含有氰的溶液的處理設(shè)備及處理方法、以及利用該方法的減少氰離子的溶液的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種相對(duì)于含有氰離子的溶液，組合有硫氰化處理和由此產(chǎn)生的多硫化物及/或硫化物的有效處理的方法及設(shè)備。一種溶液處理設(shè)備，其具備：(1)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的裝置、及，(2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的裝置。
【專利說明】含有氰的溶液的處理設(shè)備及處理方法、以及利用該方法的減少氰離子的溶液的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種含有氰的溶液的處理設(shè)備及處理方法、以及利用該方法的減少氰離子的溶液的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]作為降低廢液中的氰離子的方法，已知有各種方法，但也伴有缺點(diǎn)。
[0003]例如，在堿氯法的情況下，需要在廢液中添加次氯酸鹽，氯濃度上升，因此，根據(jù)廢液的種類而限定裝置的材質(zhì)，需要高價(jià)的材料。另外，需要根據(jù)廢液的組成而調(diào)節(jié)反應(yīng)條件，在氰以外的成分濃度高的廢液的情況下，非常難以調(diào)節(jié)。
[0004]另外，在臭氧分解法的情況，在廢液中的氰以外的可氧化性成分的濃度高的情況下，不能充分地得到處理效果。
[0005]在蒸餾法的情況，在廢液中含有溶解物的情況下，如果不使用特殊的蒸餾裝置，則通過蒸發(fā)干固而裝置閉塞，陷入運(yùn)轉(zhuǎn)困難。另外，用于蒸發(fā)的能量消耗多。
[0006]在燃燒法的情況，在廢液中含有灰分的情況下，需要用于產(chǎn)生的灰的處理的特殊的大型的燃燒爐。另外，為了燃燒而消耗非常大的能量。
[0007]另一方面，作為降低廢液中的氰離子的方法，也已知有使廢液中的氰離子與四硫化鈉等多硫化物反應(yīng)而變?yōu)闆]有毒性的硫氰(硫氰酸)離子的硫氰化處理。
[0008]在該硫氰化處理中，例如，利用以下的反應(yīng)式:
[0009]CN — +Na2S4 — SCN — +Na2S3
[0010]等，將氰離子變?yōu)榱蚯桦x子。上述的反應(yīng)式對(duì)作為多硫化物使用四硫化鈉的情況進(jìn)行了例示，但使用有其它多硫化物的情況也同樣地發(fā)生反應(yīng)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]發(fā)明所要解決的課題
[0012]但是，按照上述的反應(yīng)，為了除去廢液中的氰離子，需要過量地投入四硫化鈉等多硫化物。另外，在氰離子的濃度變動(dòng)、立即測(cè)量該濃度困難的情況下，需要與其最大值對(duì)應(yīng)地投入四硫化鈉等多硫化物。
[0013]其結(jié)果，在進(jìn)行了硫氰化處理的廢液中，不可避免產(chǎn)生剩余成分的多硫化物。
[0014]多硫化物利用以下的反應(yīng)式:
[0015]Na2S4 — 2Na++S4 — —
[0016]S4—— — S——+3S
[0017]等，分解為硫化物和硫，伴有來自產(chǎn)生的硫化物的硫化氫臭。上述的反應(yīng)式對(duì)作為多硫化物使用四硫化鈉的情況進(jìn)行了例示，但使用有其它多硫化物的情況也同樣地發(fā)生反應(yīng)。
[0018]由這樣產(chǎn)生的多硫化物、硫化物，伴隨pH的變化等，通過以下的反應(yīng)式:
[0019]S——+H+ —HS —
[0020]HS — +H+ — H2S
[0021]，產(chǎn)生硫化氫氣體。
[0022]因此，在硫氰化處理后產(chǎn)生的多硫化物、通過多硫化物的分解而產(chǎn)生的硫化物為伴有臭氣的有害物質(zhì)，因此，需要快速地除去這些多硫化物、硫化物，但目前在不伴隨有毒的氣體、或含有金屬的淤泥的產(chǎn)生的情況下，還沒有發(fā)現(xiàn)除去在硫氰化處理后產(chǎn)生的多硫化物、硫化物的方法。因此，僅憑硫氰化還不能完成氰的處理。
[0023]因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種相對(duì)于含有氰離子的溶液、組合硫氰化處理和由此產(chǎn)生的多硫化物及硫化物的有效處理的方法及設(shè)備。
[0024]用于解決課題的技術(shù)方案
[0025]本發(fā)明人反復(fù)進(jìn)行了潛心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過組合硫氰化處理和在該處理后、在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的操作，可以簡(jiǎn)便地降低氰離子，也有效地減少殘存的多硫化物及硫化物。本發(fā)明是基于這樣的見解進(jìn)一步反復(fù)進(jìn)行研究而完成的發(fā)明。即，本發(fā)明包含以下的構(gòu)成。
[0026]項(xiàng)1.一種溶液處理設(shè)備，其具備:(I)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的裝置、及
[0027](2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的裝置。
[0028]項(xiàng)2.如項(xiàng)I所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述含有氰離子的溶液為工業(yè)廢液。
[0029]項(xiàng)3.如項(xiàng)I或2所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述氧化還原催化劑為苦味酸和/或醌。
[0030]項(xiàng)4.如項(xiàng)I?3中任一項(xiàng)所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述含有氰離子的溶液為經(jīng)過了添加所述氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液，且所述裝置(2)不具有另行添加所述氧化還原催化劑的裝置。
[0031]項(xiàng)5.如項(xiàng)I?4中任一項(xiàng)所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述裝置(I)具備測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A，且利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置。
[0032]項(xiàng)6.如項(xiàng)I?5中任一項(xiàng)所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述裝置(2)具備測(cè)定添加所述多硫化物之后的溶液的氧化還原電位B，且利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置。
[0033]項(xiàng)7.如項(xiàng)6所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述裝置⑴具備一邊測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A，一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置，且
[0034]所述裝置(2)具備以將相對(duì)于由所述裝置(I)調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾、供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式，在控制電路上設(shè)置限制而調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置。
[0035]項(xiàng)8.如項(xiàng)I?7中任一項(xiàng)所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述裝置(2)具備將添加所述多硫化物之后的溶液和含有氧的氣體預(yù)先混合、且由預(yù)混合噴嘴劇烈地噴出的裝置。
[0036]項(xiàng)9.一種減少氰離子的溶液的處理方法，其具備:(I)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的工序、及
[0037](2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的工序。
[0038]項(xiàng)10.如項(xiàng)9所述的處理方法，其中，所述含有氰離子的溶液為工業(yè)廢液。
[0039]項(xiàng)11.如項(xiàng)9或10所述的處理方法，其中，所述氧化還原催化劑為苦味酸和/或醌。
[0040]項(xiàng)12.如項(xiàng)9?11中任一項(xiàng)所述的處理方法，其中，所述含有氰離子的溶液為經(jīng)過了添加所述氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液，且在工序(2)中不另行添加所述氧化還原催化劑。
[0041]項(xiàng)13.如項(xiàng)9?12中任一項(xiàng)所述的處理方法，其中，在所述工序(I)中,測(cè)定所述溶液的氧化還原電位A，且利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量。
[0042]項(xiàng)14.如項(xiàng)9?13中任一項(xiàng)所述的處理方法，其中，在所述工序(2)中，測(cè)定所述溶液的氧化還原電位B，且利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量。
[0043]項(xiàng)15.如項(xiàng)14所述的溶液處理設(shè)備，其中，所述工序(I) 一邊測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A，一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量，且
[0044]所述工序⑵以將相對(duì)于由所述工序⑴調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾、供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式，在控制電路上設(shè)置限制而含有調(diào)節(jié)氧的氣體的流量。
[0045]項(xiàng)16.如項(xiàng)9?15中任一項(xiàng)所述的處理方法，其中，在所述工序(2)中，將所述溶液和含有氧的氣體預(yù)先混合并劇烈地噴出。
[0046]根據(jù)本發(fā)明，可以簡(jiǎn)便地降低含有氰的溶液中的氰離子，有效地降低通過硫氰化處理而產(chǎn)生的多硫化物及硫化物。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0047]圖1是表示本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0048]圖2是表示使用循環(huán)攪拌泵的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0049]圖3是表示使用靜態(tài)混合器的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0050]圖4是表示一邊測(cè)定硫氰化中的溶液的氧化還原電位A、一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0051]圖5是表示使用預(yù)混合噴嘴的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0052]圖6是表示一邊測(cè)定經(jīng)過了硫氰化的原料溶液的氧化處理中的氧化還原電位B、一邊利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。
[0053]圖7是表示一邊測(cè)定硫氰化中的溶液的氧化還原電位A、一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置、和一邊測(cè)定經(jīng)過了硫氰化的原料溶液的氧化處理中的氧化還原電位B、一邊利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量、同時(shí)以將相對(duì)于所述調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式，在控制電路上設(shè)有限制的本發(fā)明的溶液處理設(shè)備的概略圖。

【具體實(shí)施方式】
[0054]本發(fā)明的溶液處理設(shè)備具備:
[0055](I)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的裝置、及
[0056](2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的裝置。
[0057]作為這種本發(fā)明的溶液處理設(shè)備，可列舉例如圖1所示的溶液處理設(shè)備等。
[0058]1.裝置(I)
[0059]<含有氰離子的溶液>
[0060]作為在本發(fā)明的溶液處理設(shè)備中進(jìn)行處理的“含有氰離子的溶液”(以下，有時(shí)稱為“原料溶液”)，通常由于氰離子的濃度超過lmg/L時(shí)不能放流，因此，3.8X 10 — 5mol/L以上的含有氰離子的溶液為典型的對(duì)象。
[0061]作為這種原料溶液，通常為工業(yè)廢液，具體而言，可列舉例如將含有氰化氫的燃料氣體進(jìn)行了處理的工業(yè)廢液。其中，若使用經(jīng)過了在燃料氣體中不僅含有氰化氫、而且也含有硫化氫的情況下實(shí)施的添加氧化還原催化劑的脫硫處理的工業(yè)廢液，則可以不設(shè)置另行添加氧化還原催化劑的裝置，在這一點(diǎn)上為優(yōu)選。
[0062]予以說明，在燃料氣體中不僅含有氰化氫、也含有硫化氫的情況下實(shí)施的使用氧化還原催化劑的脫硫處理可列舉例以下工藝:使在碳酸鈉水溶液、氫氧化鈉、氨性堿水溶液等中溶解有微量的苦味酸或醌等氧化還原催化劑的溶液在吸收塔中循環(huán)而吸收硫化氫，將其送入再生塔，通過作為苦味酸或醌等氧化還原催化劑的催化劑作用將硫化氫進(jìn)行空氣氧化，作為硫或水溶性的鹽除去。
[0063]〈多硫化物〉
[0064]就多硫化物的種類而言，只要是水溶性良好、不含有重金屬、且在一分子中以鏈狀鍵合2個(gè)以上的硫原子的化合物，就沒有特別限制，可列舉二硫化物?五硫化物等，例如可列舉作為溶液工業(yè)上容易得到的三硫化鈉或四硫化鈉、可以以固體得到的二硫化鈉等。另夕卜，不僅限定于鈉鹽，可以為三硫化鈣、四硫化鈣、二硫化鈣等鈣鹽、三硫化鉀、四硫化鉀、二硫化鉀等鉀鹽、三硫化銨、四硫化銨、二硫化銨等銨鹽。另外，也可以為它們的混合物。
[0065]相對(duì)于氰I摩爾，多硫化物的添加量設(shè)為0.3?5摩爾(特別是四硫化鈉的情況下，為0.3?3摩爾，三硫化鈉的情況下，為0.5?5摩爾)，原料溶液中的氰離子的濃度變動(dòng)的情況下，優(yōu)選根據(jù)其最大濃度調(diào)節(jié)添加量。但是，難以避免剩余的多硫化物、硫化物殘存。
[0066]< 其它 >
[0067]裝置(I)優(yōu)選具備將原料溶液和多硫化物進(jìn)行混合攪拌的裝置。由此，可以更可靠地除去原料溶液中的氰離子，變換為硫氰離子。
[0068]作為混合攪拌裝置，沒有特別限制，使用攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌的裝置(圖1)、使用循環(huán)攪拌泵在攪拌槽中進(jìn)行攪拌的裝置(圖2)、使用靜態(tài)混合器的裝置(圖3)等都可以。
[0069]另外，裝置(I)更優(yōu)選具備一邊測(cè)定因在原料溶液的硫氰化反應(yīng)后殘存的多硫化物、硫化物的還原性而降低的氧化還原電位A，一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置(圖4)。添加量的調(diào)節(jié)可以串級(jí)控制添加流量而進(jìn)行，也可以直接控制調(diào)節(jié)閥而進(jìn)行。由此，可以抑制在需要量以上添加多硫化物。
[0070]通過具備上述說明的裝置(I)，可以將原料溶液中的氰離子變換為硫氰離子。即，可以實(shí)行本發(fā)明的制造方法或處理方法中的工序(I)。
[0071]2.裝置(2)
[0072]通過上述的硫氰化，可以降低原料溶液中的氰離子，但由于來自使用的多硫化物的多硫化物離子和/或硫化物離子殘存，因此，如果不與將其降低的裝置組合，則實(shí)用上殘留問題。因此，本發(fā)明的溶液處理設(shè)備具備上述的裝置(2)。通過該處理，可以將多硫化物及/或硫化物變?yōu)闊o害的單體硫。
[0073]<氧化還原催化劑>
[0074]作為氧化還原催化劑，可以用于燃料氣體的脫硫的氧化還原催化劑即可。S卩，只要是清洗燃料氣體、使硫化氫利用含有氧的氣體進(jìn)行氧化的氧化還原催化劑，就可以應(yīng)用于該用途，優(yōu)選苦味酸、醌、它們的衍生物等。這些氧化還原催化劑可以單獨(dú)使用I種，也可以組合使用兩種以上。
[0075]予以說明，在原料溶液為經(jīng)過了添加氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液的情況下，可以直接使用在原料溶液中已經(jīng)含有的氧化還原催化劑。因此，在該情況下，優(yōu)選不另行添加氧化還原催化劑。
[0076]在另行添加氧化還原催化劑的情況下，氧化還原催化劑的添加量以使用苦味酸的情況為例時(shí)，以經(jīng)過了硫氰化的原料溶液中所含的多硫化物離子及硫化物離子的離子換算計(jì)，相對(duì)于合計(jì)I摩爾優(yōu)選設(shè)為0.002?0.3摩爾左右。通過設(shè)為該范圍的量，能夠更可靠地降低多硫化物離子及硫化物離子，也可以抑制惡臭。予以說明，在原料溶液為來自使用氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液的情況下，通常含有上述范圍的添加量的氧化還原催化劑。
[0077]<含有氧的氣體>
[0078]作為含有氧的氣體，只要不含有有害物質(zhì)，就沒有特別限制，優(yōu)選含有氧20摩爾％以上的氣體。作為這種含有氧的氣體，優(yōu)選為空氣、氧富化空氣等。
[0079]就吹入該含有氧的氣體時(shí)的流量而言，相對(duì)于以殘存多硫化物及硫化物的硫換算計(jì)的每I摩爾，氧的量?jī)?yōu)選為0.5?200摩爾左右，更優(yōu)選為2?10摩爾左右。
[0080]另外，就吹入含有氧的氣體的時(shí)間而言，只要在上述的氧化還原催化劑的存在下可以氧化除去經(jīng)過了硫氰化的原料溶液中的多硫化物離子及硫化物離子，就沒有特別限制，優(yōu)選為10分鐘?10小時(shí)左右。
[0081]< 其它 >
[0082]可以在經(jīng)過硫氰化之前或經(jīng)過硫氰化后的原料溶液中另行添加氧化還原催化劑，如上所述，在經(jīng)過了硫氰化的原料溶液中含有氧化還原催化劑的情況下，也可以不另行添加。
[0083]另外，作為吹入含有氧的氣體的裝置，沒有特別限制。
[0084]例如，既可以為向氣泡塔或氣泡攪拌槽吹入含有氧的氣體的裝置(圖1等)，也可以為一邊用循環(huán)攪拌泵進(jìn)行攪拌，一邊向氣泡攪拌層吹入含有氧的氣體的裝置(圖2)。另夕卜，將經(jīng)過了硫氰化的原料溶液和含有氧的氣體使用例如預(yù)混合噴嘴等預(yù)先混合并劇烈地噴出(圖5)時(shí)，與僅吹入的情況相比，促進(jìn)氣液的接觸效果，因此優(yōu)選。特別是在因設(shè)置場(chǎng)所的限制等而不能設(shè)置大型設(shè)備的情況下，優(yōu)選為小型，該情況下，優(yōu)選一邊用循環(huán)攪拌泵進(jìn)行攪拌，一邊向氣泡攪拌層吹入含有氧的氣體的裝置，將經(jīng)過了硫氰化的原料溶液和含有氧的氣體使用預(yù)混合噴嘴等而預(yù)先混合并劇烈地噴出的裝置等。
[0085]在另行添加氧化還原催化劑的情況下，裝置(2)更優(yōu)選具備通過一邊測(cè)定經(jīng)過了硫氰化的原料溶液的氧化而上升的氧化還原電位B、一邊利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置(圖6)。氣體的流量的調(diào)節(jié)可以串級(jí)控制氣體的流量，也可以直接控制調(diào)節(jié)閥而進(jìn)行。由此，可以吹入更適當(dāng)?shù)牧髁康暮醒醯臍怏w。
[0086]進(jìn)而，裝置(2)更優(yōu)選具備以將相對(duì)于由裝置(I)調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式在控制電路上設(shè)置限制而調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置(圖7)。由此，可以更適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)含有氧的氣體的供給量，即使裝置(I)中的多硫化物的添加量發(fā)生變動(dòng)，也可以更有效地抑制氧的顯著的不足、其附隨的處理的惡化。
[0087]通過具備上述說明的裝置(2)，可以降低經(jīng)過了硫氰化的原料溶液中的多硫化物離子及硫化物離子，也可以抑制惡臭。即，可以實(shí)行本發(fā)明的制造方法或處理方法中的工序⑵。
[0088]這樣，根據(jù)本發(fā)明，可以從含有氰離子的溶液出發(fā)，在一邊抑制多硫化物及/或硫化物的殘留、一邊防止臭氣產(chǎn)生的情況下，簡(jiǎn)便地降低氰離子。另外，含有水分和氰化氫的氣體大多因溫度的變化等而產(chǎn)生冷凝水，但通過將該氣體的輸送管道等中產(chǎn)生的冷凝水中所含的氰化氫用本發(fā)明的溶液處理設(shè)備、溶液處理方法進(jìn)行處理之后、用生物處理等進(jìn)行處理，可以抑制中毒、臭氣。
[0089]予以說明，在上述的裝置(2)中，取代使用有氧化還原催化劑的氧化除去，可列舉各種能夠除去多硫化物及/或硫化物的方法，但采用酸分解法時(shí)，存在下述等缺點(diǎn):為了設(shè)為酸性仍然消耗的大量的酸和為了其后的中和仍然消耗大量的堿，伴隨有害的硫化氫氣體的產(chǎn)生，隨著原料溶液中所含的氰離子以外的成分不同、同時(shí)分解而有時(shí)產(chǎn)生其它的有毒氣體和/或沉淀物。
[0090]另外，在采用金屬鹽的沉淀分離法的情況下，存在伴有含有金屬的有害的淤泥的廣生等缺點(diǎn)。
[0091]在本發(fā)明中，沒有如上所述的缺點(diǎn)，可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行處理。特別是可以不引起有毒氣體的產(chǎn)生或有害的淤泥的產(chǎn)生而簡(jiǎn)便地除去原料溶液中的氰離子。
[0092]【實(shí)施例】
[0093]基于實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明具體地進(jìn)行說明，但本發(fā)明并不僅限定于這些實(shí)施例。
[0094][實(shí)施例1]
[0095]硫氰化工序
[0096]在含有氰化鈉(NaCN) 1037mg/L的模型廢液10mL中投入作為多硫化物的30重量％的四硫化鈉水溶液0.47mL(相對(duì)于氰離子的摩爾比率:0.5)。
[0097]其結(jié)果，硫氰化工序后的氰化鈉的濃度大大降低至0.08mg/L。
[0098]催化劑氧化工序
[0099]將為含有氰化鈉的來自脫硫工序的廢液、且在該廢液中含有作為氧化還原催化劑的苦味酸約0.0003mol/L的溶液用與上述同樣的方法進(jìn)行硫氰化處理。
[0100]硫氰化工序后的硫化物離子的濃度(多硫化物離子及硫化物離子的合計(jì))為691mg/L。
[0101]在通氣瓶中采集經(jīng)過了硫氰化工序的廢液，不實(shí)施中和等處理，在空氣中以20L/h的流量曝氣30分鐘，除去多硫化物離子及硫化物離子。其結(jié)果，硫化物離子的濃度大大降低至 188mg/L。
[0102][實(shí)施例2]
[0103]在硫氰化工序中，除將四硫化鈉水溶液的投入量設(shè)為0.70當(dāng)量mL之外，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行。其結(jié)果，硫氰化工序后的氰化鈉的濃度與實(shí)施例1同樣，大大降低至0.0Smg/L。其它的結(jié)果也與實(shí)施例1同樣。
[0104][比較例I]
[0105]將對(duì)實(shí)施例1中使用的模型廢液不實(shí)施任何處理的物質(zhì)設(shè)為比較例I。
[0106][比較例2]
[0107]在實(shí)施例1中，取代催化劑氧化工序，進(jìn)行添加硫酸而進(jìn)行的中和和硫化物的分解(生成的硫化氫另行進(jìn)行處理)，結(jié)果，通過中和導(dǎo)致的碳酸氫鈉的析出，引起熱交換器、計(jì)量?jī)x器等閉塞。
【權(quán)利要求】
1.一種溶液處理設(shè)備，其具備: (1)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的裝置、以及 (2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述含有氰離子的溶液為工業(yè)廢液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述氧化還原催化劑為苦味酸和/或醌。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述含有氰離子的溶液為經(jīng)過了添加所述氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液，且所述裝置(2)不具有另行添加所述氧化還原催化劑的裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述裝置(I)具備測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A、且利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述裝置(2)具備測(cè)定添加所述多硫化物之后的溶液的氧化還原電位B、且利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述裝置(I)具備一邊測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A，一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量的裝置，并且， 所述裝置(2)具備以將相對(duì)于由所述裝置(I)調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式，在控制電路上設(shè)置限制而調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量的裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的溶液處理設(shè)備，其中， 所述裝置(2)具備將添加了所述多硫化物之后的溶液和含有氧的氣體預(yù)先混合，并且由預(yù)混合噴嘴劇烈地噴出的裝置。
9.一種減少氰離子的溶液的處理方法，其具備: (1)在含有氰離子的溶液中添加多硫化物的工序、及 (2)其后，在氧化還原催化劑的存在下吹入含有氧的氣體的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理方法，其中， 所述含有氰離子的溶液為工業(yè)廢液。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的處理方法，其中， 所述氧化還原催化劑為苦味酸和/或醌。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的處理方法，其中， 所述含有氰離子的溶液為經(jīng)過了添加所述氧化還原催化劑的脫硫工序的工業(yè)廢液，且在工序(2)中不另行添加所述氧化還原催化劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的處理方法，其中， 在所述工序(I)中，測(cè)定所述溶液的氧化還原電位A，且利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量。
14.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的處理方法，其中， 在所述工序(2)中，測(cè)定所述溶液的氧化還原電位B，且利用該氧化還原電位B調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理方法，其中， 所述工序(I) 一邊測(cè)定所述含有氰離子的溶液的氧化還原電位A，一邊利用該氧化還原電位A調(diào)節(jié)多硫化物的添加量，且， 所述工序(2)以將相對(duì)于由所述工序(I)調(diào)節(jié)的多硫化物的添加量I摩爾供給0.5摩爾的氧的含有氧的氣體的流量設(shè)為最低值的方式，在控制電路上設(shè)置限制而調(diào)節(jié)含有氧的氣體的流量。
16.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的處理方法，其中， 在所述工序(2)中，將所述溶液和含有氧的氣體預(yù)先混合并劇烈地噴出。
【文檔編號(hào)】C02F9/04GK104418449SQ201410409609
【公開日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2014年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月3日
【發(fā)明者】島津清孝 申請(qǐng)人:大阪瓦斯工程株式會(huì)社