專利名稱：自吸式均布無(wú)堵塞溶氣釋放器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是應(yīng)用于水處理壓力溶氣氣浮工藝中的一種溶氣水釋放設(shè)備，特別涉及對(duì)溶氣釋放器結(jié)構(gòu)的改進(jìn)。
進(jìn)水盤上的進(jìn)水孔及工作時(shí)的壓力是控制整個(gè)釋放器出水流量及溶氣效率的關(guān)鍵因素。進(jìn)水盤與自吸反射盤在自由狀態(tài)下，兩盤之間間隔可根據(jù)不同規(guī)格為0.5～50mm，進(jìn)水盤上的進(jìn)水孔可按不同流量為φ1～φ70mm。
本實(shí)用新型的最大特點(diǎn)是自吸反射盤在進(jìn)水盤與連接架之間，在無(wú)工作壓力的自由狀態(tài)下，可以在導(dǎo)向柱上來(lái)回移動(dòng)。這樣，使兩盤間隔盡量大一些，以利更大的堵塞物排出。當(dāng)釋放器開始運(yùn)行工作時(shí)，進(jìn)水口的壓力溶氣水初始?jí)毫榱?，此時(shí)兩盤間隙為最大狀態(tài)，在壓力逐步升高的溶氣水沖擊下將釋放器安裝管道內(nèi)的雜物全部沖走。隨著系統(tǒng)內(nèi)工作壓力的正常，兩盤間的壓力水流速加快，在高速水流的作用下，使兩盤間逐步產(chǎn)生真空狀態(tài)。由于真空作用的產(chǎn)生，將可移動(dòng)的自吸反射盤自動(dòng)吸向進(jìn)水盤，此時(shí)壓力溶氣水非常均勻的在兩盤之間360°全方位減壓釋放，兩盤之間的間隙隨著壓力的上升而變小，反之，則間隙變大。所以，該釋放器的發(fā)明產(chǎn)生，徹底告別了以往釋放器的堵塞問(wèn)題及安裝時(shí)增設(shè)反沖管路設(shè)施，降低了成本及提高了工作效率，并且擁有優(yōu)越的布水效果。
附


圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖.
附圖2是圖的俯視圖。
權(quán)利要求1.一種自吸式均布無(wú)堵塞溶氣釋放器，帶有進(jìn)水盤(1)、自吸反射盤(2)，進(jìn)水盤中部帶有進(jìn)水口；在進(jìn)水盤底面和自吸反射盤上面的中部，沿圓周方向帶有三角形的槽，進(jìn)水盤與自吸反射盤上的齒對(duì)齒、槽對(duì)槽布置；其特征在于連接架(4)帶有至少三根導(dǎo)向柱(3)，連接架位于進(jìn)水盤和自吸反射盤的中心部位，導(dǎo)向柱穿過(guò)自吸反射盤，與進(jìn)水盤固定連接；自由狀態(tài)下自吸反射盤在連接架的導(dǎo)向柱上可來(lái)回移動(dòng)。
2.按照權(quán)利要求1所述的自吸式均布無(wú)堵塞溶氣釋放器，其特征在于進(jìn)水盤與自吸反射盤在自由狀態(tài)下，兩盤間隙為0.5～50mm。
3.按照權(quán)利要求1所述的自吸式均布無(wú)堵塞溶氣釋放器，其特征在于進(jìn)水盤上的進(jìn)水口孔徑為φ1～φ70mm。
專利摘要本實(shí)用新型是應(yīng)用于水處理壓力溶氣氣浮工藝中的一種自吸式均布無(wú)堵塞溶氣釋放器,帶有進(jìn)水盤、自吸反射盤,進(jìn)水盤中部帶有進(jìn)水口;在進(jìn)水盤底面和自吸反射盤上面的中部,沿圓周方向帶有三角形的槽,進(jìn)水盤與自吸反射盤上的齒對(duì)齒、槽對(duì)槽布置;連接架帶有至少三根導(dǎo)向柱,連接架位于進(jìn)水盤和自吸反射盤的中心部位,導(dǎo)向柱穿過(guò)自吸反射盤,與進(jìn)水盤固定連接;自由狀態(tài)下自吸反射盤在連接架的導(dǎo)向柱上可來(lái)回移動(dòng)。進(jìn)水盤與自吸反射盤在自由狀態(tài)下,兩盤間隙為0.5～50mm。進(jìn)水盤上的進(jìn)水口孔徑為φ1～φ70mm。本實(shí)用新型的最大特點(diǎn)是:自吸反射盤在進(jìn)水盤與連接架之間,在無(wú)工作壓力的自由狀態(tài)下,可以在導(dǎo)向柱上來(lái)回移動(dòng)。這樣,使兩盤間隔盡量大一些,以利更大的堵塞物排出。
文檔編號(hào)C02F1/20GK2504254SQ01253798
公開日2002年8月7日 申請(qǐng)日期2001年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月20日
發(fā)明者王勇 申請(qǐng)人:王勇