專利名稱：用于在較大制冷系統(tǒng)中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器盤 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于在較大制冷系統(tǒng)中、特別是在冷藏容器的制冷設(shè)備/單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的方法和裝置，其中與利用二氧化鈦處理的過濾器結(jié)合地，在操作期間利用UV光連續(xù)地輻照冷卻空氣；以及一種用于執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的裝置。本發(fā)明還包括較大冷卻設(shè)備，該較大冷卻設(shè)備包括用于執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的裝置。
背景技術(shù)：
較大冷卻系統(tǒng)典型地通過冷卻空氣操作，已經(jīng)被冷卻為適宜溫度的該冷卻空氣在完全或者部分密封的隔艙中通過風(fēng)扇循環(huán)和再循環(huán)，在該隔艙中布置的貨物的保存期限取決于被冷卻到的特定溫度。

對此的示例是冷卻容器，其包括具有獨(dú)立冷卻系統(tǒng)的隔熱容器，該獨(dú)立冷卻系統(tǒng)被典型地布置在該冷卻容器的一端，其中冷卻空氣通過在冷凝器上的風(fēng)扇并經(jīng)由引出到冷卻容器外殼內(nèi)的管道循環(huán)，由此布置在其中的貨物例如在運(yùn)輸期間被冷卻至確定的溫度。在本發(fā)明以下的說明書中，為了簡化，與冷卻容器一起描述本發(fā)明，但是，這應(yīng)當(dāng)不限制本發(fā)明，因?yàn)樵诰哂薪?jīng)冷凝器循環(huán)的冷卻空氣循環(huán)的較大冷卻設(shè)備，和通常的冷卻設(shè)備和冷藏庫中，用于本發(fā)明的原理在許多其它關(guān)系中同樣是可使用的。本發(fā)明因此被認(rèn)為以其最寬視角與冷卻設(shè)備和冷藏庫有關(guān)。但是，通過源自被布置在冷藏室中貨物的細(xì)菌和真菌培養(yǎng)物等，也由于在其裝載和卸載期間在冷藏室中操作的人員，冷藏室的感染是不可避免的。冷卻容器用于運(yùn)輸要被冷卻以避免腐敗的所有貨物，對此的示例為肉、水果、內(nèi)臟
等ο當(dāng)該冷卻容器到達(dá)其目的地時(shí)，將開啟該容器，并且卸載所有貨物。隨后，將利用蒸汽清洗機(jī)清潔該容器，此后，該容器將被聲明為“清潔的”，并且被裝載其他貨物。但是，問題是容器實(shí)際上并不“清潔”，因?yàn)樵诶鋮s設(shè)備中冷凝器沒有被蒸汽清潔，因?yàn)槔鋮s設(shè)備由于其被電子裝置圍繞，并且既無法承受高壓蒸汽，也無法承受化學(xué)制品，而不能使用蒸汽以正常方式清潔。丹麥技術(shù)學(xué)會(huì)(DanishInstitute of Technology)已經(jīng)在從馬士基(Maersk)提供的容器中執(zhí)行了孢子和細(xì)菌的測量，并且結(jié)果是令人震驚的，因?yàn)槠涫境鲈诶鋮s設(shè)備的冷凝器上的細(xì)菌濃度是可觀的，并且因此在下一次使用該冷卻容器用于貨物運(yùn)輸時(shí)形成一種對于細(xì)菌等傳播的“快速啟動(dòng)”。對此的示例是當(dāng)水果被放入盒子中，并且它們的皮或者殼相互擠壓時(shí)，出現(xiàn)稱作乙烯的氣體。乙烯同時(shí)啟動(dòng)了污染過程。在全新的容器中進(jìn)行測試已經(jīng)示出，在大約8天(這在水果被從地球的一個(gè)地區(qū)運(yùn)輸?shù)搅硪粋€(gè)地區(qū)時(shí)不是不切實(shí)際的長時(shí)間)之后，在容器的儲(chǔ)藏室內(nèi)部可以測量到大于1.400的平皿計(jì)數(shù)，但是在容器中的冷凝器上測量到大于16.000的平皿計(jì)數(shù)?？梢岳萌缦陆鉀Q方案操作以解決這個(gè)問題，該解決方案包括手動(dòng)地、更仔細(xì)地對在冷卻容器中的冷凝器執(zhí)行清潔，但是，這不改變在容器中運(yùn)輸易于有害的貨物期間將會(huì)形成其它的/新的細(xì)菌的事實(shí)，并且因此，人工清潔冷卻容器的冷卻設(shè)備的冷凝器將必須在每次貨物運(yùn)輸結(jié)束之后立即進(jìn)行。此外，必須考慮“人為因素”，其中未必總是保證均勻地和以相同的質(zhì)量執(zhí)行清潔。從W02005044446A1 (約克國際公司(YORK INT CORP))中已知一種用于在冷卻設(shè)備中、特別是在冷卻容器的冷卻設(shè)備中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上傳播的方法，其中與利用二氧化鈦處理的過濾器結(jié)合地，在操作期間利用UV光連續(xù)地輻照冷卻空氣和冷凝器表面。該方法已經(jīng)示出是有效的，并且抑制所述破壞性的細(xì)菌培養(yǎng)物、孢子和微生物的傳播，并且對于例如在冷卻容器中運(yùn)輸?shù)氖澄镉兄诟L期地保持質(zhì)量。但是，缺乏以上提及的冷卻容器的有效清潔導(dǎo)致利用UV光輻照作為優(yōu)選不是有效的，因?yàn)樵谠摾鋮s容器中，UV輻照僅僅與冷卻設(shè)備的操作一起操作，這意味著冷卻容器在正常清潔之后的非操作時(shí)段，導(dǎo)致了當(dāng)冷卻設(shè)備的風(fēng)扇被啟動(dòng)時(shí)，將擴(kuò)散進(jìn)冷卻容器的冷卻室內(nèi)的不希望的孢子、細(xì)菌和微生物的形成和傳播，這不是優(yōu)選的。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供以上問題的解決方案，使得在較大冷卻設(shè)備、特別是在冷卻容器中的冷卻設(shè)備中防止細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上的形成和傳播，或者在所有條件下將其近似地降低為零。這個(gè)目的通過在前文提及的、一種用于在較大制冷系統(tǒng)、特別是在冷卻容器的制冷設(shè)備中對抗細(xì)菌、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的方法實(shí)現(xiàn)，其中在制冷設(shè)備的操作期間，與利用二氧化鈦處理的過濾器結(jié)合地，利用UV光連續(xù)照射冷卻空氣和冷凝器表面，其特征在于:在緊接制冷設(shè)備操作停止的時(shí)間段中，利用高頻發(fā)生器照射冷卻空氣和冷凝 器。該高頻發(fā)生器具有如下效果:其強(qiáng)大的電磁輻射導(dǎo)致在該輻射場中破壞所有生物材料，以及由此破壞細(xì)菌培養(yǎng)物、真菌培養(yǎng)物等。利用高頻發(fā)生器的輻射僅僅在使制冷設(shè)備操作之后的短時(shí)間段內(nèi)進(jìn)行，然后將其關(guān)閉，同時(shí)繼續(xù)利用UV光輻射，直到清空該容器，或者暫停該制冷設(shè)備的操作。應(yīng)當(dāng)注意到，本發(fā)明人意識到與二氧化鈦結(jié)合地使用UV光來殺死細(xì)菌培養(yǎng)物等是眾所周知的。由丹麥技術(shù)學(xué)會(huì)進(jìn)行的并且在2009年在報(bào)告:“Study of killing effectsagainst microorganisms using the Clean Air System for purification of thecirculated air and surfaces in a cooling container”中報(bào)告的石開究同樣顯不了，使用該方法，作為在該冷卻空氣中霉菌和酵母含量的菌落數(shù)的明顯減少，并且因此記錄了對于在較大制冷設(shè)備中、以及在這些之中特別是在冷卻容器的制冷設(shè)備中阻礙細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的適應(yīng)性。但是，不知道的是，與包括利用UV光輻射和二氧化鈦的已知技術(shù)結(jié)合地使用由高頻發(fā)生器產(chǎn)生的電磁輻射，以在較大制冷設(shè)備、特別是在冷卻容器的制冷單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物等在冷凝器表面上形成和傳播；并且由丹麥技術(shù)學(xué)會(huì)進(jìn)行的測量清楚地示出，根據(jù)本發(fā)明的、由高頻發(fā)生器在啟動(dòng)制冷設(shè)備之后緊接的較短時(shí)間段內(nèi)產(chǎn)生電磁輻射，隨后與UV光源結(jié)合地使用被涂覆二氧化鈦的過濾器的方法，指示了關(guān)于細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在較大制冷系統(tǒng)中、特別是在冷卻容器的制冷單元中的冷凝器盤管上形成和傳播(這只能通過手動(dòng)地進(jìn)行清潔工作來除去)的已知問題。因此，該電磁輻射顯著地有助于在啟動(dòng)制冷系統(tǒng)時(shí)殺死細(xì)菌培養(yǎng)物、真菌培養(yǎng)物、病毒、霉菌等，并且因此，它們沒有以之前已知的水平隨著冷卻空氣擴(kuò)散，以損害被布置在冷卻設(shè)備或者冷卻容器中食物。與包含二氧化鈦的過濾器結(jié)合的利用UV光源的連續(xù)輻射部分地導(dǎo)致在較大制冷系統(tǒng)、特別是在冷藏容器的制冷設(shè)備中阻礙了細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在冷凝器盤管上的形成和傳播，因此，當(dāng)該容器被裝載有新的產(chǎn)品/貨物時(shí)，這些表面不會(huì)有助于擴(kuò)散所述培養(yǎng)物和有機(jī)體，但是，此外同時(shí)地，在被裝載進(jìn)冷卻容器的貨物中已經(jīng)存在的細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等沒有被擴(kuò)散到如同如果沒有與具有二氧化鈦的過濾器結(jié)合地進(jìn)行利用UV光的連續(xù)照射則將出現(xiàn)的情形的程度，從而導(dǎo)致提高這些產(chǎn)品/貨物的耐久性。根據(jù)本發(fā)明方法的另外的優(yōu)點(diǎn)是，在使用消毒單元的前提下，細(xì)菌不容易在大陸之間擴(kuò)散。就此，可以說在世界范圍內(nèi)大約I百萬個(gè)制冷容器晝夜地在使用中。

此外，使用根據(jù)本發(fā)明的消毒單元消除了與容器關(guān)聯(lián)的氣味問題。目前，如果在容器中有柑桔類水果，不可能緊接著在相同的容器中運(yùn)輸可可豆，因?yàn)榭煽煞蹖⑽障惹斑\(yùn)輸?shù)漠a(chǎn)品的味道。這個(gè)問題也使用根據(jù)本發(fā)明的方法得以解決。優(yōu)選的是，UV光的波長位于范圍200-300nm內(nèi)、典型地在范圍240_270nm內(nèi)、并且優(yōu)選地在250-260nm內(nèi)。在根據(jù)本發(fā)明的方法的特別優(yōu)選的實(shí)踐中，UV光的波長是254nm。實(shí)驗(yàn)已經(jīng)示出，UV光源的強(qiáng)度有利地可以位于范圍5-100W內(nèi)、典型地在25-75W內(nèi)、并且優(yōu)選地在55-65W內(nèi)。在特別地優(yōu)選的根據(jù)本發(fā)明的方法實(shí)踐中，UV光源的強(qiáng)度是大約60W。為了實(shí)現(xiàn)盡可能最寬的光散播，并且意圖輻射具有二氧化鈦的過濾器的盡可能最大的部分，優(yōu)選的是，UV光源由管狀燈組成。在具有二氧化鈦的過濾器和UV光源之間的距離可以位于范圍l_200mm內(nèi)、典型地在20-140mm內(nèi)、并且優(yōu)選地在40_60mm的范圍內(nèi)。一種用于執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的裝置包括:用于在制冷設(shè)備的冷凝器的緊鄰處安裝的、由框架組成的單元，所述框架包括充滿二氧化鈦的過濾器和離過濾器一定距離的UV光源，并且所述光源與控制單元一起布置為:使得UV光源優(yōu)選地被與制冷設(shè)備/單元一起激活和關(guān)閉。在制冷容器的情況下已經(jīng)證明，有利的是，在冷凝器和圍繞容器空間內(nèi)部循環(huán)空氣的風(fēng)扇附近的每一側(cè)上，使用被布置在制冷容器的制冷單元的管道中的適當(dāng)尺寸的兩個(gè)單元。該單元被配備為用于安裝在所有類型的制冷容器中的標(biāo)準(zhǔn)元件/框架。優(yōu)選的是，UV光源由具有位于范圍25-100W內(nèi)、典型地在40-75W內(nèi)、并且優(yōu)選地在55-65W內(nèi)的強(qiáng)度的管狀UV光源組成。進(jìn)一步優(yōu)選的是，從管狀光源發(fā)射的UV光的波長位于范圍200_300nm內(nèi)、典型地在范圍240-270nm內(nèi)、并且優(yōu)選的波長位于250_260nm內(nèi)。在該單元的特定優(yōu)選的實(shí)施例中，對于從管狀光源發(fā)射的光的波長是254nm，其是已經(jīng)被證實(shí)在對抗細(xì)菌、真菌、霉菌培養(yǎng)物等方面最有效的波長。優(yōu)選的是，UV光源被布置在離具有二氧化鈦的過濾器在范圍l_200mm內(nèi)、典型地20-140mm、并且優(yōu)選地在范圍40_60mm內(nèi)的距離。關(guān)于適合于被布置在有限空間條件中，諸如在制冷容器中的制冷單元中的單元，優(yōu)選的是，UV光源被布置在離具有二氧化鈦的過濾器50mm的距離。據(jù)此，實(shí)現(xiàn)了具有二氧化鈦的過濾器的合理的照射度，同時(shí)該框架的內(nèi)置高度是相對小的。在啟動(dòng)布置了根據(jù)本發(fā)明的單元的相關(guān)的制冷設(shè)備/單元時(shí)，高頻發(fā)生器的使用有利于消除可能發(fā)生的細(xì)菌培養(yǎng)物、病毒、真菌培養(yǎng)物、霉菌和微生物等在制冷設(shè)備/單元的冷凝器表面和冷卻管道上的較多形成。但是，僅當(dāng)啟動(dòng)制冷設(shè)備/單元時(shí)，高頻發(fā)生器的使用是必要的。因此，該框架可以有利地進(jìn)一步包括連接到控制單元的高頻發(fā)生器，其被布置為，在啟動(dòng)制冷設(shè)備/單元時(shí)，高頻發(fā)生器在預(yù)先設(shè)定的時(shí)間段內(nèi)被激活，并且隨后被關(guān)閉。本發(fā)明還涉及一種制冷設(shè)備/單元，其特征在于:其在冷凝器區(qū)域附近包括根據(jù)在權(quán)利要求1-8中的任何一項(xiàng)中陳述的根據(jù)本發(fā)明的方法用于對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置，包括具有根據(jù)權(quán)利要求9-14中的任何一項(xiàng)所述的單元的制冷設(shè)備/單元。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種冷卻容器，其中制冷設(shè)備/單元包括根據(jù)在權(quán)利要求1-8中的任何一項(xiàng)中陳述的根據(jù)本發(fā)明的方法用于對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的設(shè)備，包括具有根據(jù)權(quán)利要求15所述的單元的制冷設(shè)備/單元。


以下參考附圖進(jìn)一步解釋本發(fā)明，其中:圖1是根據(jù)本發(fā)明的用于在制冷設(shè)備/單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上的形成和傳播的裝置的透視圖:圖2是被裝入冷卻容器中的制冷設(shè)備/單元中的、圖1中示出的裝置的圖形:圖3A和3B是在冷卻容器中的制冷設(shè)備的相應(yīng)的截面視圖和端視圖，示出在圖1和圖2中示出的裝置在該制冷設(shè)備/單元中被裝入的位置；圖4是基于由丹麥技術(shù)學(xué)會(huì)進(jìn)行的測量，指示用于在制冷設(shè)備/單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置效果的示意圖。
具體實(shí)施例方式在圖1中示出用于在制冷設(shè)備/單元4中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置2的實(shí)施例，參見圖3A和3B。在示出的實(shí)施例中，該裝置2包括具有二個(gè)長邊8和二個(gè)短邊10的矩形框架6，在所述框架2中放置包含二氧化鈦的過濾材料12。該框架2的短邊6包括具有恰好形成三角形橫截面的端板14、16。在端板14、16中布置用于安裝UV光源20的控制臺(tái)18，該UV光源20經(jīng)由電纜(未示出)連接到與制冷設(shè)備/單元4關(guān)聯(lián)的未示出的電源。為了照射過濾器22的整個(gè)表面，UV光源被布置在離包含二氧化鈦的過濾材料12 —定距離。在至少一個(gè)端板14的外側(cè)上，進(jìn)一步布置有高頻發(fā)生器24，其也經(jīng)由未示出的電纜和用于打開和關(guān)閉到高頻發(fā)生器的電源的定時(shí)器而連接到屬于制冷設(shè)備/單元4的電源。在圖2中示出用于在制冷設(shè)備/單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置2如何在循環(huán)冷卻空氣的風(fēng)扇26附近被布置在制冷設(shè)備/單元中，冷卻空氣當(dāng)在冷凝器28的表面上循環(huán)時(shí)被冷卻。在分別地是用于冷卻容器的制冷設(shè)備/單元4的側(cè)截面視圖和端視圖的圖3A和3B中，示出用于對抗細(xì)·菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置2是如何在制冷設(shè)備/單元中。如其顯示的，在示出的實(shí)施例中的制冷設(shè)備/單元被提供有兩個(gè)單元，在該制冷設(shè)備/單元的每一側(cè)中一個(gè)。用于在制冷設(shè)備/單元中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的裝置如下操作。當(dāng)該制冷設(shè)備/單元被連接到電源并且被打開時(shí)，UV光源被打開以照射過濾材料12以及在制冷設(shè)備/單元中的冷凝器表面28的表面，并且自然地也照射圍繞制冷設(shè)備/單元4中以及與之連接的冷卻容器(未示出)中循環(huán)的空氣，從而建立在制冷設(shè)備/單元中強(qiáng)烈地抑制細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播的環(huán)境，從而將它們消除。同時(shí)，隨著制冷系統(tǒng)啟動(dòng)，控制高頻發(fā)生器24操作的定時(shí)器被激活。該高頻發(fā)生器然后在預(yù)先選擇的時(shí)間投入操作，其中輻射阻止了在冷凝器28上和周圍區(qū)域中所有存在的有機(jī)物的出現(xiàn)。在選擇的時(shí)間段期滿之后，該高頻發(fā)生器24被自動(dòng)地關(guān)閉，同時(shí)在停止使用制冷設(shè)備/單元4之前保持UV光源點(diǎn)亮。在圖4中是直方圖的示意形式，與實(shí)驗(yàn)裝置相關(guān)地示出根據(jù)本發(fā)明的裝置的影響，在該實(shí)驗(yàn)裝置中，在裝載有各種水果和植物的冷卻容器中的制冷設(shè)備/單元中已經(jīng)裝入該裝置，并且圖4中是在由丹麥技術(shù)協(xié)會(huì)在2009年4月準(zhǔn)備的報(bào)告“Study on thekilling effects against microorganisms using the Clean Air purification systemfor purification of the circulated air and surfaces in a cooling container，，中的結(jié)果的再現(xiàn)。柱A示出隨著制冷系統(tǒng)操作，在14天之后在冷卻單元的表面上的細(xì)菌量。柱B和C示出在啟動(dòng)根據(jù)本發(fā)明的該裝置以在制冷系統(tǒng)中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面上形成和傳播之后20小時(shí)測量的，在冷卻元件的左側(cè)和右側(cè)處的細(xì)菌濃度，柱D示出在啟動(dòng)根據(jù)本發(fā)明的該裝置之后在來自冷卻系統(tǒng)的廢氣中的細(xì)菌濃度，并且“柱”E和F示出在使根據(jù)本發(fā)明的裝置操作之后20小時(shí)，在左側(cè)和右側(cè)冷凝器的表面上的細(xì)菌濃度。參看圖4的測量結(jié)果清楚地示出用于執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的裝置所聲稱的效果，并且良好地適用于在制冷設(shè)備/單元中阻礙細(xì)菌培養(yǎng)物的激增和傳播。應(yīng)當(dāng)注意到，本發(fā)明人已經(jīng)認(rèn)識到本發(fā)明可以采用除在附圖中所描述和示出的實(shí)施例之外其他的實(shí)施例，并且已經(jīng)在用于消毒的其它背景下應(yīng)用UV光，但是，這不改變本發(fā)明的方面，其將以全新和前所未有的關(guān)系使用這種技術(shù)，這可以導(dǎo)致提高在冷卻容器中運(yùn)輸?shù)呢浳?，或者存?chǔ)在冰箱、冷卻器等中的散裝產(chǎn)品的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，當(dāng)在世界的不同地區(qū)之間運(yùn)輸食物時(shí)，本發(fā)明的使用還有助于阻礙傳染的擴(kuò)散。
權(quán)利要求
1.一種用于在制冷設(shè)備/單元(4)中、特別是在冷卻容器中的制冷設(shè)備/單元(4)中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面(28)上形成和傳播的方法，其中與利用二氧化鈦處理的過濾器(12)結(jié)合地，在操作期間利用UV光照射冷卻空氣和冷凝器表面，其特征在于，在緊接所述制冷設(shè)備/單元操作停止的時(shí)間段中，利用由高頻發(fā)生器產(chǎn)生的電磁輻射照射所述冷卻空氣和所述冷凝器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述UV光的波長位于200-300nm范圍內(nèi)、典型地在240-270nm范圍內(nèi)、并且優(yōu)選地波長位于250_260nm內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述UV光具有在254nm處的波長。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，UV光源的強(qiáng)度位于5-100W范圍內(nèi)、典型地在25-75W內(nèi)、并且優(yōu)選地在55-65W內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述UV光源的強(qiáng)度是大約 60W。
6.根根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述UV光源由管狀光源組成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任何一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述UV光源被布置在離具有二氧化鈦的所述過濾器在范圍l-200mm內(nèi)、典型地20_140mm、并且優(yōu)選地在范圍40-60mm內(nèi)的距離。
8.一種用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1-7中的任何一項(xiàng)所述的方法的裝置(2)，其特征在于，所述裝置(2)包括緊鄰冷凝器(28)安裝的框架(6)，所述框架(6)包括充滿二氧化鈦的過濾器(12)，和離所述過濾器(12)—定距離的UV光源(20)，所述光源(20)被以如下方式與控制單元布置在一起:使得所述UV光源優(yōu)選地與所述制冷設(shè)備/單元(4) 一起激活和關(guān)閉。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(2)，其特征在于，所述UV光源由具有位于5-100W范圍內(nèi)、典型地在25-75W內(nèi)、并且優(yōu)選地在55-65W內(nèi)的強(qiáng)度的管狀UV光源(20)組成。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或者9中的任何一項(xiàng)所述的裝置(2)，其特征在于，從所述管狀光源發(fā)射的UV光的波長位于200-300nm范圍內(nèi)、典型地在240_270nm范圍內(nèi)、并且優(yōu)選地波長位于250-260nm內(nèi)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10中的任何一項(xiàng)所述的裝置(2)，其特征在于，從所述管狀UV光源(20)發(fā)射的光的波長是254nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求8-11中的任何一項(xiàng)所述的裝置(2)，其特征在于，所述UV光源(20)被布置在離具有二氧化鈦的所述過濾器(12)在l_200mm范圍內(nèi)、典型地在20_140mm、并且優(yōu)選地在40-60mm范圍內(nèi)的距離。
13.根據(jù)權(quán)利要求8-12中的任何一項(xiàng)所述的裝置(2)，其特征在于，所述UV光源(20)被布置在離具有二氧化鈦的所述過濾器(12) 50mm處的距離。
14.根據(jù)權(quán)利要求8-13中的任何一項(xiàng)所述的裝置(2)，用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述框架(6)進(jìn)一步包括高頻發(fā)生器(24)，將所述高頻發(fā)生器(24)連接到控制單元，所述控制單元被布置為:在啟動(dòng)所述制冷設(shè)備/單元時(shí)，所述高頻發(fā)生器在預(yù)先設(shè)定的時(shí)間段中被激活，并且隨后被關(guān)閉。
15.一種用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法的制冷設(shè)備/單元(4)，其特征在于，所述制冷設(shè)備/單元(4)在冷凝器區(qū)域附近包括根據(jù)權(quán)利要求8-14中的任何一項(xiàng)所述的、用于對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面(28 )上形成和傳播的裝置(2 )。
16.一種具有制冷設(shè)備/單元(4)的冷卻容器，其特征在于，所述制冷設(shè)備/單元(4)在冷凝器區(qū)域附近包括根據(jù)權(quán)利要求15所述用于 對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面(28)上形成和傳播的裝置(2)。
全文摘要
指定了一種用于在制冷設(shè)備/單元(4)中對抗細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等在冷凝器表面(28)上形成和傳播的方法和裝置。該方法特殊之處在于與利用二氧化鈦處理的過濾器(12)結(jié)合地，在操作期間利用UV光連續(xù)地照射冷卻空氣和冷凝器表面。該方法進(jìn)一步補(bǔ)充有在緊接制冷設(shè)備/單元操作停止的時(shí)間段中，利用由高頻發(fā)生器(24)產(chǎn)生的電磁輻射照射冷卻空氣和冷凝器。利用被布置在冷卻容器中的制冷設(shè)備/單元(4)中的裝置執(zhí)行的測試已經(jīng)示出，在使根據(jù)本發(fā)明的裝置在制冷設(shè)備/單元的冷凝器附近操作之后，在相對短時(shí)間之后，在制冷設(shè)備/單元中在冷凝器表面(28)上的細(xì)菌培養(yǎng)物和微生物等被消除到前所未有的最小值。
文檔編號F25B39/04GK103096942SQ201180037047
公開日2013年5月8日 申請日期2011年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月26日
發(fā)明者亨里克·亨德里克森 申請人:埃爾維申公司