專利名稱：氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
電鍍是利用電化學(xué)的方法對金屬和非金屬表面進(jìn)行裝飾、防護(hù)及獲取某些新性能的一種工藝過程。以目前應(yīng)用較為廣泛的鍍銅、鍍鎳、鍍鋅、鍍鉻工藝及印刷線路板電鍍工藝為例，其中含有的鉻、銅、鎳等重金屬離子和氰化物等毒性較大，有些屬于致癌、致畸、致突變的劇毒物質(zhì)，對人類及其他生物的生存環(huán)境都造成了極大的危害。公知的氰化物電鍍廢水處理,其主要技術(shù)是于氰化物電鍍廢水中加入樹脂,來為氰化物包覆,之后,再加入再生劑讓氰化物的氰(CN)呈陰離子特性，并使得氰化物重金屬物質(zhì)脫離樹脂，樹脂即可再回收利用交換。如此，先前技術(shù)雖可解決電鍍廢水含有氰化物的問題，但必須另為樹脂的回收，增加廢水的處理成本。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本實用新型提供了一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，尤其是處理過程中所產(chǎn)生適合再利用的液體，被回收再利用，能提升電鍍廢水設(shè)備的處理效率。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:本實用新型提供了一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，至少包含一個一般電鍍廢水設(shè)備和一個氰化物電鍍廢水設(shè)備一般電鍍廢水設(shè)備設(shè)立一個堿化槽，堿化槽以管路分別與氧化劑電解槽及堿液儲存槽連接，堿化槽的后端設(shè)堿化沉淀槽，堿化沉淀槽與一般電解槽連接，一般電解槽與深度電解槽連接，深度電解槽與沉淀槽連接，沉淀槽與凈水儲存槽連接；所述氰化物電鍍廢水設(shè)備設(shè)立一個破氰槽，并以管路連接氧化劑電鍍槽，再將氧化后的產(chǎn)物輸送到氰化物電解槽，氰化物電解槽與堿液儲存槽連接。一般電鍍廢水設(shè)備設(shè)立的堿化槽，借以收集一般電鍍廢水設(shè)備所產(chǎn)生的電鍍廢水，堿化槽以管路分別與氧化劑電解槽及堿液儲存槽連接，得以在堿化槽中加入適量的氧化劑與堿液，以中和堿化槽中的電鍍廢水在pH值為8-9之間，且經(jīng)攪拌中和均勻。所述堿化槽的后端設(shè)堿化沉淀槽，以便為經(jīng)過中和后的重金屬成份得以沉淀降解，且經(jīng)一段適當(dāng)?shù)臅r間后，再將電解廢水輸送到一個一般電解槽中，所述一般電解槽得依據(jù)設(shè)備需求可為單一或一個以上，將前述電鍍廢水進(jìn)行電解吸附處理。之后，再將電解廢水輸送到深度電解槽中，以將水中的重金屬作深度的電解吸附。之后，再將水輸送到沉淀槽中沉淀一段適當(dāng)之時間后，即可將水輸送到過濾槽中過濾水中不帶電的微小離子顆粒，經(jīng)過濾后的水即可放入凈水儲存槽中凈化再利用或排放。氰化物電鍍廢水設(shè)備，將氰化物電鍍廢水抽水至一個破氰槽，并以管路連接氧化齊U電鍍槽，以加 入適當(dāng)比例的氧化劑，經(jīng)適當(dāng)?shù)慕到鈺r間后，再輸送到氰化物電解槽作電解吸附處理。之后，將輸送到堿液儲存槽以為備用，得以配合一般電鍍廢水處理抽至堿化槽中再利用。
如此，本實用新型得以單一設(shè)備同時處理兩種以上的電鍍廢水，并于處理過程中所產(chǎn)生適合再利用的液體，被回收再利用，具有提升電鍍廢水設(shè)備的處理效率，且單一設(shè)備即可產(chǎn)生多重的廢水處理效果，得以簡化設(shè)備，降低投資成本，增高效用。本實用新型的有益效果是:降低投資成本，提升電鍍廢水設(shè)備的處理效率。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。


圖1是本實用新型的氰化物電鍍廢水處理流程圖。圖中1.一般電鍍廢水設(shè)備，2.氰化物電鍍廢水設(shè)備，3.堿化槽，4.氧化劑電解槽，5.堿液儲存槽，6.堿化沉淀槽，7.—般電解槽，8.深度電解槽，9.沉淀槽，10.過濾槽，11.凈水儲存槽，12.破氰槽，13.氰化物電解槽。
具體實施方式
如
圖1所示，本實用新型提供了一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，至少包含一個一般電鍍廢水設(shè)備I和一個氰化物電鍍廢水設(shè)備2。一般電鍍廢水設(shè)備I設(shè)立一個堿化槽3，借以收集一般電鍍廢水設(shè)備I所產(chǎn)生的電鍍廢水，堿化槽3以管路分別與氧化劑電解槽4及堿液儲存槽5連接，得以在堿化槽中加入適量的氧化劑與堿液，以中和堿化槽中的電鍍廢水在PH值為8-9之間，且經(jīng)攪拌中和均勻。所述堿化槽3的后端設(shè)堿化沉淀槽6，以便為經(jīng)過中和后的重金屬成份得以沉淀降解，且經(jīng)一段適當(dāng)?shù)臅r間后，再將電解廢水輸送到一個一般電解槽7中，所 述一般電解槽7得依據(jù)設(shè)備需求可為單一或一個以上，將前述電鍍廢水進(jìn)行電解吸附處理。之后，再將電解廢水輸送到深度電解槽8中，以將水中的重金屬作深度的電解吸附。之后，再將水輸送到沉淀槽9中沉淀一段適當(dāng)之時間后，即可將水輸送到過濾槽10中過濾水中不帶電的微小離子顆粒，經(jīng)過濾后的水即可放入凈水儲存槽11中凈化再利用或排放。氰化物電鍍廢水設(shè)備2，將氰化物電鍍廢水抽水至一個破氰槽12，并以管路連接氧化劑電鍍槽4，以加入適當(dāng)比例的氧化劑，經(jīng)適當(dāng)?shù)慕到鈺r間后，再輸送到氰化物電解槽13作電解吸附處理。之后，將輸送到堿液儲存槽5以為備用，得以配合一般電鍍廢水處理抽至堿化槽中再利用。如此，即可于處理氰化物電鍍廢水的過程中所生的堿液被回收再運(yùn)用于一般電鍍廢水設(shè)備中的電鍍廢水的處理。
權(quán)利要求1.一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，包括一個一般電鍍廢水設(shè)備和一個氰化物電鍍廢水設(shè)備其特征是:所述一般電鍍廢水設(shè)備設(shè)立一個堿化槽，堿化槽以管路分別與氧化劑電解槽及堿液儲存槽連接，堿化槽的后端設(shè)堿化沉淀槽，堿化沉淀槽與一般電解槽連接，一般電解槽與深度電解槽連接，深度電解槽與沉淀槽連接，沉淀槽與凈水儲存槽連接；所述氰化物電鍍廢水設(shè)備設(shè)立一個破氰槽，并以管路連接氧化劑電鍍槽，再將氧化后的產(chǎn)物輸送到氰化物電解槽，氰化物電解槽與堿液儲存槽連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，其特征是:所述一般電解槽得依據(jù)設(shè)備需求可為單一或一個以上`。
專利摘要本實用新型提供了一種氰化物電鍍廢水處理系統(tǒng)，至少包含一個一般電鍍廢水設(shè)備和一個氰化物電鍍廢水設(shè)備。氰化物電鍍廢水設(shè)備，將氰化物電鍍廢水抽水至一個破氰槽，并以管路連接氧化劑電鍍槽，以加入適當(dāng)比例的氧化劑，經(jīng)適當(dāng)?shù)慕到鈺r間后，再輸送到氰化物電解槽作電解吸附處理。之后，將輸送到堿液儲存槽以為備用，得以配合一般電鍍廢水處理抽至一般電鍍廢水設(shè)備中的堿化槽中再利用。如此，本實用新型得以單一設(shè)備同時處理兩種以上的電鍍廢水，并于處理過程中所產(chǎn)生適合再利用的液體，被回收再利用，具有提升電鍍廢水設(shè)備的處理效率，且單一設(shè)備即可產(chǎn)生多重的廢水處理效果，得以簡化設(shè)備，降低投資成本，增高效用。
文檔編號C02F101/18GK203144225SQ20132016230
公開日2013年8月21日 申請日期2013年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月3日
發(fā)明者朱琳琳 申請人:朱琳琳