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一種新型氧化塔的制作方法

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一種新型氧化塔的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種新型氧化塔,通過(guò)上方進(jìn)液、下方進(jìn)氣并在加壓條件下形成氣液逆流式接觸,待處理漿液從氧化塔上部進(jìn)液,由上至下經(jīng)過(guò)催化劑料板,通過(guò)第二通孔處的降液管到達(dá)氣液分布板的下方,與從氧化塔下部通入的氣體相遇,由于第三通孔具有一定阻力,將在所述氣液分布板的下方形成氣室,從而氣室下方液體中的氣泡上升進(jìn)入氣室后,氣泡破碎與氣室內(nèi)的空氣混合,之后經(jīng)過(guò)第三通孔并被分割成新的氣泡,再與氣液分布板上方的液體接觸,根據(jù)氣液傳質(zhì)原理,液體中氣泡的破碎和新氣泡的形成,將加快傳質(zhì)過(guò)程,且大量小氣泡的產(chǎn)生有利于增加氣液接觸面;從而本實(shí)用新型所述氧化塔,有效提升傳質(zhì)速率,增加氣液接觸面,氧化處理效率較高。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種新型氧化塔

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種新型氧化塔,屬于氧化塔的【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著城市化進(jìn)程的加快,城市污水的排放也日益增加,目前,活性污泥法由于成本低、耗能少等優(yōu)點(diǎn),仍然是普遍使用的污水處理方法。然而,上述污水處理方法副產(chǎn)大量污泥。污泥是在污水處理系統(tǒng)的各個(gè)單元中所產(chǎn)生的固液混合物,是污水處理過(guò)程的附屬產(chǎn)物,含水率高,易腐爛,有強(qiáng)烈臭味,并且含有大量病原菌、寄生蟲(chóng)卵以及鎘、鉻、鉛、汞等重金屬和難以降解的有毒有害及致癌物質(zhì)。由此,未經(jīng)適當(dāng)處理的污泥進(jìn)入環(huán)境后,直接給水體、土壤和大氣帶來(lái)二次污染,會(huì)對(duì)我國(guó)的生態(tài)環(huán)境和人們的活動(dòng)構(gòu)成嚴(yán)重的威脅。另一方面,污泥中來(lái)自土壤的有機(jī)質(zhì)不能安全回歸土壤,造成土質(zhì)越來(lái)越貧瘠。
[0003]傳統(tǒng)污水處理方法主要是經(jīng)濃縮、厭氧消化處理后,農(nóng)用、填埋或焚燒。但由于污泥中含有較多的有毒物質(zhì)和重金屬離子,厭氧消化率低,污泥中有機(jī)物的分解率只有25%-45%,農(nóng)用污泥易產(chǎn)生二次污染,從而污泥最終只能以填埋、焚燒為主。填埋占用大量土地,焚燒對(duì)污泥的減量化和穩(wěn)定化雖然效果較好,但存在能量消耗大、二次污染嚴(yán)重等問(wèn)題。
[0004]濕式氧化法是目前對(duì)污泥處理比較有效的方法,具體是指在加溫加壓條件下,采用氣液接觸的方式,在氧化塔內(nèi)利用空氣中的氧氣將污水中的高分子有機(jī)物氧化為co2、n2或氮氧化合物,最終使污泥中的蛋白質(zhì)、脂肪部分分解成小分子,從而有效提高污泥可生化性。然而,在進(jìn)行濕式氧化處理的過(guò)程中,由于氧化塔中氣液接觸面小,傳質(zhì)速率小,導(dǎo)致氣液接觸時(shí)間過(guò)長(zhǎng),最終導(dǎo)致對(duì)污泥進(jìn)行氧化處理的效率低。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是現(xiàn)有技術(shù)中氧化塔中氣液接觸面小,傳質(zhì)速率小,對(duì)污泥進(jìn)行氧化處理的效率低,從而提供一種氣液充分接觸、氧化處理效率高的新型氧化塔。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0007]—種新型氧化塔,在所述氧化塔的上部設(shè)置有進(jìn)液管和出氣管,在下部設(shè)置有進(jìn)氣管,在底端還設(shè)置有出液管;
[0008]所述進(jìn)氣管的出氣端延伸至所述氧化塔內(nèi)部設(shè)置;在所述進(jìn)氣管出氣端的上方設(shè)置有倒圓錐形的布?xì)獍?;所述倒圓錐形的布?xì)獍宓捻斀菫?0° -150°,在所述布?xì)獍迳暇鶆蚍植加胁細(xì)饪祝?br> [0009]還設(shè)置有催化單元,所述催化單元設(shè)置在所述進(jìn)液管和出氣管的下方且位于所述布?xì)獍宓纳戏?,所述催化單元包?
[0010]催化劑料板,所述催化劑料板上均勻分布有第一通孔,在所述催化劑料板的外層表面上具有催化劑物料層;
[0011]氣液分布板,位于所述催化劑料板的下方,所述氣液分布板上均勻分布有第二通孔和第三通孔,所述第二通孔的孔徑大于所述第三通孔的孔徑,在所述第二通孔處向下延伸設(shè)置有降液管。
[0012]與所述進(jìn)液管的出液端連通設(shè)置有布液管,所述布液管水平設(shè)置,所述布液管的管壁上設(shè)有布液孔,所述布液孔的開(kāi)口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60° 夾角。
[0013]所述布液孔沿所述布液管的長(zhǎng)度方向呈一排或多排分布。
[0014]所述布液孔設(shè)置有兩排,所述兩排布液孔位于所述進(jìn)液管的兩側(cè)并呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
[0015]所述布液管的長(zhǎng)徑比為15:1-3:1。
[0016]所述催化單元設(shè)置有多個(gè),所述多個(gè)催化單元沿豎直方向依次排列。
[0017]所述催化劑物料層涂覆在所述催化劑料板的外表面上。
[0018]與所述出液管連接的管道上設(shè)置有排空閥。
[0019]在所述氧化塔的上部設(shè)有液位報(bào)警器。
[0020]本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0021](1)本實(shí)用新型所述的新型氧化塔,通過(guò)上方進(jìn)液、下方進(jìn)氣并在加壓條件下形成氣液逆流式接觸,進(jìn)一步通過(guò)設(shè)置具有第二通孔、降液管和第三通孔的氣液分布板,待處理漿液從氧化塔上部進(jìn)液,由上至下經(jīng)過(guò)催化劑料板,通過(guò)第二通孔處的降液管到達(dá)氣液分布板的下方,與從氧化塔下部通入的氣體相遇,在進(jìn)行氣液接觸的過(guò)程中,由于第三通孔具有一定阻力,將在所述氣液分布板的下方形成氣室,從而氣室下方液體中的氣泡上升進(jìn)入氣室后,氣泡破碎與氣室內(nèi)的空氣混合,之后經(jīng)過(guò)第三通孔并被分割成新的氣泡,再與氣液分布板上方的液體接觸,根據(jù)氣液傳質(zhì)原理,液體中氣泡的破碎和新氣泡的形成,將加快傳質(zhì)過(guò)程,且大量小氣泡的產(chǎn)生有利于增加氣液接觸面;較之現(xiàn)有技術(shù)中氧化塔中氣液接觸面小,傳質(zhì)速率小,對(duì)污泥進(jìn)行氧化處理的效率低,本實(shí)用新型所述氧化塔,有效提升傳質(zhì)速率,增加氣液接觸面,氧化處理效率較高。
[0022](2)本實(shí)用新型所述的新型氧化塔,通過(guò)與所述進(jìn)液管的出液端連通設(shè)置有布液管,所述布液管水平設(shè)置,所述布液管的管壁上設(shè)有布液孔,所述布液孔的開(kāi)口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60°夾角,從而由進(jìn)液管進(jìn)入布液管中的漿液通過(guò)布液孔向側(cè)上方呈30° -60°噴射布灑,在實(shí)現(xiàn)充分布液的基礎(chǔ)山,還能有效避免直接向下噴液對(duì)催化劑物料的沖擊,延長(zhǎng)其使用壽命。.
[0023](3)本實(shí)用新型所述的新型氧化塔,與所述出液管連接的管道上設(shè)置有排空閥,從而所述出液管還兼作排空管使用,排空的同時(shí)可確保將液體排盡。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚的理解,下面結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明,其中,
[0025]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例2所述新型氧化塔的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0026]圖2A和圖2B分別是本實(shí)用新型所述氣液分布板的俯視圖和側(cè)視圖;
[0027]圖3A和圖3B分別是本實(shí)用新型所述布液管的側(cè)視圖和縱向截面圖。
[0028]圖中附圖標(biāo)記表不為:1-進(jìn)液管,11-布液管,12-布液孔,2-出氣管,3-催化劑料板,4-氣液分布板,41-第二通孔,42-第三通孔,43-降液管,5-進(jìn)氣管,51-布?xì)獍?6-出液管,7-排空閥,8-液位報(bào)警器。

【具體實(shí)施方式】
[0029]實(shí)施例1
[0030]本實(shí)施例提供一種新型氧化塔,其由上至下依次設(shè)置進(jìn)液管1、出氣管2、催化單元、進(jìn)氣管5和出液管6。
[0031]所述進(jìn)液管1和出氣管2均設(shè)置于所述氧化塔的頂部;
[0032]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4,作為可以選擇的實(shí)施方式,所述催化單元設(shè)置有一個(gè)或多個(gè),所述多個(gè)催化單元沿豎直方向依次排列。
[0033]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設(shè)有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為10_ ;
[0034]所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42,所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設(shè)置降液管43 ;本實(shí)施例中,所述第二通孔41的孔徑為20mm ;所述第三通孔42的孔徑為0.5mm ;
[0035]所述進(jìn)氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內(nèi)部設(shè)置,在所述進(jìn)氣管5出氣端的上方設(shè)置倒圓錐形的布?xì)獍?1,所述倒圓錐形的布?xì)獍?1的頂角為60°,所述布?xì)獍?1上均勻分布有布?xì)饪?,所述布?xì)饪椎目讖綖?-10mm ;
[0036]所述出液管6設(shè)于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進(jìn)液口位于所述進(jìn)氣管5的出氣端的下方。
[0037]實(shí)施例2
[0038]本實(shí)施例提供一種新型氧化塔,如圖1所示,其由上至下依次設(shè)置進(jìn)液管1、出氣管2、催化劑料板3、氣液分布板4、進(jìn)氣管5和出液管6。
[0039]所述進(jìn)液管1和出氣管2均設(shè)置于所述氧化塔的頂部;其中,與所述進(jìn)液管1的出液端連通設(shè)置有布液管11 ;如圖3A和圖3B所示,所述布液管11的長(zhǎng)徑比為15:1 ;所述布液管11水平設(shè)置,所述布液管11的管壁上設(shè)有布液孔12,所述布液孔12的開(kāi)口向上且所述布液孔12的中心軸線與水平方向呈30°夾角(圖3B中的α角);所述布液孔12沿所述布液管11的長(zhǎng)度方向呈一排或多排分布;本實(shí)施例中,所述布液孔12設(shè)置有兩排,所述兩排布液孔12位于所述進(jìn)液管1的兩側(cè)并呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
[0040]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4,作為可以選擇的實(shí)施方式,所述催化單元設(shè)置有一個(gè)或多個(gè),本實(shí)施例所述催化單元設(shè)置有兩個(gè),所述兩個(gè)催化單元沿豎直方向依次排列。
[0041]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設(shè)有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為25_ ;
[0042]如圖2Α和圖2Β所示,所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42 (圖中未全部顯示),所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設(shè)置降液管43 ;所述降液管43的長(zhǎng)徑比為2:1,所述第二通孔41的孔徑為10mm ;所述第三通孔42的孔徑為1mm ;
[0043]其中,所述催化劑料板3和所述氣液分布板4可分別設(shè)置有多個(gè),所述催化劑料板3和所述氣液分布板4在豎直方向上呈交錯(cuò)設(shè)置。
[0044]所述進(jìn)氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內(nèi)部設(shè)置,在所述進(jìn)氣管5的出氣端設(shè)置倒圓錐形的布?xì)獍?1,所述倒圓錐形的布?xì)獍?1的頂角為150°,所述布?xì)獍?1上均勻分布有布?xì)饪?,所述布?xì)饪椎目讖綖?mm ;
[0045]所述出液管6設(shè)于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進(jìn)液口位于所述進(jìn)氣管5的出氣端的下方;本實(shí)施例中,與所述出液管6連接的管道上設(shè)置有排空閥7 ;從而所述出液管6還兼作排空管使用,排空的同時(shí)可確保將液體排盡。
[0046]作為可以選擇的實(shí)施方式,在所述氧化塔的上部還設(shè)有液位報(bào)警器8,所述液位警報(bào)器位于所述氧化塔的3/4高度處,以防止液面過(guò)高或過(guò)低。
[0047]實(shí)施例3
[0048]本實(shí)施例提供一種新型氧化塔,其由上至下依次設(shè)置進(jìn)液管1、出氣管2、催化劑料板3、氣液分布板4、進(jìn)氣管5和出液管6。
[0049]所述進(jìn)液管1和出氣管2均設(shè)置于所述氧化塔的頂部;其中,與所述進(jìn)液管1的出液端連通設(shè)置有布液管11,所述布液管11的長(zhǎng)徑比為3:1 ;所述布液管11水平設(shè)置,所述布液管11的管壁上設(shè)有布液孔12,所述布液孔12的開(kāi)口向上且所述布液孔12的中心軸線與水平方向呈45°夾角;所述布液孔12沿所述布液管11的長(zhǎng)度方向呈一排或多排分布(見(jiàn)圖3);本實(shí)施例中,所述布液孔12設(shè)置有兩排,所述兩排布液孔12位于所述進(jìn)液管1的兩側(cè)并呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
[0050]所述催化單元包括催化劑料板3和氣液分布板4。
[0051]所述催化劑料板3的外表面上涂覆設(shè)有催化劑物料層,所述催化劑料板3上均勻分布有第一通孔,孔徑為15_ ;
[0052]如圖2所示,所述氣液分布板4上均勻分布有第二通孔41和第三通孔42 (圖2中未全部顯示),所述第二通孔41的孔徑大于所述第三通孔42的孔徑,在所述第二通孔41處向下延伸設(shè)置降液管43,所述降液管43的長(zhǎng)徑比為5:1 ;本實(shí)施例中,所述第二通孔41的孔徑為15mm ;所述第三通孔42的孔徑為2mm ;
[0053]所述進(jìn)氣管5的出氣端延伸至所述氧化塔內(nèi)部設(shè)置,在所述進(jìn)氣管5的出氣端設(shè)置倒圓錐形的布?xì)獍?1,所述倒圓錐形的布?xì)獍?1的頂角為120°,所述布?xì)獍?1上均勻分布有布?xì)饪?,所述布?xì)饪椎目讖綖?0mm;
[0054]所述出液管6設(shè)于所述氧化塔的底部,所述出液管6的進(jìn)液口位于所述進(jìn)氣管5的出氣端的下方;本實(shí)施例中,與所述出液管6連接的管道上設(shè)置有排空閥7 ;從而所述出液管6還兼作排空管使用,排空的同時(shí)可確保將液體排盡。
[0055]顯然,上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明所作的舉例,而并非對(duì)實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之中。
【權(quán)利要求】
1.一種新型氧化塔,在所述氧化塔的上部設(shè)置有進(jìn)液管和出氣管,在下部設(shè)置有進(jìn)氣管,在底端還設(shè)置有出液管; 其特征在于,所述進(jìn)氣管的出氣端延伸至所述氧化塔內(nèi)部設(shè)置;在所述進(jìn)氣管出氣端的上方設(shè)置有倒圓錐形的布?xì)獍?;所述倒圓錐形的布?xì)獍宓捻斀菫?0° -150°,在所述布?xì)獍迳暇鶆蚍植加胁細(xì)饪祝? 還設(shè)置有催化單元,所述催化單元設(shè)置在所述進(jìn)液管和出氣管的下方且位于所述布?xì)獍宓纳戏?,所述催化單元包? 催化劑料板,所述催化劑料板上均勻分布有第一通孔,在所述催化劑料板的外層表面上具有催化劑物料層; 氣液分布板,位于所述催化劑料板的下方,所述氣液分布板上均勻分布有第二通孔和第三通孔,所述第二通孔的孔徑大于所述第三通孔的孔徑,在所述第二通孔處向下延伸設(shè)置有降液管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型氧化塔,其特征在于,與所述進(jìn)液管的出液端連通設(shè)置有布液管,所述布液管水平設(shè)置,所述布液管的管壁上設(shè)有布液孔,所述布液孔的開(kāi)口向上且所述布液孔的中心軸線與水平方向呈30° -60°夾角。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液孔沿所述布液管的長(zhǎng)度方向呈一排或多排分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液孔設(shè)置有兩排,所述兩排布液孔位于所述進(jìn)液管的兩側(cè)并呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述布液管的長(zhǎng)徑比為15:1-3:1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述催化單元設(shè)置有多個(gè),所述多個(gè)催化單元沿豎直方向依次排列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,所述催化劑物料層涂覆在所述催化劑料板的外表面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,與所述出液管連接的管道上設(shè)置有排空閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的新型氧化塔,其特征在于,在所述氧化塔的上部設(shè)有液位報(bào)警器。
【文檔編號(hào)】C02F11/06GK204185356SQ201420615947
【公開(kāi)日】2015年3月4日 申請(qǐng)日期:2014年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月22日
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