銹鋼角管51通過焊接52安裝到真空槽壁面48的例子。通過將管子緊密裝備到真空槽壁面48，來進(jìn)行真空槽主體20的冷卻。這里列舉的管子的材質(zhì)、形狀、安裝方法僅是示例，可通過其他各種方法進(jìn)行裝備，基本概念是相同的，因此省略說明。
圖6是真空槽主體冷卻管入口部接口44及真空槽主體冷卻管出口部接口45的概要圖。向真空槽壁面48通過銀焊50或焊接52安裝管座53，在該管座53和銅管49的連接部上開孔。將銅管49連接到該孔，進(jìn)行銀焊50等。通過向管座53安裝管子42的接口等，連接管子42。
通過圖3至圖6的裝置進(jìn)行蒸鍍時(shí)，首先設(shè)置對(duì)基板圓頂33進(jìn)行蒸鍍的基板32。并且將蒸鍍材料29放入到坩堝中。并且使用粗泵23及粗閥25，使真空槽內(nèi)形成真空直至數(shù)Pa左右的壓力，之后使用主泵22、主閥24、及輔助閥26等，直到變?yōu)楦哒婵諡橹惯M(jìn)行真空排氣。當(dāng)真空槽內(nèi)變?yōu)檎婵諣顟B(tài)時(shí)，即通過基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35使基板圓頂33旋轉(zhuǎn)，同時(shí)利用基板用加熱器34、鹵素加熱器31加熱基板32。當(dāng)真空度及基板溫度到達(dá)目標(biāo)值時(shí)，從電子槍30將電子束照射向蒸鍍材料29，使蒸鍍材料29升溫到蒸發(fā)溫度。當(dāng)打開擋板27時(shí)，蒸鍍材料29在真空槽內(nèi)飛散，通過其堆積到基板32上形成薄膜。當(dāng)膜厚達(dá)到目標(biāo)值時(shí)，關(guān)閉擋板27，使電子槍30、鹵素加熱器31、及基板加熱用加熱器34等停止，冷卻后將大氣導(dǎo)入真空槽內(nèi)，之后取出形成薄膜的基板32。
如上所述，在進(jìn)行真空蒸鍍的基礎(chǔ)上，通過基板加熱用加熱器34、電子槍30等蒸發(fā)源，真空槽內(nèi)外機(jī)構(gòu)的溫度上升，隨之，真空槽主體20的溫度也上升。因此如圖3所示，需要利用致冷劑冷卻各真空槽主體20。
真空槽主體的大小不一，但為了提高生產(chǎn)效率，需要一次加入多個(gè)基板，因此真空槽主體傾向變大。當(dāng)真空槽主體變大時(shí)，各個(gè)部分配置的機(jī)構(gòu)和致冷劑歧管的距離變長(zhǎng)，因此管子的使用量增加，配管作業(yè)時(shí)間也變長(zhǎng)。并且，一般情況下，致冷劑用的管子在各部分進(jìn)行維修時(shí)為了不產(chǎn)生影響都盡力集束配管，因此管子的使用量進(jìn)一步增加。
現(xiàn)在，真空裝置要求進(jìn)一步提高維修性及冷卻效率。并且，為了降低成本要求減小施工時(shí)間，從保護(hù)資源的角度出發(fā)也要求減少管子的大量使用。為了對(duì)應(yīng)這些問題，出現(xiàn)了使用二維配管的方案(例如專利文獻(xiàn)1或2)。專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2公開了以下例子在冰箱、空氣凈化器等冷凍循環(huán)系統(tǒng)中組裝的配管裝置中，將對(duì)具有凹部的成形板進(jìn)行沖壓加工構(gòu)成的集成配管作為二維配管。
專利文獻(xiàn)1特開昭60-141365號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開平11-759號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容但是，上述二維配管裝置自身的形狀較為復(fù)雜，不適用于需要冷卻的部位支路較多的真空裝置，要靈活應(yīng)用時(shí)必須以包圍裝置的方式配置該二維配管面板，因而使用數(shù)量較多，無(wú)法降低成本。
如上所述，在真空槽主體及需要冷卻的部位所使用的致冷劑大量使用管子來配管，因此需要較多的作業(yè)時(shí)間，為了使管子集中配管，致冷劑的路徑變得較長(zhǎng)。這樣一來，會(huì)導(dǎo)致致冷劑的流量下降。流量下降會(huì)促進(jìn)致冷劑中含有的雜質(zhì)在致冷劑路徑內(nèi)堆積。當(dāng)雜質(zhì)堆積時(shí)，流量進(jìn)一步下降，導(dǎo)致路徑堵塞。并且，除了性能方面外，大量纏繞管子在外觀上也不美觀。
本發(fā)明通過利用在槽壁上設(shè)置的冷卻管來解決現(xiàn)有的大量使用管子的致冷劑的圍繞引起的維修性低下、配管施工時(shí)間增加、致冷劑路徑變長(zhǎng)引起的致冷劑流量下降、以及外觀不美觀的問題。
本發(fā)明的第一方面是，一種裝置，包括被槽壁覆蓋的槽、配置在槽內(nèi)部的內(nèi)部機(jī)構(gòu)或配置在槽外部的外部機(jī)構(gòu)、和用于冷卻內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑，其中，致冷劑路徑的至少一部分形成槽壁的一部分。進(jìn)一步，其構(gòu)成是設(shè)有僅冷卻槽壁的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑。并且，設(shè)有致冷劑循環(huán)器，獨(dú)立于各個(gè)致冷劑路徑，使致冷劑循環(huán)。進(jìn)一步設(shè)有致冷劑輸入側(cè)歧管，將致冷劑從該致冷劑循環(huán)器導(dǎo)入到各致冷劑路徑；致冷劑輸出側(cè)歧管，將致冷劑從各致冷劑路徑導(dǎo)入到致冷劑循環(huán)器。
在上述本發(fā)明的第一方面中，在槽壁的一部分上設(shè)置致冷劑導(dǎo)入部，形成各致冷劑路徑的單獨(dú)的開始端，通過管子將致冷劑從致冷劑輸入側(cè)歧管導(dǎo)入到各致冷劑路徑；致冷劑導(dǎo)出部，形成各致冷劑路徑的終端，通過管子將致冷劑從各致冷劑路徑導(dǎo)出到致冷劑輸出側(cè)歧管。并且，在致冷劑導(dǎo)入部中，各致冷劑路徑以獨(dú)立的狀態(tài)統(tǒng)一配置，在致冷劑導(dǎo)出部中，各致冷劑路徑以獨(dú)立的狀態(tài)統(tǒng)一配置。進(jìn)一步，致冷劑導(dǎo)入部及致冷劑導(dǎo)出部配置在槽壁的同一側(cè)面。
在上述本發(fā)明的第一方面中，用于冷卻內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的致冷劑路徑包括形成槽壁的一部分的配管；和連接配管和內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的管子。并且，致冷劑路徑的至少一部分配置在槽壁的表面或內(nèi)面。進(jìn)一步，致冷劑為冷卻水。
本發(fā)明的第二方面是，一種薄膜形成用真空槽，具有上述第一方面的任意一種裝置，在槽內(nèi)部具有成膜基板及蒸發(fā)源，將從該蒸發(fā)源蒸發(fā)的蒸發(fā)物質(zhì)堆積到成膜基板。
本發(fā)明的第三方面是，一種由具有內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的槽構(gòu)成的裝置的冷卻方法，其中，利用至少一個(gè)以上的致冷劑路徑冷卻內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)，利用該致冷劑路徑冷卻槽壁。進(jìn)一步，是利用僅冷卻槽壁的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑冷卻槽壁。
根據(jù)本發(fā)明，真空裝置的各部分致冷劑用配管的作業(yè)時(shí)間縮短，管子的使用量也大幅下降。并且，可使路徑為最短距離，因此可防止致冷劑的流量下降。進(jìn)一步，可改觀真空裝置的外觀，并可防止作業(yè)者的個(gè)人差別。


圖1是本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管的概要圖。
圖2是說明本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管的利用的圖。
圖3是真空裝置的概要圖。
圖4是現(xiàn)有的致冷劑配管的路徑的概要圖。
圖5是真空槽主體冷卻管的安裝方法的概要圖。
圖6是真空槽主體冷卻管的接口部的概要圖。
標(biāo)號(hào)說明1 本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管2 集中連接部20 真空槽主體21 真空槽開口22 主泵23 粗泵24 主閥25 粗閥26 輔助閥27 擋板28 坩堝29 蒸鍍材料30 電子槍31 鹵素加熱器32 基板33 基板圓頂34 基板加熱用加熱器
35 基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)36 基板加熱用加熱器導(dǎo)入部37 冷凍器38 致冷劑輸入側(cè)歧管39 致冷劑輸出側(cè)歧管40 閥41 流量計(jì)42 管子43 真空槽主體冷卻管44 真空槽主體冷卻管入口側(cè)接口45 真空槽主體冷卻管出口側(cè)接口46 坩堝機(jī)構(gòu)導(dǎo)入部47 電子槍導(dǎo)入部48 真空槽壁面49 銅管50 銀焊51 不銹鋼制角管52 焊接53 管座54 導(dǎo)熱率低的材料具體實(shí)施方式
圖1表示說明本發(fā)明實(shí)施例的概要圖。下述本發(fā)明涉及的冷卻裝置是搭載到和圖3及圖4所示的裝置相同的真空裝置的裝置，但可實(shí)施本發(fā)明的裝置不限于此。
圖中1是致冷劑路徑用冷卻管，構(gòu)成在應(yīng)冷卻的內(nèi)部機(jī)構(gòu)及應(yīng)冷卻的外部機(jī)構(gòu)中使致冷劑循環(huán)的路徑。2是集中連接部，由以下構(gòu)成致冷劑導(dǎo)入部，連接到從致冷劑輸入側(cè)歧管38導(dǎo)出的多個(gè)管子42；致冷劑導(dǎo)出部，連接到從致冷劑輸出側(cè)歧管39導(dǎo)出的多個(gè)管子42。在致冷劑導(dǎo)入部及致冷劑導(dǎo)出部中，在保持各致冷劑路徑獨(dú)立的狀態(tài)下致冷劑流入及流出，僅利用集中連接部2配管到致冷劑輸入側(cè)歧管38及致冷劑輸出側(cè)歧管39。并且在圖1中，表示了集中連接部2的致冷劑導(dǎo)入部及致冷劑導(dǎo)出部集中在一個(gè)地方，但也可使致冷劑導(dǎo)入部和致冷劑導(dǎo)出部單獨(dú)配置，根據(jù)需要也可將一部分致冷劑路徑的始點(diǎn)或終點(diǎn)從集中連接部2單獨(dú)配置。
在本實(shí)施例中，為了使致冷劑在基板加熱用加熱器34、基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35、坩堝28、電子槍30等機(jī)構(gòu)中循環(huán)，致冷劑路徑用冷卻管1與基板加熱用加熱器導(dǎo)入部36、基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35、坩堝機(jī)構(gòu)導(dǎo)入部46、電子槍導(dǎo)入部47連接。在致冷劑路徑用冷卻管1中使冷卻水循環(huán)，但致冷劑無(wú)論是液體、氣體，只要是可冷卻的物質(zhì)即可。流向配置在真空槽上部的基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35及基板加熱用加熱器34等的冷卻水經(jīng)過從集中連接部2開始到上部為止設(shè)置的致冷劑路徑用冷卻管1。從真空槽上部開始到基板圓頂旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)35及基板加熱用加熱器導(dǎo)入部36，用較短的管子42連接。同樣，坩堝28、電子槍等真空槽下部的機(jī)構(gòu)中也設(shè)有致冷劑路徑用冷卻管1，利用未圖示的較短的管子42連接到坩堝機(jī)構(gòu)導(dǎo)入部46、電子槍導(dǎo)入部47。
圖示了致冷劑路徑用冷卻管1安裝在真空槽壁外部的表面的情況，也可設(shè)置在真空槽壁內(nèi)部的表面或嵌入到壁的內(nèi)面。并且，致冷劑路徑用冷卻管1與其他真空槽主體冷卻管43的材質(zhì)、構(gòu)造也可相同，也可不同。在本實(shí)施例中，通過使致冷劑在致冷劑路徑用冷卻管1中循環(huán)，可在冷卻內(nèi)外機(jī)構(gòu)的同時(shí)提高真空槽壁的冷卻效率。
如圖1所示，在使用本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1時(shí)，與圖4所示的現(xiàn)有的配管方法相比，可大量減少管子42的使用量。并且，由于致冷劑的路徑長(zhǎng)度變?yōu)樽疃叹嚯x，因此可抑制致冷劑流量的減少。進(jìn)一步，由于無(wú)需安裝二維配管這樣特別的設(shè)備，因此不會(huì)產(chǎn)生裝置構(gòu)造復(fù)雜化、裝置占有面積擴(kuò)大這樣的問題。
與圖4所示的現(xiàn)有的方法相比，安裝圖1的致冷劑路徑用冷卻管1，如果僅考慮真空槽制造可能會(huì)使成本上升。但是，真空裝置通常在組裝后，在進(jìn)行動(dòng)作確認(rèn)、性能試驗(yàn)后解體，并輸送到收容場(chǎng)所，在那里再次進(jìn)行組裝，因此上述成本上升與管子的纏繞施工時(shí)間相比是很微小的。即，在圖4所示的現(xiàn)有方法中，在組裝、解體、安裝時(shí)，在組裝這樣的情況下必須進(jìn)行較長(zhǎng)的管子的纏繞。與之相比，在使用圖1的本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1時(shí)，向各部分的冷卻用配管僅是數(shù)厘米到十幾厘米左右，因而施工較為容易，并且解體、安裝時(shí)的管子的纏繞作業(yè)僅進(jìn)行集中連接部2的裝卸即可，明顯可縮短作業(yè)時(shí)間。在圖4的現(xiàn)有方法中，為了解體、安裝，設(shè)置管子的集中中轉(zhuǎn)部也可縮短解體、安裝的作業(yè)時(shí)間，但在真空槽主體20的周邊配置了多個(gè)測(cè)量器、控制器，因此配置地點(diǎn)較少，并且為了避免妨礙這些機(jī)器的維修，必須重置管子以避開它們。因此從各個(gè)部到集中中轉(zhuǎn)部為止的管子的配管作業(yè)消耗時(shí)間，并且不可能實(shí)現(xiàn)管子使用量的減小、無(wú)法以最短距離連接。并且，當(dāng)管子的長(zhǎng)度變長(zhǎng)時(shí)，容易產(chǎn)生施工人員個(gè)人差別的問題。
本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1如圖5(a)或圖5(b)所示安裝到真空槽主體20時(shí)，在致冷劑到達(dá)各機(jī)構(gòu)部前，該致冷劑會(huì)有一定的溫度上升。相對(duì)于真空槽主體20的壁面溫度70～80℃，其他機(jī)構(gòu)部的溫度是非常高的，因此略微的溫度上升不會(huì)成為問題，而真空槽壁的冷卻效率的提高效果是更為主要的，萬(wàn)一這種數(shù)℃的溫度上升成為問題時(shí)，使本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1的材質(zhì)由導(dǎo)熱率低的材料構(gòu)成，或不象如圖2(a)的真空槽主體冷卻管49一樣對(duì)較長(zhǎng)的距離進(jìn)行銀焊或焊接(50)，而是如圖2(b)一樣減少銀焊或焊接的地方?；蛘呷鐖D2(c)所示，也可使用在真空槽主體20和本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1之間夾持導(dǎo)熱率低的材料(54)并安裝的方法等。
在圖4所示的現(xiàn)有方法中，管子42大量被使用且四處配置，有損外觀，而在使用本發(fā)明的致冷劑路徑用冷卻管1時(shí)，裝置外觀明顯得以改觀。
在上述實(shí)施例中對(duì)利用蒸鍍法的成膜進(jìn)行了說明，可實(shí)施本發(fā)明裝置及方法的成膜方法不限于蒸鍍法，還可以包括測(cè)射法、離子噴鍍法等多種方法。
權(quán)利要求
1.一種裝置，包括由被槽壁覆蓋的槽、配置在所述槽內(nèi)部的內(nèi)部機(jī)構(gòu)或配置在所述槽外部的外部機(jī)構(gòu)、和用于冷卻所述內(nèi)部機(jī)構(gòu)或所述外部機(jī)構(gòu)的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑，該裝置的特征在于，所述致冷劑路徑的至少一部分形成所述槽壁的一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，包括僅冷卻所述槽壁的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，設(shè)有致冷劑循環(huán)器，獨(dú)立于各個(gè)所述致冷劑路徑，使致冷劑循環(huán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，設(shè)有致冷劑輸入側(cè)歧管，將致冷劑從該致冷劑循環(huán)器導(dǎo)入到所述各致冷劑路徑；致冷劑輸出側(cè)歧管，將致冷劑從所述各致冷劑路徑導(dǎo)入到所述致冷劑循環(huán)器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，在所述槽壁的一部分上設(shè)置致冷劑導(dǎo)入部，形成所述各致冷劑路徑的單獨(dú)的開始端，通過管子將致冷劑從該致冷劑輸入側(cè)歧管導(dǎo)入到所述各致冷劑路徑；和致冷劑導(dǎo)出部，形成所述各致冷劑路徑的終端，通過管子將致冷劑從所述各致冷劑路徑導(dǎo)出到該致冷劑輸出側(cè)歧管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，在該致冷劑導(dǎo)入部中，所述各致冷劑路徑以獨(dú)立的狀態(tài)統(tǒng)一配置，在該致冷劑導(dǎo)出部中，所述各致冷劑路徑以獨(dú)立的狀態(tài)統(tǒng)一配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的裝置，其特征在于，該致冷劑導(dǎo)入部及該致冷劑導(dǎo)出部配置在所述槽壁的同一側(cè)面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7的任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，用于冷卻所述內(nèi)部機(jī)構(gòu)或所述外部機(jī)構(gòu)的所述致冷劑路徑包括形成所述槽壁的一部分的配管；和連接該配管和所述內(nèi)部機(jī)構(gòu)或所述外部機(jī)構(gòu)的管子。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8的任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述致冷劑路徑的至少一部分配置在所述槽壁的表面或內(nèi)面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9的任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述致冷劑由冷卻水構(gòu)成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10的任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，該裝置在所述槽內(nèi)部具有成膜基板及蒸發(fā)源，是將從該蒸發(fā)源蒸發(fā)的蒸發(fā)物質(zhì)堆積到該成膜基板的薄膜形成用真空槽。
12.一種由具有內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的槽構(gòu)成的裝置的冷卻方法，其特征在于，利用至少一個(gè)以上的致冷劑路徑冷卻所述內(nèi)部機(jī)構(gòu)或所述外部機(jī)構(gòu)，利用所述致冷劑路徑冷卻所述槽的槽壁。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，利用僅冷卻所述槽壁的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑冷卻所述槽壁。
全文摘要
在真空蒸鍍等成膜中使用的真空槽的致冷劑路徑的構(gòu)成中，通過減少冷卻管的使用量縮短施工期間，通過縮短致冷劑路徑抑制致冷劑流量的下降，其中，在包括被槽壁覆蓋的槽、配置在槽內(nèi)部的內(nèi)部機(jī)構(gòu)或配置在槽外部的外部機(jī)構(gòu)、和用于冷卻內(nèi)部機(jī)構(gòu)或外部機(jī)構(gòu)的至少一個(gè)以上的致冷劑路徑的裝置中，其構(gòu)成為，致冷劑路徑的至少一部分形成槽壁的一部分。
文檔編號(hào)F25D17/02GK1946871SQ200580013068
公開日2007年4月11日 申請(qǐng)日期2005年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月14日
發(fā)明者瀧本昌行, 布施豐, 阿部辰彌, 小室弘之, 青名端一仁 申請(qǐng)人:株式會(huì)社昭和真空