一種電化學(xué)水垢去除裝置制造方法
【專利摘要】本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N電化學(xué)水垢去除裝置，包括用于電化學(xué)水處理的水垢晶核生成單元；所述水垢晶核生成單元包括槽體；所述槽體的底部設(shè)有進(jìn)水口和排污口；所述槽體的頂端設(shè)有出水口；設(shè)置于所述槽體的內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)陰極；設(shè)置于所述槽體的內(nèi)部的陽極。在本申請(qǐng)中，在旋轉(zhuǎn)陰極附近，水溶液電解產(chǎn)生OH-，在旋轉(zhuǎn)陰極附近界面層獲得pH值高達(dá)14的堿性溶液，旋轉(zhuǎn)電極將電化學(xué)過程中旋轉(zhuǎn)陰極表面上和界面層中形成的水垢晶核擴(kuò)散到溶液中，大量的晶核為溶液中的結(jié)垢離子提供了超大的晶體生長表面和晶體活性生長點(diǎn)；由于大量微小晶核的表面積比旋轉(zhuǎn)陰極表面積大很多倍，結(jié)垢離子結(jié)晶析出的幾率大大增加，除垢效率也就增加。
【專利說明】-種電化學(xué)水垢去除裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于水垢去除裝置領(lǐng)域，尤其涉及一種電化學(xué)水垢去除裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 電化學(xué)技術(shù)作為一種清潔的水垢控制技術(shù)，在冷卻循環(huán)水處理方面，已經(jīng)經(jīng)過了 多年的實(shí)際應(yīng)用。電化學(xué)去除水垢有多種優(yōu)勢：環(huán)境友好，不會(huì)帶來環(huán)境污染；不需要處置 和投加化學(xué)品；可W實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化和更便利的工藝控制。而主要困難是大部分水垢沉積在陰 極表面，導(dǎo)致電阻升高和電流效率下降。
[0003] 目前，采用的幾種水垢處理方法包括極性倒置和超聲清洗。如申請(qǐng)?zhí)枮?200620032114. 5的中國專利文獻(xiàn)公開了一種倒極運(yùn)行的電化學(xué)反應(yīng)器，該電化學(xué)反應(yīng)器在 電化學(xué)水處理過程中，陰極水垢會(huì)不斷增厚，其借助倒極使陰極水垢脫落，但是頻繁倒極除 垢，將使電解裝置的陽極喪失催化活性，導(dǎo)致電極產(chǎn)生很高的超電勢，電流效率下降，進(jìn)而 降低除垢能力。又如
【發(fā)明者】章明歅, 章俊杰 申請(qǐng)人:章明歅, 章俊杰