專利名稱：一種利用工業(yè)廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種利用工業(yè)廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚。
背景技術(shù)：
目前，隨著拋光磚產(chǎn)能的不斷增大，因生產(chǎn)拋光磚而產(chǎn)生的拋光廢渣也隨之增大。 由于拋光廢渣主要由瓷質(zhì)磚在拋光過程中瓷質(zhì)磚和拋光磨料相互磨削后產(chǎn)生的顆粒組成， 而拋光磨料中含有的發(fā)泡成份(Sic等)在高溫?zé)珊髸a(chǎn)生發(fā)泡現(xiàn)象，若將拋光廢渣用于 生產(chǎn)拋光磚時，就會容易發(fā)生質(zhì)量事故，因此目前大多數(shù)建陶生產(chǎn)企業(yè)對拋光廢渣的處理 主要采用填埋的方式，對環(huán)境造成了危害。而且，隨著陶瓷原材料和燃料價格的不斷上漲， 及國家對陶瓷企業(yè)制定了節(jié)能、降耗、減排、環(huán)保的行業(yè)發(fā)展政策，亦嚴(yán)重阻礙陶瓷行業(yè)的 可持續(xù)發(fā)展。為此，各陶瓷企業(yè)均致力研究如何按行業(yè)發(fā)展方向合理處理拋光廢渣，但至今仍 無合理的處理方式。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，提供一種利用拋光廢渣、配合傳統(tǒng) 陶瓷原料、按照傳統(tǒng)陶瓷墻地磚生產(chǎn)工藝制成的具有商業(yè)價值的細(xì)炻磚(內(nèi)墻磚、外墻磚、 廣場磚等)產(chǎn)品。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種利用工業(yè)廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚，其 坯體原料中包含有拋光廢渣，所述拋光廢渣主要由瓷質(zhì)磚在拋光過程中瓷質(zhì)磚和拋光磨料 相互磨削后產(chǎn)生的顆粒組成。該拋光廢渣是將瓷質(zhì)拋光磚生產(chǎn)線產(chǎn)生的廢水漿匯集后經(jīng)過 絮凝沉淀、壓濾和均化處理后得到。由于拋光廢渣中的拋光磨料含有熔劑成分(MgO等)和 發(fā)泡成分(SiC等)，配合傳統(tǒng)陶瓷原料，按照傳統(tǒng)陶瓷墻地磚生產(chǎn)工藝，即可制成具有商業(yè) 價值的細(xì)炻磚。作為優(yōu)選，上述拋光廢渣在坯體原料中的重量百分比為10% 70%。進(jìn)一步，上述傳統(tǒng)陶瓷原料具體為長石、石英、黏土這三類原料，本發(fā)明所述細(xì)炻 磚的坯體原料的重量百分比組成為拋光廢渣 10% 70%長石10% 40%石英5% 40%黏土10% 40%。作為優(yōu)選，上述坯體原料的重量百分比組成為拋光廢渣 30% 50%長石10% 40%石英5% 40%黏土10% 40%。
上述坯體原料球磨時的球磨細(xì)度為325目標(biāo)準(zhǔn)篩篩余2. 0% 4. 0%。本發(fā)明所述的細(xì)炻磚的坯體燒成溫度為1110°C 1170°C。本發(fā)明采用拋光廢渣制成的細(xì)炻磚與傳統(tǒng)細(xì)炻磚相比具有如下有益效果坯體配 方成本降低一半左右；用作內(nèi)墻磚則燒成溫度低30°C左右，吸水率較同類型產(chǎn)品低12%左 右，斷裂模數(shù)提高lOMPa 20MPa ；用作外墻磚則燒成溫度較同類型產(chǎn)品低50°C左右。本發(fā) 明采用工業(yè)廢渣生產(chǎn)細(xì)炻磚，完全符合我國節(jié)能、降耗、減排、環(huán)保的行業(yè)發(fā)展方向。節(jié)能、 降耗、減排、增效，也符合國家正在陶瓷行業(yè)推廣的清潔生產(chǎn)的政策，提高了資源的利用效 率，減少或避免生產(chǎn)、服務(wù)和產(chǎn)品使用過程中污染物的產(chǎn)生與排放，減輕或者消除了對人類 健康和環(huán)境的危害；通過對廢渣的有效處理，使企業(yè)達(dá)到節(jié)能、降耗、減輕對環(huán)境污染的目 的。


圖1是本發(fā)明所述細(xì)炻磚的生產(chǎn)工藝流程圖?，F(xiàn)結(jié)合附圖和實施實例對本發(fā)明作進(jìn)一步描述
具體實施例方式一、拋光廢渣的制備將目前陶瓷行業(yè)瓷質(zhì)拋光磚生產(chǎn)線運行過程中產(chǎn)生的廢水漿匯集后，經(jīng)過加入絮 凝劑后沉淀、壓濾及均化處理后即獲得拋光廢渣。考慮到泥漿的解膠性能，絮凝劑的添加量 應(yīng)盡可能的少一些。該拋光廢渣主要由瓷質(zhì)磚在拋光過程中瓷質(zhì)磚和拋光磨料相互磨削后 產(chǎn)生的顆粒組成。由于目前陶瓷行業(yè)的瓷質(zhì)磚及所使用的拋光磨料的成分均大體相同，因 此陶瓷行業(yè)按該處理方法得到的拋光廢渣的成分也大體相同。由于拋光廢渣主要是由瓷質(zhì)磚和拋光磨料相互磨削后產(chǎn)生的顆粒組成。拋光廢渣 中的磨料含有熔劑成分(MgO等)和發(fā)泡成分(SiC等)，能夠顯著降低坯體配方的燒成溫 度；在同樣的燒成溫度下，可顯著降低產(chǎn)品的吸水率；用作內(nèi)墻磚，由于坯體燒結(jié)程度大幅 度提高，則斷裂模數(shù)也明顯提高。二、利用該拋光廢渣生產(chǎn)細(xì)炻磚如圖1所示，本發(fā)明所述的細(xì)炻磚的具體工藝流程為1、坯體原料制備將10% 70%重量的拋光廢渣、10% 40%重量的長石、5% 40%重量的石英、 10% 40%重量的黏土稱量后混料入球磨機中進(jìn)行濕法球磨，球磨過程中添加適量的坯體 增強劑和解膠劑，球磨細(xì)度為325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2.0% 4.0% ；球磨后的泥漿過80目振動 篩，并進(jìn)行除鐵；除鐵后的泥漿利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧造粒，粉料含水率6.0% 8.0% ； 將粉料放入料倉內(nèi)陳腐24小時左右后備用。2、采用傳統(tǒng)的陶瓷墻地磚生產(chǎn)工藝制備本發(fā)明所述的細(xì)炻磚，具體為利用陶瓷磚全自動液壓壓磚機進(jìn)行干法壓制成型，成型壓強340kg/cm2 400kg/ cm2 ；利用干燥器對坯體進(jìn)行干燥，干燥殘余水分小于0. 3 %，干坯斷裂模數(shù)1. 2MPa 1. 8MPa ；利用施釉線上的施釉和印花設(shè)備在坯體表面上進(jìn)行施釉和印花；利用陶瓷磚輥道 窯在1110°C 1170°C進(jìn)行燒成，產(chǎn)品的吸水率0. 5 % 6. 0 %，斷裂模數(shù)25MPa 35MPa ；利用陶瓷磚磨邊線對出窯后的半成品進(jìn)行磨邊和倒角。本發(fā)明是將目前陶瓷行業(yè)瓷質(zhì)拋光磚生產(chǎn)線產(chǎn)生的大量難以處理的拋光廢渣作 為細(xì)炻磚生產(chǎn)的主要原料，為建陶產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)節(jié)約型、清潔化、可循環(huán)的綠色經(jīng)濟生產(chǎn)提供了 新的途徑。實施例11、坯體原料的重量百分比組成10%的拋光廢渣、40%的長石、20%的石英、30% 的黏土，外加坯體原料總重量0. 0% 0. 的坯體增強劑和0. 3% 0. 6%的解膠劑。2、球磨細(xì)度325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2. 0% 3. 0%。3、燒成溫度1160°C 1170°C。4、吸水率5% 6%。5、斷裂模數(shù)22MPa 30MPa。實施例21、坯體原料的重量百分比組成70%的拋光廢渣、15%的長石、5%的石英、10%的 黏土，外加坯體原料總重量0. 15% 0. 25%坯體增強劑和0. 5% 1. 0%解膠劑。2、球磨細(xì)度325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2. 0% 3. 0%。3、燒成溫度1100°C 1120°C。4、吸水率2% 3%。5、斷裂模數(shù)20MPa 25MPa。實施例31、坯體原料的重量百分比組成40%的拋光廢渣、25%的長石、15%的石英、20% 的黏土，外加坯體原料總重量0. 05% 0. 15%坯體增強劑和0. 5% 0. 8%的解膠劑。2、球磨細(xì)度325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2. 0% 3. 0%。3、燒成溫度1110°C 1130°C。4、吸水率3% 5%。5、斷裂模數(shù)25MPa 35MPa。實施例41、坯體原料的重量百分比組成30%的拋光廢渣、30%的長石、20%的石英、20% 的黏土，外加坯體原料總重量0. 05% 0. 15%坯體增強劑和0. 5% 0. 8%的解膠劑。2、球磨細(xì)度325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2. 0% 3. 0%。3、燒成溫度1110°C 1130°C。4、吸水率3% 6%。5、斷裂模數(shù)25MPa 35MPa。實施例51、坯體原料的重量百分比組成50%的拋光廢渣、20%的長石、10%的石英、20% 的黏土，外加坯體原料總重量0. 05% 0. 15%坯體增強劑和0. 5% 1. 0%的解膠劑。2、球磨細(xì)度325目標(biāo)準(zhǔn)篩余2. 0% 3. 0%。3、燒成溫度1110°C 1130°C。4、吸水率2% 5%。5、斷裂模數(shù)25MPa 35MPa。
從上可知，本發(fā)明利用拋光廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚，完全符合細(xì)炻磚產(chǎn)品的性能指標(biāo)， 而且與采用傳統(tǒng)坯體原料制成的細(xì)炻磚相比較，坯體原料配方成本可降低一半左右；用作 內(nèi)墻磚則燒成溫度可低30°C左右，吸水率較同類型產(chǎn)品可低12%左右，斷裂模數(shù)可提高 lOMPa 20MPa ；用作外墻磚則燒成溫度較同類型產(chǎn)品可低50°C左右。
權(quán)利要求
一種利用工業(yè)廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚，其特征在于，坯體原料中包含有拋光廢渣，所述拋光廢渣主要由瓷質(zhì)磚在拋光過程中瓷質(zhì)磚和拋光磨料相互磨削后產(chǎn)生的顆粒組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)炻磚，其特征在于，所述拋光廢渣是將瓷質(zhì)拋光磚生產(chǎn)線 產(chǎn)生的廢水漿匯集后經(jīng)過絮凝沉淀、壓濾和均化處理后得到。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的細(xì)炻磚，其特征在于，所述拋光廢渣在坯體原料中的重量百 分比為10% 70%。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細(xì)炻磚，其特征在于，所述坯體原料的重量百分比組成為 拋光廢渣 10% 70%長石10% 40%石英5% 40%黏土10% 40%。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的細(xì)炻磚，其特征在于，所述坯體原料的重量百分比組成為 拋光廢渣 30% 50%長石10% 40%石英5% 40%黏土10% 40%。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的細(xì)炻磚，其特征在于，坯體原料球磨時的球磨細(xì)度為325 目標(biāo)準(zhǔn)篩余2.0% 4.0%。
7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的細(xì)炻磚，其特征在于，細(xì)炻磚的坯體燒成溫度為 1110°C 1170°C。
全文摘要
本發(fā)明屬于陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種利用工業(yè)廢渣生產(chǎn)的細(xì)炻磚。所述細(xì)炻磚的坯體原料中包含有拋光廢渣，所述拋光廢渣主要由瓷質(zhì)磚在拋光過程中瓷質(zhì)磚和拋光磨料相互磨削后產(chǎn)生的顆粒組成。該拋光廢渣是將瓷質(zhì)拋光磚生產(chǎn)線產(chǎn)生的廢水漿匯集后經(jīng)過絮凝沉淀、壓濾和均化處理后得到。本發(fā)明采用工業(yè)廢渣生產(chǎn)細(xì)炻磚，完全符合我國節(jié)能、降耗、減排、環(huán)保的行業(yè)發(fā)展方向。節(jié)能、降耗、減排、增效，也符合國家正在陶瓷行業(yè)推廣的清潔生產(chǎn)的政策，提高了資源的利用效率，減少或避免生產(chǎn)、服務(wù)和產(chǎn)品使用過程中污染物的產(chǎn)生與排放，減輕或者消除了對人類健康和環(huán)境的危害；通過對廢渣的有效處理，使企業(yè)達(dá)到節(jié)能、降耗、減輕對環(huán)境污染的目的。
文檔編號C02F9/02GK101844912SQ200910038098
公開日2010年9月29日 申請日期2009年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月23日
發(fā)明者劉培功, 譚賢輝, 陳水福 申請人:廣東科達(dá)機電股份有限公司