專利名稱：用于二沉池的紫外消毒裝置及二沉池消毒系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種水體消毒裝置，特別是涉及一種用于二沉池的紫外消毒裝置及二沉池消毒系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
一沉池用于進(jìn)行污水的初步沉淀脫去懸浮物，不溶物。然后將初步處理后的污水送入消化池，進(jìn)行氧消化或者厭氧消化，或者以不同順序串聯(lián)。經(jīng)生物消化后的污水，就被送入了二沉池。二沉池主要用于回收生物污泥，然后將水體送至消毒系統(tǒng)對其經(jīng)消毒過濾等，最后由消毒系統(tǒng)排出完成消毒作業(yè)的水。紫外消毒作為一種不產(chǎn)生消毒副產(chǎn)物的物理消毒技術(shù)，迅速被人們所接受，并在世界范圍內(nèi)投入實際應(yīng)用。如圖1所述，現(xiàn)有技術(shù)中用于回收生物污泥的二沉池1和用于消毒水體(自二沉池處理后的水)的紫外消毒系統(tǒng)2為各自獨立。水管21將二沉池1的出水口與紫外消毒系統(tǒng)2的進(jìn)水口連通，消毒后的水經(jīng)由紫外消毒系統(tǒng)2的出水管道22排出。兩者功能獨立， 對水體進(jìn)行分步處理，導(dǎo)致整個水體消毒系統(tǒng)龐大，占用較多的使用面積，建造成本較高； 另一方面，由于現(xiàn)有的水體消毒裝置多采用低壓汞燈，因此存在一定安全隱患，若汞燈損壞容易照成水體污染。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的二沉池與紫外消毒裝置各自獨立設(shè)置，導(dǎo)致水體消毒系統(tǒng)占地面積較大，建造成本較高的缺陷，提供一種用于二沉池的紫外消毒裝置及二沉池消毒系統(tǒng)。本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的—種用于二沉池的紫外消毒裝置，其特點在于，其包括至少一消毒模組，該消毒模組包括至少一塊電路板，所述電路板上設(shè)有若干紫外LED發(fā)光元件，所述紫外LED發(fā)光元件發(fā)射波長范圍為250nm-270nm ；以及一罩設(shè)在該消毒模組外的燈罩。其中，該紫外消毒裝置還包括一用于控制所述紫外LED發(fā)光元件的控制單元。其中，所述紫外LED發(fā)光元件在該電路板上呈均勻分布或不均勻分布。紫外LED 發(fā)光元件在電路板上的布局可根據(jù)水體的流量、流速進(jìn)行調(diào)整，以適應(yīng)不同情況下的消毒需求。其中，該燈罩內(nèi)設(shè)有用于支撐所述電路板的支撐部件，使得電路板在燈罩內(nèi)更為穩(wěn)固。其中，該燈罩的至少一個表面為透光板，使得紫外光能更有效地投射到待消毒的水體中。其中，所述透光板采用石英材料制成的。本發(fā)明還提供了一種二沉池消毒系統(tǒng)，其包括一座具有溢流槽的二沉池，以及一
3與該二沉池連接的控制箱，其特點在于，該二沉池消毒系統(tǒng)還包括所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，所述紫外消毒裝置設(shè)置于該溢流槽中。將紫外消毒裝置整合于二沉池的溢流槽中，從而無需單獨設(shè)置消毒裝置，節(jié)省了消毒系統(tǒng)的占地面積，同時簡化了水處理的過程。其中，所述紫外消毒裝置為兩個或兩個以上；所述紫外消毒裝置的控制單元均容置于該控制箱中。其中，所述紫外消毒裝置固定于該溢流槽的槽底或者槽壁上。本發(fā)明中，上述優(yōu)選條件在符合本領(lǐng)域常識的基礎(chǔ)上可任意組合，即得本發(fā)明各較佳實例。本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于本發(fā)明中的用于二沉池的紫外消毒裝置采用LED發(fā)光元件替代現(xiàn)有技術(shù)中的低壓汞燈，消除了低壓汞燈的可能造成水體污染的安全隱患。本發(fā)明中的二沉池消毒系統(tǒng)，有效地將紫外消毒裝置與二沉池整合在一起，節(jié)省了水體消毒系統(tǒng)的占地空間和建造成本，使傳統(tǒng)的二沉池具備了殺菌功能。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中水體依次流經(jīng)二沉池紫外消毒裝置的消毒過程示意圖。圖2為本發(fā)明中的用于二沉池的紫外消毒裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本發(fā)明中的二沉池消毒系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實施例，以詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。如圖2所示，本發(fā)明中用于二沉池的紫外消毒裝置3包括一個盒式結(jié)構(gòu)的燈罩31， 以及兩組容置在燈罩31內(nèi)的消毒單元，且兩組消毒單元相互平行設(shè)置。每組消毒單元均包括了一塊電路板33，在電路板33相對燈罩31的一側(cè)上均設(shè)有多個以矩陣形式排布紫外LED發(fā)光元件34，且電路板33上的紫外LED發(fā)光元件34為均勻分布。本實施例中的紫外LED發(fā)光元件的反射光的波長為^5nm。該電路板33通過燈罩 31內(nèi)壁上的支撐部件35固設(shè)于燈罩31的內(nèi)部。所述電路板可以鋁板，且兩塊電路板上設(shè)置的紫外LED發(fā)光元件的布局相同。為了使得紫外消毒裝置3具有更佳的消毒殺菌效果，燈罩31上與紫外LED發(fā)光元件34相對的表面，即圖2中的上表面和下表面，均設(shè)有一透光板32，該透光板32采用紫外線穿透率較高的石英材料制成。其中，燈罩31的開口用于裝配和卸除消毒單元。該紫外消毒裝置3還包括一用于控制紫外LED發(fā)光元件34的控制單元36。如圖3所示，本發(fā)明中的二沉池消毒系統(tǒng)包括一座具有環(huán)形溢流槽11的二沉池1。 紫外消毒裝置3均勻分布于該環(huán)形溢流槽11內(nèi)。每個燈罩31均與環(huán)形溢流槽11的側(cè)壁一同形成一個獨立腔室，從而將消毒單元容置于該獨立腔室中。燈罩31的開口與環(huán)形溢流槽11的側(cè)壁之間通過一密封層(圖中未示)密封。此外，也可將紫外消毒裝置3固設(shè)于環(huán)形溢流槽11的池底。本實施例中，每個紫外消毒裝置3的控制單元36均容置于二沉池的控制箱12中。 也將所有紫外消毒裝置3通過一根控制線連接至控制箱12中，由二沉池1的控制箱12對所述紫外消毒裝置3進(jìn)行控制。 雖然以上描述了本發(fā)明的具體實施方式
，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，這些僅是舉例說明，本發(fā)明的保護(hù)范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本發(fā)明的原理和實質(zhì)的前提下，可以對這些實施方式做出多種變更或修改，但這些變更和修改均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，其包括至少一消毒模組，該消毒模組包括至少一塊電路板，所述電路板上設(shè)有若干紫外LED發(fā)光元件，所述紫外LED發(fā)光元件發(fā)射的波長范圍為250nm-270nm ；以及一罩設(shè)在該消毒模組外的燈罩。
2.如權(quán)利要求1所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，該紫外消毒裝置還包括一用于控制所述紫外LED發(fā)光元件的控制單元。
3.如權(quán)利要求1所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，所述紫外LED發(fā)光元件在該電路板上呈均勻分布或不均勻分布。
4.如權(quán)利要求1所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，該燈罩內(nèi)設(shè)有用于支撐所述電路板的支撐部件。
5.如權(quán)利要求1所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，該燈罩的至少一個表面為透光板。
6.如權(quán)利要求5所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，其特征在于，所述透光板采用石英材料制成的。
7.一種二沉池消毒系統(tǒng)，其包括一座具有溢流槽的二沉池，以及一與該二沉池連接的控制箱，其特征在于，該二沉池消毒系統(tǒng)還包括權(quán)利要求1-6中任一項所述的用于二沉池的紫外消毒裝置，所述紫外消毒裝置設(shè)置于該溢流槽中。
8.如權(quán)利要求7所述的二沉池消毒系統(tǒng)，其特征在于，所述紫外消毒裝置為兩個或兩個以上；所述紫外消毒裝置的控制單元均容置于該控制箱中。
9.如權(quán)利要求7所述的二沉池消毒系統(tǒng)，其特征在于，所述紫外消毒裝置固定于該溢流槽的槽底或者槽壁上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于二沉池的紫外消毒裝置和二沉池消毒系統(tǒng)。該用于二沉池的紫外消毒裝置包括至少一消毒模組，該消毒模組包括至少一塊電路板，所述電路板上設(shè)有若干紫外LED發(fā)光元件，所述紫外LED發(fā)光元件發(fā)射的波長范圍為250nm-270nm；以及一罩設(shè)在該消毒模組外的燈罩。本發(fā)明中的用于二沉池的紫外消毒裝置采用LED發(fā)光元件替代現(xiàn)有技術(shù)中的低壓汞燈，消除了低壓汞燈的可能造成水體污染的安全隱患。本發(fā)明中的二沉池消毒系統(tǒng)，有效地將紫外消毒裝置與二沉池整合在一起，節(jié)省了水體消毒系統(tǒng)的占地空間和建造成本，使傳統(tǒng)的二沉池具備了殺菌功能。
文檔編號C02F1/32GK102557184SQ20101062142
公開日2012年7月11日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者溫源, 王培 , 霍洪誼 申請人:上海廣茂達(dá)光藝科技股份有限公司