武器保養(yǎng)液的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種包括電解水的武器保養(yǎng)液。本發(fā)明創(chuàng)新性地將電解水用于武器保養(yǎng)液，而且本發(fā)明的電解水的生產(chǎn)方法中可以很方便、快捷地提供pH值可調(diào)的電解水，有效地擦拭武器射擊后槍管和炮膛內(nèi)產(chǎn)生的硫、金屬掛銅及其它污垢；同時(shí)，由于水在隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng)時(shí)，水中的鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子不能穿過(guò)隔膜而與水分離開(kāi)，因此本發(fā)明提供的含電解水的武器保養(yǎng)液在擦拭保養(yǎng)武器后不會(huì)有金屬離子殘留，防銹可達(dá)3個(gè)月以上。
【專(zhuān)利說(shuō)明】武器保養(yǎng)液

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種武器保養(yǎng)液，尤其涉及一種包括電解水的武器保養(yǎng)液以及生產(chǎn)該電解水的裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]槍械在不常動(dòng)用時(shí)，需根據(jù)駐地的氣候條件，每五天、一周或十天進(jìn)行擦拭；在行軍、演習(xí)、訓(xùn)練及值勤后，需要立即進(jìn)行擦拭，尤其在射擊后要及時(shí)進(jìn)行徹底擦拭，并在三、四天內(nèi)要連續(xù)每天對(duì)受火藥氣體熏染過(guò)的零件進(jìn)行擦拭涂油。
[0003]較簡(jiǎn)便的辦法是用肥皂水擦拭，然而肥皂水中含有原水中的鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子，這些金屬離子具有氧化性，長(zhǎng)期殘存在槍械中容易引起銹蝕，且對(duì)于輕、重武器射擊后槍管和炮膛內(nèi)產(chǎn)生的硫、金屬掛銅及其它污垢不能有效清除。而強(qiáng)堿性水用于武器的保養(yǎng)擦拭并沒(méi)有相關(guān)報(bào)道。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明為解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述問(wèn)題提出的。
[0005]本發(fā)明提供了一種可有效擦拭武器射擊后槍管和炮膛內(nèi)產(chǎn)生的硫、金屬掛銅及其它污垢的武器保養(yǎng)液。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0007]本發(fā)明提供一種武器保養(yǎng)液，其包括電解水，所述電解水為堿性水。
[0008]優(yōu)選地，所述電解水包括水分子團(tuán)，所述水分子團(tuán)中至少部分是由3-7個(gè)水分子組成。
[0009]優(yōu)選地，所述電解水的pH值為11-14，更優(yōu)選為11-13.8。
[0010]優(yōu)選地，所述電解水中鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子的總含量小于lOppm。
[0011]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述電解水的生產(chǎn)方法包括:在水中加入能夠使水導(dǎo)電的最小量的電解質(zhì)，然后進(jìn)行水的電解得到。
[0012]優(yōu)選地，所述電解過(guò)程中，電流密度為50-150mA/cm2。
[0013]優(yōu)選地，所述電解質(zhì)選自氯化鈉、氯化鉀，水溶性金屬鹽中的任意一種或幾種。
[0014]在本發(fā)明另一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述電解水的生產(chǎn)方法包括:
[0015]步驟1:將電解槽與電解質(zhì)溶液供給裝置循環(huán)連接；
[0016]步驟2:在所述電解槽的兩個(gè)電極之間分別通入電解質(zhì)溶液和水，兩個(gè)電極之間設(shè)置隔膜將所述電解質(zhì)溶液和水分隔；
[0017]步驟3:將兩個(gè)電極通電，所述水和電解質(zhì)溶液分別電解，并在所述隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng)；
[0018]步驟4:所述水經(jīng)過(guò)離子交換后，成堿性電解水，并排出所述電解槽，通入pH值混合控制器，調(diào)節(jié)PH值后收集、儲(chǔ)存；所述電解質(zhì)溶液經(jīng)過(guò)離子交換后，循環(huán)進(jìn)入電解質(zhì)溶液供給裝置，補(bǔ)充電解質(zhì)以保持電解質(zhì)溶液濃度。
[0019]所述pH值混合控制器設(shè)有pH檢測(cè)感應(yīng)器和稀釋水進(jìn)量控制裝置的自動(dòng)監(jiān)控器，且與供水管道連接，用于稀釋所述電解槽產(chǎn)生的電解水，調(diào)節(jié)所述電解水的PH值。
[0020]優(yōu)選地，上述電解質(zhì)選自氯化鈉、氯化鉀中的任意一種或幾種，本發(fā)明中以氯化鈉為例，對(duì)武器保養(yǎng)液中的電解水的生產(chǎn)裝置進(jìn)行描述，但本發(fā)明不局限于氯化鈉作為電解質(zhì)。氯化鈉又俗稱(chēng)為食鹽，其溶液稱(chēng)為鹽水。
[0021]在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，采用本發(fā)明人在專(zhuān)利號(hào)為200910053147.6的專(zhuān)利申請(qǐng)中記載的電解水生產(chǎn)裝置生產(chǎn)電解水。
[0022]上述方法生產(chǎn)出的電解水用作擦拭武器的保養(yǎng)液，在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，調(diào)節(jié)電解水的pH值為堿性電解水，pH值優(yōu)選為11-14，更優(yōu)選為11-13.8，所述電解水中鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子的總含量小于lOppm。
[0023]本發(fā)明采用上述技術(shù)方案，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下技術(shù)效果:
[0024](I)創(chuàng)新性地將電解水用于武器保養(yǎng)液，而且本發(fā)明的電解水的生產(chǎn)方法中可以很方便、快捷地提供PH值可調(diào)的電解水，有效地擦拭武器射擊后槍管和炮膛內(nèi)產(chǎn)生的硫、金屬掛銅及其它污垢；
[0025](2)由于水在隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng)時(shí)，水中的鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子不能穿過(guò)隔膜而與水分離開(kāi)，因此本發(fā)明提供的含電解水的武器保養(yǎng)液在擦拭保養(yǎng)武器后不會(huì)有金屬離子殘留，防銹可達(dá)3個(gè)月以上。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1是本發(fā)明生產(chǎn)電解水裝置的總體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖2是本發(fā)明生產(chǎn)電解水裝置的電解槽結(jié)構(gòu)分解示意圖；
[0028]圖3是本發(fā)明生產(chǎn)電解水的工作流程示意圖。
[0029]圖中，1-電解槽，2-額定電壓供給裝置，3-鹽水供給裝置，4-供水管，5-限位安裝組件，6-混合控制器，7-流量控制閥A，8-流量控制閥B，9-鹽水導(dǎo)入口，10-槽間互通孔，11-鹽水排出口，12-進(jìn)水口，13-電解水排出口，14-電解水進(jìn)口，15-強(qiáng)電解水排出口，16-槽間互連管，17-鹽水供給管，18-鹽水回流管，19-鹽水箱，20-食鹽箱，21-循環(huán)泵，22-強(qiáng)電解水排出管，23-自動(dòng)監(jiān)控器，24-排氣孔，25-限位凸環(huán)A，26-限位卡肩A，27-限位凸環(huán)B，28-限位卡肩B，29-內(nèi)側(cè)電極，30-隔膜支體，31-外側(cè)電極，32-對(duì)穿孔，33-電極端子。

【具體實(shí)施方式】
[0030]下面通過(guò)具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)和具體的介紹，以使更好的理解本發(fā)明，但是下述實(shí)施例并不限制本發(fā)明范圍。
[0031 ] 本實(shí)施例提供一種武器保養(yǎng)液，其包括電解水和油，所述電解水為堿性水。所述電解水包括水分子團(tuán)，所述水分子團(tuán)中至少部分是由3-7個(gè)水分子組成。所述電解水的pH值優(yōu)選為11-14，更優(yōu)選為11-13.8。其中，所述電解水中鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子的總含量小于 1ppm0
[0032]本實(shí)施例還提供所述電解水的生產(chǎn)方法，該方法包括:
[0033]步驟1:將電解槽與鹽水供給裝置循環(huán)連接；
[0034]步驟2:在所述電解槽的兩個(gè)電極之間分別通入鹽水和水，兩個(gè)電極之間設(shè)置隔膜將所述鹽水和水分隔；
[0035]步驟3:將兩個(gè)電極通電，所述水和鹽水分別電解，并在所述隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng);
[0036]步驟4:所述水經(jīng)過(guò)離子交換后，成堿性電解水，并排出所述電解槽，通入pH值混合控制器，調(diào)節(jié)PH值后收集、儲(chǔ)存；所述鹽水經(jīng)過(guò)離子交換后，循環(huán)進(jìn)入鹽水供給裝置，補(bǔ)充鹽分以保持鹽水濃度。
[0037]為實(shí)現(xiàn)上述電解水的生產(chǎn)方法，本實(shí)施例還提供如圖1和圖2所示的電解水生產(chǎn)裝置，以及圖3所述的工作流程示意圖。該電解水生產(chǎn)裝置的工作原理記載在本發(fā)明人在申請(qǐng)?zhí)枮?00910053147.6的專(zhuān)利申請(qǐng)中。
[0038]在電解過(guò)程中，電流密度為50-150mA/cm2。
[0039]上述方法生產(chǎn)出的電解水用作擦拭武器的保養(yǎng)液，在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，調(diào)節(jié)電解水的pH值為堿性電解水，pH值優(yōu)選為11-14，更優(yōu)選為11-13.8，所述電解水中鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子的總含量小于lOppm。
[0040]本發(fā)明創(chuàng)新性地將電解水用于武器保養(yǎng)液，而且本發(fā)明的電解水的生產(chǎn)方法中可以很方便、快捷地提供PH值可調(diào)的電解水，有效地擦拭武器射擊后槍管和炮膛內(nèi)產(chǎn)生的硫、金屬掛銅及其它污垢。
[0041]另外，由于水在隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng)時(shí)，水中的鈣、鎂、鉀、鈉等金屬離子不能穿過(guò)隔膜而與水分離開(kāi)，因此本發(fā)明提供的含電解水的武器保養(yǎng)液在擦拭保養(yǎng)武器后不會(huì)有金屬離子殘留，防銹可達(dá)3個(gè)月以上。
[0042]以上對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)描述，但其只是作為范例，本發(fā)明并不限制于以上描述的具體實(shí)施例。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，任何對(duì)本發(fā)明進(jìn)行的等同修改和替代也都在本發(fā)明的范疇之中。因此，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下所作的均等變換和修改，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種武器保養(yǎng)液，其特征在于，包括電解水，所述電解水為堿性水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解水包括水分子團(tuán)，所述水分子團(tuán)中至少部分是由3-7個(gè)水分子組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解水的PH值為11-14。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解水中金屬離子的總含量小于1ppm0
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解水的生產(chǎn)方法包括:在水中加入能夠使水導(dǎo)電的最小量的電解質(zhì)，然后進(jìn)行水的電解得到。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解過(guò)程中，電流密度為50-150mA/cm2。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解質(zhì)選自氯化鈉、氯化鉀中的任意一種或幾種。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的武器保養(yǎng)液，其特征在于，所述電解水的生產(chǎn)方法包括: 步驟1:將電解槽與電解質(zhì)溶液供給裝置循環(huán)連接； 步驟2:在所述電解槽的兩個(gè)電極之間分別通入電解質(zhì)溶液和水，兩個(gè)電極之間設(shè)置隔膜將所述電解質(zhì)溶液和水分隔； 步驟3:將兩個(gè)電極通電，所述水和電解質(zhì)溶液分別電解，并在所述隔膜上發(fā)生離子交換反應(yīng)； 步驟4:所述水經(jīng)過(guò)離子交換后，成堿性電解水，并排出所述電解槽，通入pH值混合控制器，調(diào)節(jié)PH值后收集、儲(chǔ)存；所述電解質(zhì)溶液經(jīng)過(guò)離子交換后，循環(huán)進(jìn)入電解質(zhì)溶液供給裝置，補(bǔ)充電解質(zhì)以保持電解質(zhì)溶液濃度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述pH值混合控制器設(shè)有pH檢測(cè)感應(yīng)器和稀釋水進(jìn)量控制裝置的自動(dòng)監(jiān)控器，且與供水管道連接，用于稀釋所述電解槽產(chǎn)生的電解水，調(diào)節(jié)所述電解水的PH值。
【文檔編號(hào)】C02F9/06GK104404555SQ201410632156
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年11月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月11日
【發(fā)明者】楊國(guó)鋒, 劉志東 申請(qǐng)人:水原源環(huán)?？萍冀K有限公司