新型除垢器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種新型除垢器，包括外管、穿插在外管內(nèi)的內(nèi)管；所述內(nèi)管的兩端均從外管穿出；所述外管的管壁與內(nèi)管的外壁之間形成一密閉空腔，該密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體；該密閉空腔內(nèi)還設(shè)置有磁化組件；所述磁化組件包括至少一對永磁塊，每對永磁塊均以異性磁極相對的方式布置在內(nèi)管的兩側(cè)。本實(shí)用新型的新型除垢器能起到良好的防垢除垢作用，且在除垢過程中，無需添加化學(xué)液，可避免化學(xué)液對環(huán)境的污染；而通過在密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體，可使永磁塊不氧化、不磁化，延長其使用壽命。
【專利說明】新型除垢器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種新型除垢器。
【背景技術(shù)】
[0002]由于原水中的鈣離子和鎂離子容易粘附聚集結(jié)成垢質(zhì)，而熱泵等設(shè)備經(jīng)長時(shí)間使用后，設(shè)備的管壁會結(jié)有一層垢質(zhì)，而垢質(zhì)的存在容易使水質(zhì)發(fā)黃，并影響設(shè)備的使用壽命。目前，一般都是利用化學(xué)液進(jìn)行除垢，但這種方法容易造成環(huán)境污染，且其防垢效果也不甚理想。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種防垢除垢效果好、且環(huán)保無污染的新型除垢器。
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:
[0005]新型除垢器，包括外管、穿插在外管內(nèi)的內(nèi)管；所述內(nèi)管的兩端均從外管穿出；所述外管的管壁與內(nèi)管的外壁之間形成一密閉空腔，該密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體；該密閉空腔內(nèi)還設(shè)置有磁化組件；所述磁化組件包括至少一對永磁塊，每對永磁塊均以異性磁極相對的方式布置在內(nèi)管的兩側(cè)。
[0006]該密閉空腔內(nèi)設(shè)置有至少兩組磁化組件，所有的磁化組件沿內(nèi)管軸向依次排布。
[0007]該內(nèi)管上 固定安裝有安裝架，所述安裝架的個(gè)數(shù)與磁化組件的個(gè)數(shù)相匹配，并--對應(yīng)；磁化組件上的各個(gè)永磁塊分別安裝在對應(yīng)的安裝架上的各個(gè)容納腔內(nèi)。
[0008]所述安裝架為一格架，所述格架的中部設(shè)有供內(nèi)管穿過的穿孔，且格架上還設(shè)有位于穿孔周圍的框格；各個(gè)容納腔分別位于格架的各個(gè)框格內(nèi)。
[0009]所述磁化組件包括一對永磁塊。
[0010]所述磁化組件包括兩對永磁塊,該兩對永磁塊的排布方向相互垂直。
[0011]永磁塊為釹鐵硼稀土永磁塊。
[0012]內(nèi)管的兩端均設(shè)有外螺紋。
[0013]新型除垢器還包括位于外管內(nèi)并罩在所有磁化組件外的磁屏蔽罩。
[0014]所述磁屏蔽罩為由鋁箔圈繞而成的鋁箔卷圈。
[0015]相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果在于:
[0016]本實(shí)用新型通過在密閉空腔內(nèi)排布有永磁塊，可利用永磁塊產(chǎn)生的磁場，對流經(jīng)內(nèi)管的水進(jìn)行軟化處理，使內(nèi)管的水中的鎂離子、鈣離子的相互粘附與聚積特性受到了破壞，變成不能相互結(jié)合的分子，從而有效地防止水垢的生成，以起到良好的防垢作用，并且，經(jīng)磁場處理過的水分子極性增強(qiáng)，對水垢的滲透力增強(qiáng)，破壞了水垢與管壁之間的結(jié)合力，從而使水垢脫落，以達(dá)到良好的除垢作用；而且，本實(shí)用新型在除垢過程中，無需添加化學(xué)液，可避免化學(xué)液對環(huán)境的污染；而通過在密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體，可使永磁塊不氧化、不磁化，延長其使用壽命?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2為本實(shí)用新型的半剖視圖；
[0019]圖3為圖2中的磁屏蔽罩的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖4為本實(shí)用新型的另一種新型除垢器的半剖視圖；
[0021]其中，1、外管；2、內(nèi)管；21、外螺紋；3、磁化組件；31、永磁塊；4、安裝架；5、磁屏蔽罩。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面，結(jié)合附圖以及【具體實(shí)施方式】，對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述，以便于更清楚的理解本實(shí)用新型所要求保護(hù)的技術(shù)思路。
[0023]如圖1、2、3所示，為本實(shí)用新型一種新型除垢器，包括外管1、穿插在外管I內(nèi)且其兩端均從外管I穿出的內(nèi)管2 ;所述內(nèi)管2的兩端均設(shè)有外螺紋21 ;所述外管I的管壁與內(nèi)管2的外壁之間形成一密閉空腔，該密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體；該密閉空腔內(nèi)還設(shè)置有磁化組件3 ;所述磁化組件3包括至少一對永磁塊31，每對永磁塊31均以異性磁極相對的方式布置在內(nèi)管2的兩側(cè)，也就是，每對永磁塊31中的兩個(gè)永磁塊31分別排布在內(nèi)管2的兩側(cè),且其中一個(gè)永磁塊31的N極和另一永磁塊31的S極相對。優(yōu)選的，永磁塊31為釹鐵硼稀土永磁塊。該密閉空腔內(nèi)設(shè)置有至少兩組磁化組件3，所有的磁化組件3沿內(nèi)管2軸向依次排布。
[0024]優(yōu)選的，該內(nèi)管2上固定安裝有安裝架4，所述安裝架4的個(gè)數(shù)與磁化組件3的個(gè)數(shù)相匹配，并一一對應(yīng)；磁化組件3上的各個(gè)永磁塊31分別安裝在對應(yīng)的安裝架4的各個(gè)容納腔內(nèi)。而具體的，所述安裝架4為一格架，所述格架的中部設(shè)有供內(nèi)管2穿過的穿孔，且格架上還設(shè)有位于穿孔周圍的框格；各個(gè)容納腔分別位于格架的各個(gè)框格內(nèi)。
[0025]如圖1、2所示，所述磁化組件3包括一對永磁塊31。而此時(shí)，每個(gè)安裝架4上設(shè)置有兩個(gè)容納腔，以便于對應(yīng)磁化組件3上的兩個(gè)永磁塊31。
[0026]當(dāng)然，所述磁化組件3上的永磁塊31的數(shù)量并不僅限于一對，還可以設(shè)置為兩對或者兩對以上。例如，可如圖4所示，所述磁化組件3包括兩對永磁塊31，該兩對永磁塊31的排布方向相互垂直。而此時(shí)，每個(gè)安裝架4上均設(shè)置有四個(gè)容納腔，以便于對應(yīng)磁化組件3上的四個(gè)永磁塊31。
[0027]如圖2、3所示，該新型除垢器還包括位于外管I內(nèi)并罩在所有磁化組件3外的磁屏蔽罩5。優(yōu)選的，所述磁屏蔽罩5為由鋁箔圈繞而成的鋁箔卷圈。
[0028]在使用過程中，將新型除垢器安裝在熱泵等設(shè)備的進(jìn)水管路上，而由于密閉空腔內(nèi)排布有永磁塊31，通過利用永磁塊31產(chǎn)生的磁場，可對流經(jīng)內(nèi)管2的水進(jìn)行軟化處理，并使水中的鎂離子、鈣離子在形成水垢過程中的針狀結(jié)晶改變?yōu)轭w粒結(jié)晶體，而內(nèi)管2的水中的鎂離子、鈣離子的相互粘附與聚積特性受到了破壞，變成不能相互結(jié)合的分子，從而有效地防止水垢的生成，以起到良好的防垢作用，并且，經(jīng)磁場處理過的水分子極性增強(qiáng)，對水垢的滲透力增強(qiáng)，破壞了水垢與管壁之間的結(jié)合力，從而使設(shè)備原有的水垢脫落，以達(dá)到良好的除垢作用；本實(shí)用新型在除垢過程中，無需添加化學(xué)液，可避免化學(xué)液對環(huán)境的污染；而通過在密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體，可使永磁塊31不氧化、不磁化，延長其使用壽命。
[0029]上述實(shí)施方式僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，不能以此來限定本實(shí)用新型保護(hù)的范圍，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的基礎(chǔ)上所做的任何非實(shí)質(zhì)性的變化及替換均屬于本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍。
【權(quán)利要求】
1.新型除垢器，其特征在于:包括外管、穿插在外管內(nèi)的內(nèi)管；所述內(nèi)管的兩端均從外管穿出；所述外管的管壁與內(nèi)管的外壁之間形成一密閉空腔，該密閉空腔內(nèi)填充有惰性氣體；該密閉空腔內(nèi)還設(shè)置有磁化組件；所述磁化組件包括至少一對永磁塊，每對永磁塊均以異性磁極相對的方式布置在內(nèi)管的兩側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:該密閉空腔內(nèi)設(shè)置有至少兩組磁化組件，所有的磁化組件沿內(nèi)管軸向依次排布。
3.如權(quán)利要求1或2所述的新型除垢器，其特征在于:該內(nèi)管上固定有安裝架，所述安裝架的個(gè)數(shù)與磁化組件的個(gè)數(shù)相匹配，并一一對應(yīng)；磁化組件上的各個(gè)永磁塊分別安裝在對應(yīng)的安裝架上的各個(gè)容納腔內(nèi)。
4.如權(quán)利要求3所述的新型除垢器，其特征在于:所述安裝架為一格架，所述格架的中部設(shè)有供內(nèi)管穿過的穿孔，且格架上還設(shè)有位于穿孔周圍的框格；各個(gè)容納腔分別位于格架的各個(gè)框格內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:所述磁化組件包括一對永磁塊。
6.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:所述磁化組件包括兩對永磁塊，該兩對永磁塊的排布方向相互垂直。
7.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:永磁塊為釹鐵硼稀土永磁塊。
8.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:內(nèi)管的兩端均設(shè)有外螺紋。
9.如權(quán)利要求1所述的新型除垢器，其特征在于:新型除垢器還包括位于外管內(nèi)并罩在所有磁化組件外的磁屏蔽罩。
10.如權(quán)利要求9所述的新型除垢器，其特征在于:所述磁屏蔽罩為由鋁箔圈繞而成的鋁箔卷圈。
【文檔編號】C02F5/00GK203461887SQ201320613640
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】吳強(qiáng) 申請人:吳強(qiáng)